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NTIS 바로가기전기의 세계 = The proceedings of KIEE, v.65 no.2, 2016년, pp.15 - 26
김종수 (대진대학교)
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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GaN FET과 SiC FET의 장점은 무엇인가? | Si 기반 전력반도체를 대체 할 것으로 예상되는 가장 주목 받고 있는 전력반도체로는 표 1 및 그림 1에 도시한 것과 같이 Wide bandgap (WBG) 특성을 가지는 화합물반 도체 (compound Semiconductor)로 III‐V족의 질화갈륨 (GaN, Gallium Nitride) FET나 IV‐IV 족의 (SiC, Silicon Carbide) FET 등이 대표적이다. GaN FET과 SiC FET은 기존 Si 전력반도체에 (Bandgap=1.1eV) 비해 약 3배 이상 넓은 (Bandgap=3.3~3.4eV) WBG 소자로 Si의 물성이 내지 못하는 매우 큰 절연파괴전압 (Breakdown Voltage)을 구현할 수 있으며 이는 Si 전력반도체와 동일 내압 소자의 경우 die를 얇게 만들 수 있고 doping 농도를 높일 수 있으므로 R ds.on 을 크게 줄여 도통 손실 저감이 가능하다는 것을 의미한다. 또한 화합물 반도체 특성 상 이종접합 (Heterojunction)으로 인해 매우 빠른 전자 이동도를 가지는 HEMT (High Electron Mobility Transistor) 구조로 어떠한 재질의 특성보다 드리프트 속도가 높아 기존 Si 전력반도체에 비해 매우 빠른 온‐오프시간을 가져 스위칭 손실을 최소화 할 수 있고, 내열특성 또한 크게 개선되어 GaN FET과 SiC FET의 경우 각각 이론상 접합부 온도 700℃ 및 300℃까지 구동이 가능하므로 방열시스템의 크기 및 부피를 크게 줄일 수 있을 것을 기대된다 [2]. 그림 2와 표 2는 IR사의 측정데이터로 Si과 WBG 소자의 물성적 한계 차이와 Breakdown 전압에 대한 Rds. | |
Si 기반 전력반도체를 대체할 것으로 주목받는 전력반도체는 무엇인가? | Si 기반 전력반도체를 대체 할 것으로 예상되는 가장 주목 받고 있는 전력반도체로는 표 1 및 그림 1에 도시한 것과 같이 Wide bandgap (WBG) 특성을 가지는 화합물반 도체 (compound Semiconductor)로 III‐V족의 질화갈륨 (GaN, Gallium Nitride) FET나 IV‐IV 족의 (SiC, Silicon Carbide) FET 등이 대표적이다. GaN FET과 SiC FET은 기존 Si 전력반도체에 (Bandgap=1. | |
GaN FET와 SiC FET와 같은 WBG 소자의 시장 규모가 Si 전력반도체에 비해 매우 적은 이유는? | WBG 소자의 다양한 장점에도 불구하고 현재 GaN FET와 SiC FET의 시장 규모는 전체 전력반도체 시장에서 Si 전력반도 체의 1~2% 수준 정도로 예측된다. 다양한 이유가 있겠지만 우선 물성적 특성 상 재료가 비싸고, Si에 비해 웨이퍼의 대구경 화가 어려우며, 에피성장 (Epitaxial Growth)이 어려워 수율이 낮아 Si 전력반도체에 비해 3~5배 수준의 높은 단가 때문인 것으로 분석된다. 다른 측면에서는 기존 전력변환장치에서 Si 전력반도체를 아무 조건 없이 1:1로 대체하는 것이 어렵기 때문 이다. 이는 WBG 소자가 기존 Si 소자와 상이한 특성을 가지고 있기 때문인 것으로 분석된다. |
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