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SiC 기판상에 반응 스퍼터링에 의해 형성된 TiO2막의 수소가스 검지 특성
Hydrogen Detection of Titanium Dioxide Layer Formed by Reactive Sputtering on SiC Substrates 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.29 no.12, 2016년, pp.809 - 813  

김성진 (경남대학교 전자공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We investigated a SiC-based hydrogen gas sensor with MIS (metal-insulator-semiconductor) structure for high temperature applications. The sensor was fabricated by $Pd/TiO_2/SiC$ structure, and a thin titanium dioxide ($TiO_2$) layer was exploited for sensitivity improvement. In...

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문제 정의

  • 본 연구는 고온에서 수소가스를 검지하기 위한 가스센서의 개발에 관한 것이다. 수소는 대기 중에 평균적으로 5.
  • 본 연구에서는 Pd/TiO2/SiC 구조의 수소가스 센서를 제작하여, 낮은 가스 농도에서도 민감하게 반응하고 400℃의 고온에서도 우수한 감도와 함께 정상적으로 동작함을 확인하였다. TiO2 박막은 반응 스퍼터링(reactive sputtering)으로 약 50nm 두께로 형성하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
고온용 센서는 어떤 기능을 하는가? 고온용 센서는 엔진, 용광로 및 발전시설 등의 고온 환경에 직접 장착하여 검지의 대상을 센싱함으로써, 데이터의 정확도를 향상시킬 수 있다는 점에서 연구개발이 필요하다. 또한 고온 분위기는 센서의 기능면에서 감도가 개선되고 센서의 응답 시간의 단축을 가져올 수 있는 장점이 있어, 고온용 센서의 개발에 관한 연구에 더욱 관심을 가질 필요가 있다.
금속-산화막-반도체(MIS) 구조의 수소가스 센서의 장점은? TiO2막은 유전율이 매우 높아 정전용량(capacitive)형 센서의 유전막으로 적합하며, 본 연구에서는 SiC반도체 기판을 이용한 금속-산화막-반도체(MIS) 구조의 수소가스 센서를 제작하였다. 온도 의존성이 높은 저항형 센서에 비해 고온 환경에서는 정전용량형이 상대적으로 온도 의존성이 낮아 유리하다. 특히 금속산화막으로 금속 전극과 반도체를 분리한 MIS 구조는 고온에도 안정성을 갖는 중간 산화막으로 인해 고온에 적합하며, 다양한 금속 산화막으로부터 나타나는 고유의 가스 흡착 특성의 차이로 가스선택성을 향상시킬 수 있다.
수소 가스의 누출은 어떤 위험성이 있는가? 5×10-5%를 차지할 정도로 질소와 산소에 비해 매우 미약하게 분포하고 있지만, 화학 원료와 신 재생 에너지원으로 사용할 때 고농도로 압축저장 상태에서 이용하게 된다. 하지만, 수소 가스는 대기 중에 4% 이상 누출되면 폭발 위험성이 높고, 금속의 부식에도 주요 원인으로 작용하고 있어, 수소 가스를 취급할 때 가스 누출을 검지할 수 있는 센서에 대한 연구가 활발히 진행되어 왔다 [4-6]. 한편 금속 산화막을 이용한 수소 가스 센서는 SiO2 [7,8], TiO2 [9]와 함께 Ta2O5[10,11] 등을 감지막으로 사용한 연구가 발표되어 왔다.
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참고문헌 (11)

  1. C. Lu and Z. Chen, Sens. Actuator B Chem., 140, 109 (2009). [DOI: https:/doi.org/10.1016/j.snb.2009.04.004] 

  2. R. N. Ghosh and P. Tobias, J. Electron. Mater., 34, 345 (2005). [DOI: https:/doi.org/10.1007/s11664-005-0108-3] 

  3. A. L Spetz, A. Baranzahi, P. Tobias, and I. Lundstrom, Phys. Status Solid A Appl. Res., 162, 493 (1997). 

  4. A. Kumar, P. Zhang, A. Vincent, R. M. Cormack, R. Kalyanaraman, H. J. Cho, and S. Seal, Sens. Actuator B Chem., 155, 884 (2011). [DOI: https:/doi.org/10.1016/j.snb.2011.01.065] 

  5. C. Lu and Z. Chen, Int. J. Hydrog. Energy, 35, 12561 (2010). [DOI: https:/doi.org/10.1016/j.ijhydene.2010.08.031] 

  6. A. Trinchi, S. Kandasamy, and W. Wlodarski, Sens. Actuator B Chem., 133, 705 (2008). [DOI: https:/doi.org/10.1016/j.snb.2008.03.011] 

  7. C. Lu and Z. Chen, Int. J. Hydrog. Energy, 35, 12561 (2010). [DOI: https:/doi.org/10.1016/j.ijhydene.2010.08.031] 

  8. C. Loa, S. W. Tan, C. Y. Wei, J. H. Tsai, and W. S. Lour, Int. J. Hydrog. Energy, 38, 313 (2013). [DOI: https:/doi.org/10.1016/j.ijhydene.2012.10.051] 

  9. C. Lu and Z. Chen, Sens. Actuator B Chem., 140, 109 (2009). [DOI: https:/doi.org/10.1016/j.snb.2009.04.004] 

  10. C. Chaneliere, J. L. Autran, A. B. Devine, and B. Balland, Mater. Sci. Eng. B Rep., 22, 269 (1998). 

  11. J. Yu, G. Chen, C. X. Li, M. Shafiei, J. Z. Ou, J. du Plessis, K. Kalantar-zadeh, P. T. Lai, and W. Wlodarski, Sens. Actuator B Chem., 172, 9 (2011). [DOI: https:/doi.org/10.1016/j.sna.2011.02.021] 

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