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대향타겟식 스퍼터를 이용한 AZO 박막의 플라즈마 변수와 수소 가스 유량에 따른 효과
The Effects of Al-doped ZnO Thin Films Deposited as a function of the Plasma Process Parameters with Hydrogen Gas by Facing Target Sputtering System 원문보기

한국표면공학회 2012년도 춘계학술발표회 논문집, 2012 May 31, 2012년, pp.145 - 146  

심병철 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ,  김성일 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ,  최윤석 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ,  최인식 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ,  한전건 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소)

초록
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Al이 2wt% 첨가된 AZO(Al-doped ZnO) 타겟을 기판을 가열한 대향 타겟 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 수소 유량에 따라 유리기판 위에 AZO 박막을 증착하였다. 수소 유량에 따른 AZO 박막내의 carrier concentration와 mobility의 변화를 확인하였으며 박막내 crystallinity와 grain size의 변화를 확인하였다. 증착된 AZO 박막 특성의 구조적, 전기적, 광학적 변화조사하고 비저항 및 광투과도 등을 분석하여 투명전극용으로 적합한지 연구하였다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 Al이 2wt% 첨가된 AZO 타겟을 기판을 가열한 대향 타겟 마그네트론 스퍼터링법으로 수소 유량에 따라 유리기판 위에 박막을 증착시켰다. 인가된 전력, 수소유량, 기판 온도 등의 공정변수에 의한 플라즈마 특성 변화에 따른 ZnO 박막 특성과의 상관관계를 규명하고자 한다. 대향 타겟 마그네트론의 자장에 의해 구속되는 플라즈마 내의 이온 종들과 이온과 중성자의 비율 관계를 optical emission spectroscopy(OES)로 확인 하였고, 기판 전류 및 기판 온도 측정, Langmuir probe를 통한 플라즈마 특성분석을 통하여 플라즈마와 박막의 특성과 박막 성장과의 상관관계에 대하여 규명하였다.
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