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균일 온도를 유지하는 연속 소성로 체임버의 설계
Design of Chamber in Continuous Furnace for Uniform Temperature Distribution 원문보기

한국산학기술학회논문지 = Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society, v.14 no.11, 2013년, pp.5344 - 5351  

이광주 (한국기술교육대학교 기계공학부) ,  최준혁 (한국기술교육대학교 대학원 기계공학과) ,  장한슬 (한국기술교육대학교 대학원 기계공학과)

초록
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적층 세라믹 반도체의 제조 공정에서 사용되는 연속 소성로의 체임버를 설계하였다. 소성과정에서 발생하는 이물질의 효과적인 배출을 위하여 사용되는 질소 기체의 흡배기구, 소성되는 재료의 아래와 위에 위치한 열선 등이 각각의 체임버에 들어가게 된다. 본 연구에서는, 흡배기구의 개수, 체임버 바닥과 아래 열선 사이의 간격 ($h_1$), 아래 열선과 소성 재료 사이의 간격 ($h_2$), 소성 재료와 위 열선과의 간격 ($h_3$), 열선의 온도, 열선의 개수 및 간격 등을 설계변수로 사용하였다. 체임버 내부에서 질소 기체가 난류가 아닌 층류를 가장 잘 형성하는 방향으로 흡배기구의 개수를 결정하였다. 재료의 이송 위치에서 온도를 섭씨 1,300도로 가장 균일하게 유지할 수 있는 방향으로 나머지 설계변수들 ($h_1$, $h_2$, $h_3$, 열선의 온도, 열선의 개수 및 간격 등)의 값을 결정하였다. 설계된 체임버를 제작하여 열전대를 사용하여 온도를 측정하여 보았다. 측정된 온도는 섭씨 1,300도에서 섭씨 ${\pm}2.2$ 도의 범위 내에서 온도를 균일하게 유지함을 확인하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Chambers in a continuous furnace were designed. A chamber consists of inlets and outlets of nitrogen gas which is used to discharge burned gas and heating pipes (HP) which are used to keep temperature of fired materials at $1,300^{\circ}C$. Design variables were numbers of inlets and outl...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • LHP와 UHP가 동일한 온도 (THP)와 간격 (dHP)을 가질 때, THP와 HP 사이 간격의 최적값을 결정하려고 한다. 재료이송 위치에서 온도가 섭씨 1,300도에 가장 가깝고 최대 및 최저 온도와의 차이가 최소가 되도록 THP와 dHP의 최적값을 결정하였다.
  • 본 연구에서는 재료의 이송 위치에서 목표 온도 (섭씨 1,300도)를 균일하게 유지하는 RHK 소성로의 체임버를 설계하려고 한다. 체임버의 설계에서 고려된 설계 변수는, 흡기구와 배기구의 개수, Heating Pipes의 개수, 체임버의 치수 및 Heating Pipes 사이의 간격 등이다.
  • 본 연구에서는 전산유체해석을 이용하여 소성공정에서 발생하는 이물질을 잘 배출하고 재료이송 위치에서 온도를 균일하게 유지할 수 있는 소성로 체임버의 설계를 하였다. 설계변수로는 흡기구와 배기구의 개수, 열원의 개수와 체임버의 높이, 열원의 온도와 열원 사이의 간격 등을 고려하였다.

가설 설정

  • 계산 과정에서 재료이송 높이에서 온도가 섭씨 1,300도에 가깝도록 Heating Pipes의 온도를 조정하였다. LHP와 UHP는 동일한 온도를 갖는 것으로 가정하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
본 논문에서 소성로 체임버의 설계변수로는 무엇을 고려하였는가? 본 연구에서는 전산유체해석을 이용하여 소성공정에서 발생하는 이물질을 잘 배출하고 재료이송 위치에서 온도를 균일하게 유지할 수 있는 소성로 체임버의 설계를 하였다. 설계변수로는 흡기구와 배기구의 개수, 열원의 개수와 체임버의 높이, 열원의 온도와 열원 사이의 간격 등을 고려하였다.
적층 세라믹 반도체는 연속 소성로에서 어떤 공정을 거치는가? IT 산업의 급속한 발전에 따라 세라믹 칩의 활용 분야가 확대되고 있다. 적층 세라믹 반도체 (MLCC,Multi-Layer Ceramic Capacitors)는 연속 소성로에서 탈바인더, 소성 및 냉각 공정을 거치게 된다[1].
RHK 소성로에서는 소성이 어떻게 이루어지는가? 2]. 소성하려는 재료를 좌측에서 넣어주면 가열 (Preheating), 소성(Firing) 및 냉각 (Cooling) 구간을 통과하여 연속적으로 소성이 이루어지게 된다. 이를 위해 모든 체임버는 그 전후의 다른 체임버와 칸막이 등으로 구분되어 있지 않다.
질의응답 정보가 도움이 되었나요?

참고문헌 (7)

  1. Jung-Rag Yoon, "Technology and Market Trend of the Multilayer Chip Capacitor," Electronic Part EP & C, pp.58-65, 2006 

  2. Giho Jeong, Changhwan Park and Jeonghoon Park, "The Numerical Analysis of Radiative Heat Transfer in the High-Temperature Kiln", Proceedings of KSME 2006 Autumn Annual Meeting, The Korean Society of Mechanical Engineers, pp.1978-1982, 2006 

  3. Min-Young Hwang, Jong-Woo Lee, Yong-Gyun Kim, Sang-hun Jeon, Youn-Han Chang and Chung-Hwan Jeon, "A Study of Furnace Modeling and Heat Analysis," Proceedings of KSME 2008 Spring Annual Meeting, The Korean Society of Mechanical Engineers, pp.366-370, 2008 

  4. E.K. Lee and C.W. Kim, "Thermo-Mechanical Analysis of MLCC for Residual Stress," Proceedings of KSPE Spring Conference, Korean Society for Precision Engineering, pp.197-198, 2009 

  5. D.S. Yoon, Y-S. Lee, Y. Lee, H.J. Cho, S.W. Sung, K.W. Oh, J. Cha and G. Lim, "Precise Temperature Control and Rapid Thermal Cycling in a Micromachined DNA Polymerase Chain Reaction Chip," Journal of Micromechanics and Microengineering, Vol. 12, pp.813-823, 2002 DOI: http://dx.doi.org/10.1088/0960-1317/12/6/312 

  6. Kwangju Lee, Kyung-Seok Jeong and Sung Mun Park, "Improvement of the Uniformity of Temperature Distribution inside Semiconductor Test Equipment Chamber," Journal of the Korea Academia-Industrial Cooperation Society, Vol.11, No.10, pp.3626-3632, 2010 DOI: http://dx.doi.org/10.5762/KAIS.2010.11.10.3626 

  7. ANSYS v12.0, Fluent, ICEM CFD, CFX-Post User's Manual 

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