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촉매 화학기상증착 공정에서 온도구배 설정을 통한 타이타늄 기판에서의 CNT 성장 거동
CNT Growth Behavior on Ti Substrate by Catalytic CVD Process with Temperature Gradient in Tube Furnace 원문보기

한국분말야금학회지 = Journal of Korean Powder Metallurgy Institute, v.21 no.5, 2014년, pp.371 - 376  

박주혁 (한양대학교 신소재공학과) ,  변종민 (한양대학교 신소재공학과) ,  김형수 (한양대학교 신소재공학과) ,  석명진 (강원대학교) ,  오승탁 (서울과학 기술대학교) ,  김영도 (한양대학교 신소재공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this study, modified catalytic chemical vapor deposition (CCVD) method was applied to control the CNTs (carbon nanotubes) growth. Since titanium (Ti) substrate and iron (Fe) catalysts react one another and form a new phase ($Fe_2TiO_5$) above $700^{\circ}C$, the decrease of ...

주제어

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문제 정의

  • 따라서 본 연구에서는 Fe 촉매를 이용한 고수율의 CNT 성장을 위한 기초연구로 Ti 기판 위에서 Fe 촉매의 온도 별상 변화 등을 확인하였으며, 이러한 결과를 바탕으로 관상로 내부에 온도구배가 존재하는 개선된 촉매 화학기상증착법을 고안 및 도입하여 CNT를 성장시키고자 하였다.
  • 본 연구에서는 Ti 기판과 Fe 촉매의 반응을 제어함으로써 높은 밀도의 CNT를 얻고자 반응로에 온도구배를 둬서 개선된 촉매 화학기상증착 공정을 사용하여 CNT를 성장시켜보았다. 700℃ 이상에서 Ti와 Fe가 반응하여 새로운 상인 Fe2TiO5를 형성하는 것을 XRD 분석을 통하여 확인하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
촉매 화학기상증착법에 사용되는 세라믹 기판의 특징은? 이러한 촉매 화학기상증착법의 경우 Fe, Co, Ni과 같은 전이금속(transition metal)과 이들의 산화물이 가장 효과적인 촉매로 알려져 있는데[6], 이는 탄화수소 가스 분해, 탄소 확산 그리고 graphite 형성과 같이 CNT의 성장 촉진에 관여하는 촉매 활성능이 우수하기 때문이다[7, 8]. 또한 CNT 성장을 위한 기판으로는 고온에서 안정하고 촉매와의 반응성이 낮은 SiO2, Al2O3, Zeolites와 같은 세라믹 기판이 주로 사용되는 것으로 보고되고 있다[9].
CNT는 누가 발견하였는가? CNT(Carbon nanotube)는 1991년 일본 NEC 기초연구소의 Iijima에 의해 처음 발견된 이래로[1] 독특한 구조적,광학적, 기계적, 전기적 특성으로 인해 지난 20년간 연구의 대상으로서 집중적인 관심을 받아 왔으며, 관련 연구 또한 기하급수적으로 증가해 왔다[2]. 현재까지 CNT를 생산하는 주된 방법은 레이저 증착법(Laser ablation)과 전기방전법(Arc discharge), 촉매 화학기상증착법(Catalytic chemical vapor deposition) 등이 있으며[3], 이 중에서도 촉매 화학기상증착법은 생산 비용이 저렴하고, 고순도의 CNT를 대량생산할 수 있기 때문에 주로 반도체 산업에서 적용되어 다른 방법에 비해 빠른 속도로 발전하였다[4, 5].
CNT 생산 방법은? CNT(Carbon nanotube)는 1991년 일본 NEC 기초연구소의 Iijima에 의해 처음 발견된 이래로[1] 독특한 구조적,광학적, 기계적, 전기적 특성으로 인해 지난 20년간 연구의 대상으로서 집중적인 관심을 받아 왔으며, 관련 연구 또한 기하급수적으로 증가해 왔다[2]. 현재까지 CNT를 생산하는 주된 방법은 레이저 증착법(Laser ablation)과 전기방전법(Arc discharge), 촉매 화학기상증착법(Catalytic chemical vapor deposition) 등이 있으며[3], 이 중에서도 촉매 화학기상증착법은 생산 비용이 저렴하고, 고순도의 CNT를 대량생산할 수 있기 때문에 주로 반도체 산업에서 적용되어 다른 방법에 비해 빠른 속도로 발전하였다[4, 5].
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참고문헌 (18)

  1. A. C. Dupuis: Prog. Mater. Sci., 50 (2005) 929. 

  2. M. S. Dresselhaus, G. Dresselhaus, J. C. Charlier and E. Hernandez: Phyl. Trans. R. Soc. Land. A, 362 (2004) 2065. 

  3. M. Paradise and T. Goswami: Mater. Design, 28 (2007) 1477. 

  4. A. Magrez, J. W. Seo, R. Smajda, M. Mioni and L. Forro: Materials, 3, (2010) 4871. 

  5. J. W. Ward, B. Q. Wei and P. M. Ajayan: Chem. Phys. Lett., 376 (2003) 717. 

  6. A. Szabo, C. Perri, A. Csato, G. Giordano, D. Vuono and J. B. Nagy: Materials, 3, (2010) 3092. 

  7. A. N. Andriotti, M. Menou and G. Frandakis: Phys. Rev. Lett., 85 (2000) 3193. 

  8. S. H. S. Zein, A. R. Mohamed and P. S. T. Sai: Ind. Eng. Chem. Res., 43 (2004) 4864. 

  9. H. C. Lee, P. S. Alegaonkar, D. Y. Kim, J. H. Lee, T. Y. Lee, S. Y. Jeon and J. B. Yoo: Thin Solid Films, 616 (2008) 3646. 

  10. H. C. Zeng: Curr. Opin. Chem. Eng., 1 (2011) 11. 

  11. F. Doustan, A. A. Hosseini and M. A. Pasha: J. Nanostructures, 3 (2013) 333. 

  12. T. Arcos, M. Garnier, J. W. Seo, P. Oelhafen, V. Thommen and D. Mathys: J. Phys. Chem. B, 108 (2004) 7728. 

  13. B. Samira, K. B. Chandrappa and B. A. H. Sharifah: Res. J. Chem. Sci., 3 (2013) 62. 

  14. R. Vasquez and A. Molina: Miner. Eng., 39 (2012) 99. 

  15. J. T. Han, J. H. Woo, H. S. Kim and J. G. Jee: Bull. Kor. Chem. Soc., 24 (2003) 1771. 

  16. Y. Zhang, C. X. Harris, P. Wallenmeyer, J. Murowchick and X. Chen: J. Phys. Chem. C, 117 (2013) 24015. 

  17. F. Doustan, A. A. Hosseini and M. A. Pasha: J. Nanostructures, 3 (2013) 333. 

  18. R. Baker and R. Waite: J. Catalysis, 37 (1975) 101. 

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