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NTIS 바로가기공업화학 = Applied chemistry for engineering, v.27 no.1, 2016년, pp.101 - 109
The purpose of this research was to develop a flat panel display device's glass etchant which can replace hydrofluoric acid. The glass etchant was composed of 18~19% wt% of ammonium hydrogen fluoride, 24~25 wt% of sulfuric acid, 45~46 wt% of water, 4~5 wt% of sulfate and 7~8 wt% of fluoro-silicate. ...
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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유리 식각에 불산 수용액을이 사용하였던 이유는 무엇인가? | 유리의 식각은 오랫동안 불산을 사용하여 진행되어 왔다. 기존 사용되는 불산 수용액은 유리표면을 식각함과 동시에 표면에 잔류한 유기, 무기 오염원을 제거하는데 사용되어 왔으며, 유리표면에 친수성을 부여하여 각종 코팅 시 밀착성을 높이는 데 이용되고 있다. 그러나 불산이 가지는 높은 산화력으로 인하여 유리의 과 부식 및 유해가스 발생, 설비 부식, 폐수 처리 곤란, 특히나 인체에 치명적인 환경유해성 등을 이유로 불산 사용을 대체하기 위한 연구가 오랫동안 지속되어 왔으며, 불산 대체용 식각용액의 개발의 필요성이 극대화된지 오래되었다[3-5]. | |
평판디스플레이 장치가 활용되는 산업 분야는 무엇인가? | 평판디스플레이 장치(flat pannel display device)는 뛰어난 해상도에 따른 선명한 영상을 제공하며 전기를 적게 소모하고 디스플레이 화면을 얇게 만들 수 있게 하여 준다는 특성 때문에 다양한 디스플레이 장치로 이용되고 있다. 이러한 평판디스플레이는 장치는 휴대폰, 노트북 PC를 포함한 모바일용 기기 및 텔레비전에 사용되는데, 상기 기기들의 슬림화, 경량화 요구에 따라 판넬을 구성하는 요소 중 중량이 가장 큰 유리 기판의 중량 감소 및 박판화가 중요해졌고, 이에 따라 유리 기판의 식각이 가장 중요한 문제가 되었다[1,2]. 유리의 식각은 오랫동안 불산을 사용하여 진행되어 왔다. | |
평판디스플레이 장치의 특성은? | 평판디스플레이 장치(flat pannel display device)는 뛰어난 해상도에 따른 선명한 영상을 제공하며 전기를 적게 소모하고 디스플레이 화면을 얇게 만들 수 있게 하여 준다는 특성 때문에 다양한 디스플레이 장치로 이용되고 있다. 이러한 평판디스플레이는 장치는 휴대폰, 노트북 PC를 포함한 모바일용 기기 및 텔레비전에 사용되는데, 상기 기기들의 슬림화, 경량화 요구에 따라 판넬을 구성하는 요소 중 중량이 가장 큰 유리 기판의 중량 감소 및 박판화가 중요해졌고, 이에 따라 유리 기판의 식각이 가장 중요한 문제가 되었다[1,2]. |
J. Y. Byun, A Study on Etching of EAGLE2000TM LCD Glass by HF-HCl Mixed Solutions, J. Microelectronics & Packing Society, 15, 41-46 (2008).
S. H. Cho, S. W. Youn, and C. G. Kang, Observation of Growth Behavior of Induced Hillock for Nano/Micro Patterning on Surface of Borosilicate with Etching Time and Load, Proceedings of the Korean Society for Technology of Plasticy Autumn Conference, October 11-14, Seoul Korea (2005).
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Techno Semichem Corporation, Etching Composition for LCD Glass, KOR Patent 0052475 (2005).
R. A. Bellman, R. W. Davis, J. C. Lapp, and R. M. Walton, Chemical Durability of EAGLE $XG^{TM}$ in LCD Dry Etch Processes, Corning Inc, Sullivan Park, Corning, P-48.2, NY, USA (2005).
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Dongwoo Fine-Chem, Etching solution composition, KOR Patent 0061610 (2008).
Takoma technology corporation, Etching composition, KOR Patent 0112782 (2009).
Chemtronics Corporation, Etchant Composition for Glass Substrate, KOR Patent 0124792 (2007).
Exax Corporation, Echant composition for glass of flat panel display, KOR Patent 0082540 (2007).
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