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CVD 다이아몬드가 코팅된 알루미늄 방열판의 방열 특성
Heat Spreading Properties of CVD Diamond Coated Al Heat Sink 원문보기

한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.48 no.6, 2015년, pp.297 - 302  

윤민영 (한국산업기술대학교 신소재공학과) ,  임종환 (한국산업기술대학교 신소재공학과) ,  강찬형 (한국산업기술대학교 신소재공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Nanocrystalline diamond(NCD) coated aluminium plates were prepared and applied as heat sinks for LED modules. NCD films were deposited on 1 mm thick Al plates for times of 2 - 10 h in a microwave plasma chemical vapor deposition reactor. Deposition parameters were the microwave power of 1.2 kW, the ...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 LED 모듈의 방열판 재료로 사용되고 있는 알루미늄 판재 위에 마이크로웨이브 플라즈마 화학증착법(Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition; MPCVD)으로 NCD 박막을 증착하여 방열 특성을 평가하였다. 통상적으로 알루미늄 기판 위에서는 다이아몬드 입자의 핵생성이 어려워 다이아몬드 박막 코팅이 불가능한 것으로 알려져 있다6,7).

가설 설정

  • LED에 공급되는 전력(PD)이 모두 열로 소모된다고 가정하면 열저항은 Rth = ΔT/PD로 나타낼 수 있다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
천연 단결정 다이아몬드가 방열용 기판으로 사용될것이라 기대 된 이유는? 천연 단결정 다이아몬드는 재료 중에서 가장 높은 열전도도(약 2,000 W/mK)를 갖고 전기적으로 부도체이기 때문에 방열용 기판으로 기대가 되어 왔으나, 가격과 프로세스 상의 문제 등으로 실제 적용에 제약이 있었다.1,2) 근래에 들어서 나노결정질 다이아몬드(Nanocrystalline Diamond; NCD) 박막이 개발되면서3) 다이아몬드가 방열 재료로서 재조명을 받게 되었다.
나노결정질 다이아몬드의 장점은? 1,2) 근래에 들어서 나노결정질 다이아몬드(Nanocrystalline Diamond; NCD) 박막이 개발되면서3) 다이아몬드가 방열 재료로서 재조명을 받게 되었다. 특히 NCD 박막은 열전도도가 단결정 다이아몬드의 70 ~ 80% 수준이며, 나노미터 크기 수준의 결정립과 표면조도로 인하여 증착 후 표면 가공 처리 없이 그대로 방열기판으로 사용이 가능 하다4,5).
알루미늄 기판에 다이아몬드 박막 코팅이 불가능한 이유는? 본 연구에서는 LED 모듈의 방열판 재료로 사용되고 있는 알루미늄 판재 위에 마이크로웨이브 플라즈마 화학증착법(Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition; MPCVD)으로 NCD 박막을 증착하여 방열 특성을 평가하였다. 통상적으로 알루미늄 기판 위에서는 다이아몬드 입자의 핵생성이 어려워 다이아몬드 박막 코팅이 불가능한 것으로 알려져 있다6,7). 본 연구에서는 시편 홀더의 가열 없이 기판 위에 DC Bias 전압을 인가하고 다이아몬드 핵 생성과 입자 성장을 촉진시키는 BEN (Bias Enhanced Nucleation) 방법8-10)을 적용함으로써 알루미늄 기판 위에서 다이아몬드 박막을 형성할 수 있었다.
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참고문헌 (21)

  1. R. C. Eden, in Handbook of Industrial Diamonds and Diamond Films, (Eds: M. A. Prelas, G. Popovici, L. K. Biglow), Marcel Dekker, Inc., N.Y. (1997) 1073. 

  2. K. Jagannadham, Solid-State Electronics 42 (1998) 2199. 

  3. D. M. Gruen, Annu. Rev. Mater. Sci. 29 (1999) 211. 

  4. J. E. Butler, A. V. Sumant, Chem. Vap. Deposition 14 (2008) 145. 

  5. O. Auciello, A. V. Sumant, Diamond Relat. Mater. 19 (2010) 699. 

  6. Y. Qi, L. G. Hector, Jr., Phys. Rev. B. 69 (2004) 235401. 

  7. H. Guo, Y. Qi, X. Li, J. Appl. Phys. 107 (2010) 033722. 

  8. S. Yugo, T. Kanai, T. Kimura, T. Muto, Appl. Phys. Lett. 58 (1991) 1036. 

  9. B. R. Stoner, G.-H. Ma, S. D. Wolter, J. T. Glass, Phys. Rev. B, 45B (1992) 11057. 

  10. I. -S. Kim, C. H. Kang, J. Kor. Inst. Surf. Eng. 46 (2013) 29. 

  11. Mentor Graphics T3ster, http://www.mentor.com/products/mechanical/micred/t3ster/?sfmauto_suggest 2015. 09. 12. 

  12. Timage IR Pro+, http://guideinfrared.com/Plus/m_default/Cms/docDetail.php?ID60 2015. 09. 12. 

  13. P. K. Chu, L. Li, Mater. Chem. Phys. 96 (2006) 253. 

  14. D. Y. Jung, C. H. Kang, J. Kor. Inst. Surf. Eng. 44 (2011) 131. 

  15. B.-K. Na, C. H. Kang, J. Kor. Inst. Surf. Eng. 46 (2013) 68. 

  16. D.-B. Park, J.-W. Myung, B.-K. Na, C. H. Kang, J. Kor. Inst. Surf. Eng. 46 (2013) 145. 

  17. J.-W. Myung, C. H. Kang, J. Kor. Inst. Surf. Eng. 47 (2014) 75. 

  18. J. H. Im, C. H. Kang, J. Kor. Inst. Surf. Eng. 47 (2014) 263. 

  19. Y. S. Li, Y. Tang, Q. Yang, J. Maley, R. Sammynaiken, T. Regier, C. Xiao, A. Hirose, Appl. Mater. Interf. 2 (2010) 335. 

  20. Y. Tang, Y. S. Li, Q. Yang, A. Hirose, Diamond Relat. Mater. 19 (2010) 496. 

  21. X. J. Li, L. L. He, Y. S. Li, Q. Yang, A. Hirose, Diamond Relat. Mater. 50 (2014) 103. 

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