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6-자유도 초정밀 위치 결정 스테이지의 비선형성 식별을 위한 로스트 모션 해석
Lost Motion Analysis for Nonlinearity Identification of a 6-DOF Ultra-Precision Positioning Stage 원문보기

한국정밀공학회지 = Journal of the Korean Society for Precision Engineering, v.32 no.3, 2015년, pp.263 - 268  

신현표 (동양미래대학교 로봇자동화공학부) ,  문준희 (유한대학교 메카트로닉스학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

This paper describes lost motion analysis for a novel 6-DOF ultra-precision positioning stage. In the case of flexure hinge based precision positioning stage, lost motion is generated when the displacement of actuator is not delivered completely to the end-effector because of the elasticity of flexu...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 논문에서는 플렉셔 힌지 병렬 기구 기반의 6-자유도 정밀위치결정기구에 대한 비선형성 식별을 수행하였다. 플렉셔 힌지의 자체 탄성으로 인해 엑추에이터의 운동이 일정 부분 감소되어 전달되는 것이 로스트 모션이다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
위치 결정스테이지의 주된 역할은 무엇인가? 마이크로/나노 위치결정은 광파이버 정렬, 웨이퍼 정렬, 마이크로 가공 등의 분야에서 많은 관심을 끌어 왔다. 1 이러한 적용들에 있어 위치 결정스테이지의 주된 역할은 물체를 마이크로/나노 정밀 도로 조작하고 위치시키는 것이다. 2,3 특히, 웨이퍼 정렬과 같이 두께 편차가 존재하는 웨이퍼를 정밀 정렬하고 높은 압력을 가하는 공정의 경우 높은 분해능과 내하중성과 같이 동시에 만족시키기 어려운 요구 사항들이 존재한다.
PZT가 별도의 운동 증폭 메카니즘과 함께 사용되는 이유는 무엇인가? 정밀위치결정 장치에 사용되는 엑추에이터로써, PZT(Lead zirconate titanate)는 빠른 주파수 응답성, 높은 강성, 높은 분해능, 부드러운 운동 등의 특성으로 인해 정밀 위치결정에 적합하다. 그러나 최대 운동 범위가 엑추에이터 자체 길이 대비 0.1%정도로 제한되어 별도의 운동 증폭 메카니즘과 함께 사용되는 경우가 많다.
병렬 기구 매니퓰레이터의 장단점은 무엇인가? 반면, 운동을 바꾸고 전달하기 위해 탄성 변형을 사용하는 컴플라이언트 기구 (Compliant mechanism)는 마모, 마찰, 백래쉬 등이 존재하지 않아서 좋은 반복정밀도를 제공한다. 4,5또한, 병렬 기구 매니퓰레이터의 경우 직렬 기구에 비해 작업영역이 좁고, 제어가 복잡해진다는 단점이 있지만 높은 강성, 낮은 관성, 높은 하중지지력, 고정밀 등에 있어 유리하다. 6,7
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참고문헌 (10)

  1. Yang, R., Jouaneh, M., and Schweizer, R., "Design and Characterization of a Low-Profile Micropositioning Stage," Precision Engineering, Vol. 18, No. 1, pp. 20-29, 1996. 

  2. Chen, M.-Y., Huang, S.-C., Hung, S.-K., and Fu, L.- C., "Design and Implementation of a New Six-Dof Maglev Positioner with a Fluid Bearing," IEEE/ASME Transactions on Mechatronics, Vol. 16, No. 3, pp. 449-458, 2011. 

  3. Chang, S. and Du, B., "A Precision Piezodriven Micropositioner Mechanism with Large Travel Range," Review of Scientific Instruments, Vol. 69, No. 4, pp. 1785-1791, 1998. 

  4. Yao, Q., Dong, J., and Ferreira, P. M., "Design, Analysis, Fabrication and Testing of a Parallel- Kinematic Micropositioning XY Stage," International Journal of Machine Tools and Manufacture, Vol. 47, No. 6, pp. 946-961, 2007. 

  5. Moon, J. H., Park, J. H., and Pahk, H. J., "Design and Modeling of a 6-dof Stage for Ultra-Precision Positioning," J. Korean. Soc. Precis. Eng., Vol. 26, No. 6, pp. 106-113, 2009. 

  6. Kim, H. S., Cho, Y. M., and Moon, J. H., "Active vibration control using a Novel Three-Dof Precision Micro-Stage," Smart Materials and Structures, Vol. 19, No. 5, Paper No. 055001, 2010. 

  7. Shin, H., Lee, S., Jeong, J. I., and Kim, J., "Antagonistic Stiffness Optimization of Redundantly Actuated Parallel Manipulators in a Predefined Workspace," IEEE/ASME Transactions on Mechatronics, Vol. 18, No. 3, pp. 1161-1169, 2013. 

  8. Choi, K.-B. and Lee, J. J., "Passive Compliant Wafer Stage for Single-Step Nano-Imprint Lithography," Review of Scientific Instruments, Vol. 76, No. 7, Paper No. 075106, 2005. 

  9. Choi, S., Han, S., and Lee, Y., "Fine Motion Control of a Moving Stage using a Piezoactuator Associated with a Displacement Amplifier," Smart Materials and Structures, Vol. 14, No. 1, Paper No. 222, 2005. 

  10. Liang, Q., Zhang, D., Chi, Z., Song, Q., Ge, Y., and Ge, Y., "Six-Dof Micro-Manipulator based on Compliant Parallel Mechanism with Integrated Force Sensor," Robotics and Computer-Integrated Manufacturing, Vol. 27, No. 1, pp. 124-134, 2011. 

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