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The plasma process is applied to various industrial fields such as high-tech IT industry, textiles and medical. Therefore, there is increasing interest in the plasma power supply, and demand for power devices of high efficiency and high power density is increased. Plasma power supply for process mus...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 LLC 공진컨버터를 플라즈마 전원장치에 적용하기 위하여 출력 커패시턴스 값이 작을 경우 LLC 공진 컨버터에 미치는 영향을 분석하게 된다. 분석을 위하여 출력 커패시턴스를 고려한 LLC 공진컨버터를 LLCC 공진컨버터로 분류하였으며 기존의 LLC 공진컨버터의 이득특성 분석 방법인 FHA (First Harmonic Approximation) 방법을 적용하여 해석하였다.
  • 플라즈마 공정이 다양한 분야에 적용되면서 플라즈마를 제어할 수 있는 전원장치에 대한 관심과 연구가 늘어나게 되었다. 이에 본 논문에서는 플라즈마 공정용 전원장치로 높은 전력밀도와 고효율을 달성할 수 있는 LLC 공진 컨버터를 적용시키기 위한 연구를 진행 하였으며, 공정의 특성상 플라즈마의 불안정으로 인한 아크 (arc)가 발생할 경우를 대비하기 위한 조건을 만족해야 하는 것을 설명하였다. 출력 Capacitance를 줄이는 방법을 통해 아크발생시 실질적인 데미지를 감소시키는 것으로 피해를 줄일 수 있는 반면, LLC 공진컨버터의 경우 기존의 분석된 이득특성과는 다른 특성을 보이는 것을 확인하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
플라즈마 공정이 사용되는 분야는? 플라즈마 공정은 반도체, LCD (Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Panel Display) 등 첨단 IT 산업에서부터 섬유분야, 의료분야 등 많은 분야에서 사용되고 있는 산업기술이다. 플라즈마공정에는 플라즈마를 생성하기 위한 전원장치를 필요로 하게 되는데, 수요와 관심이 늘어나면서 플라즈마 공정용 전원장치의 고효율화 대한 요구 또한 늘어나고 있다.
플라즈마 공정에서 플라즈마가 불안정할 경우 발생할 수 있는 문제점은? 플라즈마 공정에는 플라즈마가 불안정할 경우 아크(arc)가 발생할 수 있다는 문제점이 있다[3][4]. 아크가 발생할 경우 제품의 불량을 만들고 전체 시스템에도 손상을 줄 수 있기 때문에플라즈마 전원장치는 아크 문제에 대한 해결책과 요구조건을 만족해야만 한다.
기존의 LLC 공진 컨버터와 플라즈마 공정용 LLC 공진 컨버터가 다른 점은? 기존의 LLC 공진 컨버터는 출력 Capacitance 값이 충분히 크기 때문에 공진에 영향이 작아 이득특성 해석에 고려하지 않게 된다. 하지만 플라즈마 공정용 LLC 공진 컨버터에서는 출력단 Capacitance 값을 작게 설정하게 되면서 기존의 LLC 공진컨버터와는 다른 이득특성을 보이게 된다. 이렇게 변화하는 이득특성을 분석하기 위해 Co값이 작은 경우 Co도 함께 고려한 LLC 공진 컨버터, 즉 LLCC 공진컨버터의 이득특성을 분석하게 된다.
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참고문헌 (8)

  1. B. Yang, F. C. Lee, A. J. Zhabg, and G. Huang, "LLC Resonant Converter for Front End DC/DC Conversion," in Proc. IEEE APEC'02, pp. 1108-1112, 2002. 

  2. C. Corbella, "Plasma Parameters of Pulsed-dc discharges in methane used to deposit diamondlike carbon films," Journal of Applied Physics, Vol. 106, 03302, 2009. 

  3. Noborn Kuriyama, Yutaka Yatsu "POWER SUPPLY UNIT FOR SPUTTERING DEVICE" U. S. Patent 6,416,638 B1, Jul, 9, 2002. 

  4. J. H. Ban, H. M. Hee, and J. S. Kim, "A Study on Energy Recovery Circuit in Sputtering Plasma Power supply for arc Discharge Prevention," The transaction of the korean institute of electrical engineers p. 61(3), pp. 116-121, 2012. 

  5. J. H. Kim, "Analysis and Design for LLC Resonant Converter Considering Output Capacitance of MOSFET", Master's Thesis, KAIST, 2011. 

  6. B. H. Lee, M. Y. Kim, C. E. Kim, K. B. Park and G. W. Moon, "Analysis of LLC Resonant Converter Considering Effect of Parasitic Components" in Proc. INTELEC'09, pp. 1-6, Oct. 2009. 

  7. H. K. Lee, E. S. Kim, D. Y. Huh, G. S. Lee, B. G. Chung, and S. I. Kang, "Operating Characteristics of LLC Series Resonant Converter Using a LLT Transformer." The Transactions of the Korea Institute of Power Electronics. vol. 11, no. 5, pp. 409-416, 2006. 

  8. J. Sellers, "Asymmetric bipolar pulsed DC: Theenabling technology for reactive PVD," Surface and Coatings Technology. vol. 98, no. 1, pp. 1245-1250(6), January 1998. 

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