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[국내논문] 나노 광 디바이스를 위한 나노 임프린트 기술 원문보기

전기전자재료 = Bulletin of the Korean institute of electrical and electronic material engineers, v.27 no.1, 2014년, pp.46 - 61  

조경재 (포미(주))

초록이 없습니다.

질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
나노 임프린트란 무엇인가? 나노 임프린트는 초미세 가공인 나노 가공 (1~100 nm)을 실현하기 위해 제안된 기술로 기판위에 열가소성 수지나 광경화성 수지를 도포한 다음 전자빔을 이용, 나노 크기의 몰드로 압력을 가해 경화시켜 패턴을 전사하는 기술을 말한다. 나노 임프린트 기술을 활용하면 현재 반도체 공정에서 사용하는 사진현상 방식의 미세화 한계점을 극복하고 도장 찍듯 간단하게 나노 구조물을 제작하게 된다.
기존 리소그래피의 문제점은? 나노 임프린트 기법은 1995년 미국 Princeton대학 Chou 박사에 의해서 처음으로 소개되었으며 현재 나노 임프린트 기법은 100 nm 이하의 선폭을 구현하는 새로운 기법으로 자리매김을 하고 있다. 기존의 리소그래피는 빛의 파장 한계 그리고, 마스크 재질, 높은 에너지의 광 소스가 필요로 하는 문제점이 있지만, 나노 임프린트 기법은 공정이 쉽고 간단하고 장비 자체가 현재 반도체 공정에서 쓰이고 있는 광리소 그래픽 장비 (Deep UV, EUV, X-ray)보다 훨씬 싸다는 장점이 있다. 임프린트 리소그래픽은 2003년 ITRS (International Technology Road map for Semiconductors)에 반도체 소자용 미세패턴 제작이 가능한 차세대 리소그래픽 기술로 처음 등재됨으로써 차세대 패터닝 기술의 하나로 자리매김하였으며, 32 nm 이하의 선폭을 실현하는 새로운 리소그래픽 장치로 선정되었으며 그림 1은 이러한 이유로 인하여 미국, 유럽, 일본, 한국, 대만 등을 중심으로 상용화 기술을 개발하기 위하여 연구 및 개발이 활발하게 진행되고 있다.
Soft Lithography 방법 중 하나인 Micro contact Printing은 무엇인가? Micro contact Printing (μCP)법은 스탬프 타입의 패터닝 기술이 있는데, 패턴을 전사할 때 자기조직화 Process 용으로 쓰이는 간편한 방법으로, 하버드대학교의 Whiteside Group이 제안한 방법이다. Micro contact Printing (μCP)은, Master 기판 위에 Photo resistor로 미세가공하여 패턴을 만든 주형을 만들고, 그 위에 고분자 (PDMS)의 스탬프를 얻는다. Hard stamp (Si or Quartz)를 사용하는 UV/Thermal Imprint와는 달리 PDMS soft elastomeric stamp를 사용하여 레지스트 위에 잉크를 마이크로 및 나노 스케일로 패터닝 하고 형성된 단분자막을 이용하여 나오 구조물을 제작하는 방식이다. 다음 그림 2는 Micro contact Printing 공정 순서도를 보여주고 있다.
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