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[국내논문] 아르곤 플라즈마를 이용하여 유리기판에 증착된 PTFE 박막의 초친수 특성 연구
Hydrophobic Properties of PTFE Film Deposited on Glass Surface Etched by Ar-plasma 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.27 no.8, 2014년, pp.516 - 521  

이병로 (경희대학교 물리학과) ,  배강 (대구가톨릭대학교 전자디스플레이공학과) ,  김화민 (대구가톨릭대학교 전자디스플레이공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

An excellent hydrophobic surface has a high contact angle over 147 degree and the contact angle hysteresis below $5^0$ was produced by using roughness combined with hydrophobic PTFE coatings, which were also confirmed to exhibit an extreme adhesion to glass substrate. To form the rough su...

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문제 정의

  • 본 연구에서는 Ar 플라즈마에 의한 기판 표면 에칭 공정을 채택하여 표면에 미세구조를 형성하여 그 위에 고주파 마그네트론 스퍼터링 방법을 사용하여 낮은 표면에너지를 갖는 PTFE 박막을 증착하여 플라즈마 전처리에 의한 유리표면의 거칠기를 수학적 관계식이 Wensel의 모델과의 관계를 구조적으로 분석하고자 한다.
  • 이를 극복하기 위해 본 연구에서는 PTFE를 코팅하기 전에 유리표면을 플라즈마 처리하여 PTFE박막의 부착력 향상을 꾀하였다. Ar 플라즈마에 의해 표면 처리된 유리기판은 3차원 구형의 작은 돌기가 형성되었으며 이러한 돌기들의 밀도는 플라즈마 발생전력이 증가함에 따라 증가하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
PTFE의 장점은 무엇인가? 현재, 스퍼터링이나 전자-선 증착과 같은 물리적 증착법 또는 화학기상 증착법에 의해 제작된 테프론 (polytetrafluoroethylene, PTFE) 박막이 발수 특성을 갖는 것으로 알려져 있다 [6-9]. 또한, PTFE는 탄소와 불소로 구성되어, 기계적 강도와 열적 또는 화학적 안정성이 클 뿐만 아니라, 낮은 유전상수를 갖는 우수한 절연성을 갖고 있기 때문에 방오, 발수, 내구성, 내부식성 코팅, 그리고 전기 절연막과 같은 다양한 분야에서 활발하게 연구되고 있다 [10-15].
청초함이 유래되는 이유는? 수 세기 동안 동양의 종교들은 연꽃잎의 청초함을 깨달아 왔다. 청초함이란 물방울이 거의 접촉저항 없이 굴러갈 때 먼지 입자를 머금고 있는 수분을 수집하여 거의 구형의 공과 같은 물방울을 형성하는 초발수성에 의해 유래된다. 1997년 생물학자 Barthlott와 Neinhuis [1]은 연꽃잎의 작고, 밀납 형태의 융기들이 초발수 효과를 생성하는 것을 보여 주었다.
히스테리시스 값을 구하기 위해 전진각과 후진각을 측정하는 방법은? 그림 5는 접촉각 측정 장비를 사용하여 기판에 니들을 가까이 위치시키고 물의 양을 일정 속도로 늘려가면서 전진각 (advance angle)을 측정하고 반대로 물의 양을 일정 속도로 감소시켜 가면서 후진각(receding angle)을 측정하였다. 측정된 값인 전진각과 후진각의 차이 값인 히스테리시스 (hysteresis)값, 총 세 가지 값을 그래프로 나타내었다.
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참고문헌 (17)

  1. L. Jiang, R. Wang, B. Yang T. J. Li, D. A. Tryk, A. Fujishima, K. Hashimoto, and D. B. Zhu, Pure Appl. Chem., 72, 73 (2000). 

  2. R. Wang K. Hashimoto, A. Fujishima, M. Chikuni, E. Kojima, A. Kitamura, M Shimohigoshi, and T. Watanabe, Nature, 388, 434 (1977). 

  3. A Fujishima, K. Hashimoto, and T. Watanabe, $TiO_{2}$ Photo Catalyst, Fundamental and Applications BMC, (Tokyo, 1999) 

  4. A. Nakajima, A. Fujishima, K. Hashimoto, and T. Watanabe, Adv. Mater., 11, 1365 (1977). 

  5. P. Smith and P. J. Lemstra, J. Mater. Sci., 15, 505 (1980). 

  6. L. Jiang, R. Wang, B. Yang T. J. Li, D. A. Tryk, A. Fujishima, K. Hashimoto, and D. B. Zhu, Pure Appl. Chem., 72, 73 (2000). 

  7. R. Wang K. Hashimoto, A. Fujishima, M. Chikuni, E. Kojima, A. Kitamura, M Shimohigoshi, and T. Watanabe, Nature, 388, 434 (1977). 

  8. P. Machetta, M. Lazzarino, S. Carrato, C. Schmidt, and G. Canil, Mater. Sci. Semicond Process, 5, 285 (2003). 

  9. P. J. Rae and E. N. Brown, Polymer, 45, 8128 (2005). 

  10. L. Ylianttilaand and J. Schreder, Opt. Mater., 27, 1811 (2005). 

  11. Y. W. Yang, C. W. Chen, Y. Z. Wu, and Y. C. Chen, Elec. Sci. Stat. Lett., 8, 1 (2005). 

  12. C. J. Rong and T. Wakida, J. Appl. Polym. Sci., 63, 1733 (1997). 

  13. Y. Okuda, F. Hayashi, H. Sakurai, and M. Shiotani, J. Appl. Polym. Sci., 94, 923 (2004). 

  14. J. W. Son, H. O. Yoon, K. Bae, S. Y. Sohn, and H. M. Kim, J. KIEEME, 23, 1 (2010). 

  15. J. P. Badey, E. Espuche, D. Sage, B. Chabert, Y. Jugnet, C. Batier, and T. M. Duc, Polymer, 37, 1377 (1996). 

  16. D. S. Bodas, A. B. Mandale, and S. A. Gangal, Appl. Surf. Sci., 245, 202 (2005). 

  17. C. Z. Liu, J. Q. Wu, L. Q. Ren, J. Tong, J. Q. Li, N. Cui, N. M. D. Brown, and B. J. Meenan, Mater. Chem. Phys., 85, 340 (2004). 

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