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NTIS 바로가기한국생산제조시스템학회지 = Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers, v.24 no.4, 2015년, pp.469 - 474
김규언 (Mechanical System and Design Engineering, Seoul National University of Science and Technology) , 이재후 (Mechanical System and Design Engineering, Seoul National University of Science and Technology) , 전재건 (Mechanical System and Design Engineering, Seoul National University of Science and Technology) , 박성환 (Solarceramic Co,. Ltd., Korea Institute of Ceramic Engineering and Engineering) , 이치범 (Mechanical System and Design Engineering, Seoul National University of Science and Technology)
In ultrasonic spray pyrolysis deposition, a precursor solution is evaporated by an ultrasonic atomizer, then gas-carried into a furnace where the solute is separated from the water vapor. After condensation, polymerization, and nucleation, the solute oxide forms a thin film. To improve the depositio...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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가장 보편적으로 사용되고 있는 투명전극은 무엇인가? | 플렉서블 디스플레이, 터치센서, LED 등 최근의 광 및 전자소자는 투명하면서 유연성을 갖는 전극을 필요로 하며, 이러한 전극은 기판위에 투명한 박막을 형성하여 높은 전도도와 가시광 영역에서 우수한 투과도를 구현할 수 있어야 한다[1]. 현재 가장 보편적으로 사용되고 있는 투명전극으로는 평판 디스플레이의 화소 전극으로 많이 사용되는 인듐 주석 산화물(ITO: indium tin oxide) 박막이 있고, 최근에는 불소함유산화주석(FTO: fluorine doped tin oxide), 은나노와이어 (silver nanowire), 탄소나노튜브(carbon nanotube) 등이 많이 연구되고 있다[2]. | |
투명 전극막 소재를 표면에 증착시키는 대표적인 기술에는 어떤 것들이 있는가? | 투명 전극막 소재를 표면에 증착시키는 대표적인 기술은 크게 물리적 증착법(PVD: physical vapor deposition)과 화학적 기상 증착법(CVD: chemical vapor deposition), 열분해 증착법(SPD: spray pyrolysis deposition)이 있다[3]. 물리적 증착법은 높은 에너지를 갖는 미립자들에 의한 충돌로 타겟(target)의 표면으로부터 원자들이 튕겨져 나와 기판에 증착되나, 높은 열을 가하여 생성된 금속기체들을 기판에 증착시키는 원리를 이용한다. | |
물리적 증착법의 단점은 무엇인가? | 물리적 증착법은 높은 에너지를 갖는 미립자들에 의한 충돌로 타겟(target)의 표면으로부터 원자들이 튕겨져 나와 기판에 증착되나, 높은 열을 가하여 생성된 금속기체들을 기판에 증착시키는 원리를 이용한다. 높은 에너지를 요구하는 방법이므로 박막의 불균일과 손상이 발생할 수도 있고, 박막이 전자, 자외선, 이온 등에 노출되어 가열되므로 성막조건이 민감하다는 단점이 있다. 화학적 기상 증착법이란 기체의 원료로부터 화학반응을 거쳐 고체재료를 합성하는 화학적 방법이다. |
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