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6 MeV 전자선 치료 시 차폐물질로서 알루미늄, 구리, 납
Aluminum, Copper and Lead as Shielding Materials in 6 MeV Electron Therapy 원문보기

한국콘텐츠학회논문지 = The Journal of the Korea Contents Association, v.14 no.2, 2014년, pp.457 - 466  

이승훈 (전북대학교 병원 방사선 종양학과) ,  차석용 (전북대학교 병원 방사선 종양학과) ,  이선영 (전북대학교 의학전문대학원 방사선종양학 교실)

초록
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고 에너지 전자선 치료에 있어서 차폐물질은 종양조직 외 정상조직이나 주요장기를 보호하기 위해 사용된다. 하지만 이러한 물질에서 발생되어지는 산란선은 심부선량에 영향을 줄 수 있으며, 물질원자번호에 따라 다르게 나타난다. 이에 차폐물질로써 사용가능한 알루미늄, 구리, 납 등의 다양한 원자번호 물질을 전하 감약율 95% 되는 두께로 하여 측정과 MCNPX 모의계산으로 산란율을 비교분석하였다. 산란선 영향을 많이 받는 표면의 선량변화율은 최대 물질두께에서 +0.88%, 원자번호에서 +0.43%의 영향을 받으며, 전하 감약율 95% 되는 두께의 알루미늄, 구리, 납 물질은 측정에서 +19.70%, +15.20%, +12.40% 계산에서 +25.00%, +15.10%, +13.70%를 보였다. 이로 인해 산란율은 물질두께가 원자번호보다 많은 영향을 주며, 산란전자가 광자보다 많은 기여를 하고 있음을 알 수 있었다. 이에 임상에서의 적절한 차폐물질은 두께영향 산란선이 적게 방출되는 고 원자번호물질이 적당하다고 사료된다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

During irradiation of lesions in cancer treatment with high energy electrons, normal tissue and critical organs are protected by the shielding material. Scattered radiation that generated the shielding materials affect the depth dose and atomic number. Therefore, we want to examine secondary particl...

주제어

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문제 정의

  • 본 연구는 6 MeV 에너지에서 표면 위에 직접 차폐물을 놓았을 경우 알루미늄(Z=13), 구리(Z=29), 그리고 납(Z=82) 등의 다양한 원자번호 물질에 대한 차폐면과 조사면의 산란정도를 비교 분석하여 임상에서의 물질별 유용성 정도를 알아보고자 하였다. 이에 따른 연구결과로 조사면의 심부선량 증가율을 보면 동일 두께에서는 원자번호 증가에 따른 산란전자의 수는 증가하였으나, 전하 감약률 95% 두께에서는 저 원자번호 물질에서보다 많은 산란전자가 발생 되었다.
  • 본 연구는 원자번호가 다른 물질에 대한 산란 정도를 알아보고자 각각의 차폐물질을 동일한 두께로 실험하였다. 이는 산란 전자 및 광자가 표적 물질의 원자번호 뿐만이 아닌 두께에도 영향을 받을 수 있기 때문이었다[4].
  • 본 연구는 차폐물질 원자번호와 산란전자 발생률의 연관성과 심부선량 변화율에 미치는 영향을 알아보고 물질별 유용성을 비교 분석하고자 하였다. Prasad SG 등[6]의 연구에 의하면 각각의 물질들은 그 고유의 성질 때문에 다양한 선량변화율을 보이고 있음을 발표했다.
  • 그 결과 산란전자 및 광자는 조사된 물질 원자번호 및 두께에 비례하여 발생된다고 보고된 바 있다. 이러한 연구는 치료부위 주변 정상조직 및 장기 보호에 초점을 둔 것으로 차폐 부위에 대한 차폐물 산란선의 영향을 연구하였다. 또한 기존의 연구는 저 원자번호 물질의 두께에 대한 환자의 불쾌감과 고 원자번호 물질의 독성으로 뚜렷한 평가를 보여주지는 않았다.
  • 이에 본 연구는 6 MeV 에너지 안에서 전자선 차폐물질로 이용 가능한 저 원자번호 물질인 알루미늄(Z=13), 중간 물질인 구리(Z=29), 그리고 고 원자번호 물질인 납(Z=82)등[6]의 다양한 원자번호에 대한 전자 및 광자의 산란정도를 측정과 계산으로 비교 분석하여, 임상에서의 물질별 유용성 정도를 알아보고자 하였다.
  • Gafchromic EBT2 필름은 1 ∼ 800 cGy 이하의 낮은 선량범위에서 사용 가능하여 기존의 Radiochromic 필름 보다 감도가 높고 에너지 의존성이 적어 광자 또는 고 에너지 전자선의 선량측정에 이용됐다[13][14]. 이에 산란전자에 의한 미세한 심부선량 증가율을 알아보기에 적합하므로 본 연구에서 선택하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
고 에너지 전자선 치료에서 차폐물질을 사용하는 목적은 무엇인가? 고 에너지 전자선 치료에 있어서 차폐물질은 종양조직 외 정상조직이나 주요장기를 보호하기 위해 사용된다. 하지만 이러한 물질에서 발생되어지는 산란선은 심부선량에 영향을 줄 수 있으며, 물질원자번호에 따라 다르게 나타난다.
고 에너지 전자선은 의료 분야 중 어디에 사용되는가? 고 에너지 전자선의 특징은 표적-표면 간 거리 100cm인 경우 최대비정이 6 MeV에서 4 cm, 20 MeV에서 10 cm로 일정 깊이 통과 후 급격한 선량 감소를 보인다. 이에 피부 및 구순암, 유방암의 흉벽조사, 임파절에 대한 부가선량조사, 그리고 두경부 종양 등 5 cm 깊이 이내의 표재성 종양을 치료하는데 사용된다[3].
Gafchromic EBT2 필름의 단점은 무엇인가? Gafchromic EBT2 필름의 최소 선량 측정 범위는 0.01 cGy로써 그 이하의 선량율 및 발생입자 분포율을 측정할 수 없는 단점이 있다. 하지만 몬테칼로 계산은 물질에서 발생되어지는 사건을 수학적으로 풀어나감으로 범위 제한이 없으며, 입자 형태의 분리 계산이 가능 하여 측정으로 어려운 부분을 해결할 수 있어 방사선량 측정에 사용된다[20][21].
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참고문헌 (35)

  1. R. J. Berry, "Therapeutic uses of X-rays," Int J Radiat Biol, Vol.15, pp.873-895, 1985. 

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  3. G. H. Fletcher, introduction. IN: Tapley N ed. Clinical applications of the electron beam, John Wiley & Sons, 1976. 

  4. F. M. Khan, The physics of radiation therapy, 4th ed, Lippincott Williams & Wilkins, pp.241-314, 2010. 

  5. S. C. Roy and G. A. Sandison, "Shielding for neutron scattered dose to the fetus in patients treated with 18 MV x-ray beam," Med Phys, Vol.27, pp.1800-1803, 2000. 

  6. S. G. Prasad, K. Parthasaradhi, W. D. Bloomer, W. H. Al-Najjar, J. McMahon, and O. Thomson, "Aluminum, copper, tin and lead as shielding materials in the treatment of cancer with high energy electrons," Radi Phy Chemi, Vol.53, pp.361-366, 1998. 

  7. Xing and Aitang, "Dosimetric investigation of electron arc therapy delivered using siemens electron arc applicator with a trapezoidal aperture," University of Canterbury, pp.4-5, 2007. 

  8. W. Pohlit and K. H. Manegold, "Electron beam dose distribution in inhomogeneous media". In: S. Kramer, N. Suntharalingam, G. F. Zinninger, eds. High energy photons and electrons, John Wiley & Sons, p.243, 1976. 

  9. T. E. Everhart, "Simple theory concerning the reflection of electrons from solids," J. Appl Phys, Vol.31, No.8, pp1483-1490, 1960. 

  10. S. C. Klevenhagen, G. D. Lamdert, and A. Arbabi, "Backscattering in electron beam therapy for energies between 3 and 35MeV," Phys Med Biol, Vol.27, No.3, pp.363-373, 1982. 

  11. 이병용, 이상훈, 조병철, 김종훈, 최은경, 권수일, 장혜숙, "전리함 반응 함수의 직접 측정과 이를 이용한 방사선의 실제선량 분포측정", 대한방사선종양학회지, 제15권, 제1호, pp.65-69, 1997. 

  12. R. A. Niroomand, C. R. Blackwell, B. M. Coursey, K. P. Gall, J. M. Galvin, W. L. McLaughlin, A. S. Meigooni, R. Nath, J. E. Rodgers, and C. G. Soares, "Radiochromic film dosimetry; Recommendations of AAPM Radiation Therapy Committee Task Group 55. American Association of Physicists in Medicine," Med Phys, Vol.25, No.11, pp.2093-2115, 1998. 

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  15. A. Sankar, K. M. Ayyangar, R. M. Nehru, P. G. Kurup, V. Murali, C. A. Enke, and J. Velmurugan, "Comparison of Kodak EDR2 and Gafchromic EBT film for intensity-modulated radiation therapy dose distribution verification," Med Dosi, Vol.31, No.4, pp.273-282, 2006. 

  16. J. E. Barouky, N. Fournier-Bidoz, A. Mazal, G. Fares, and J. C. Rosenwald, "Practical use of Gafchromic EBT film in electron beam for in-phantom dose distribution measurements and monitor units verification," Phys Med, Vol.27, No.2, pp.81-88, 2011. 

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  25. 이정옥, 정동혁, "MCNPX를 이용한 선형가속기의 6 MeV 전자선에 대한 에너지 분포계산", 의학물리, 제17권, 제4호, pp.224-231, 2006. 

  26. A. Zanini, E. Durisi, F. Fasolo, C. Ongaro, L. Visca, U. Nastasi, K. W. Burn, G. Scielzo, J. O. Adler, J. R. M. Annand, and G. Rosner, "Monte Carlo simulation of the photoneutron field in linac radiotherapy treatments with different collimation systems," Phys Med Biol, Vol.49, No.4, pp.571-582, 2004. 

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  30. T. E. Everhart, "Simple theory concerning the reflection of electrons from solids," J. Appl Phys, Vol.31, No.8, pp.1483-1490, 1960. 

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  32. Y. S. Tsai and V. Whitis, "Thick Target Bremsstrahlung And Target Consideration For Secondary Particle Production By Electrons," Phys Rev, Vol.149, pp.1248-1257, 1966. 

  33. M. A. Hunt, G .J .Kutcher, and A. Buffa, "Electron backscatter corrections for parallel-plate chambers," Med Phys, Vol.15, No.1, pp.96-103, 1988. 

  34. A. Shih, J. Yater, C. Hor, and R. Abrams, "Secondary electron emission studies," Appl Surf Sci, Vol.111, pp.251-258, 1997. 

  35. S. Sathiyan, M. Ravikumar, and S. S. Supe, "Measurement of backscattered dose at metallic interfaces using high energy electron beams," Rep Pract Oncol Radiother, Vol.11, pp.117-121, 2006. 

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