다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기
한국광학회지 = Korean journal of optics and photonics, v.27 no.4, 2016년, pp.143 - 150
조현주 (대덕대학교 총포광학과) , 원준연 ((주)쎄미시스코) , 정영규 ((주)쎄미시스코) , 우봉주 ((주)쎄미시스코) , 윤준호 (인하대학교 물리학과) , 황보창권 (인하대학교 물리학과)
AI-Helper
The thickness of each layer in a multilayered system is determined by a Fourier-transform method using spectroscopic reflectance measurements. To verify this method, we first generate theoretical reflectance spectra for three layers, and these are fast-Fourier-transformed using our own Matlab progra...
| 핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
|---|---|---|
| 휘어지는 디스플레이 중 OLED는 어떤 방식으로 구현되는가? | 두꺼운 PI 층을 한 번에 형성하면서 발생하는 응력 등의 문제점을 해소하는 방법으로 PI-(얇은 SiO2)-PI와 같은 다층박막 구조로 두꺼운 PI 층을 형성하는 방법도 진행되고 있다. 실제 휘는 OLED는 유리기판 위에 PI-(얇은 SiO2)-PI 구조를 제작하고 그 위에 OLED를 구현하는 TFT(thin film transistor)를 형성한 후, 기판으로 사용한 유리를 제거하는 방식으로 구현된다. | |
| 단층 박막의 두께를 측정하는 방법에는 어떤 것들이 있는가? | 이러한 박막의 응용에서 박막의 구조를 파악하고 각 층의 두께를 결정하는 것은 매우 중요하며, 이와 관련한 연구가 여러 분야에서 지속되고 있다. 단층 박막의 두께를 측정하는 방법으로는 분광광도계를 이용하는 방법[1], 타원분광계를 사용하는 방법[2], 간섭계를 사용하는 방법[3] 등이 있다. 그러나 최근 박막의 기능이 다양하게 증가하면서 다층박막의 두께를 결정하고자 하는 요구가 점차 증가하고 있다. | |
| 다층박막의 두께를 측정하는 방법에는 어떤 것들이 있는가? | 그러나 최근 박막의 기능이 다양하게 증가하면서 다층박막의 두께를 결정하고자 하는 요구가 점차 증가하고 있다. 다층박막의 두께를 측정하는 방법은 분광 타원분광계(Spectroscopic Ellipsometer)를 사용하여 측정된 결과를 맞춤하는 방법[4], 분광광도계를 사용하여 측정한 결과를 역설계 (reverse engineering) 기법으로 두께를 추정하는 방법[5], 그리고 백색광 간섭계를 사용하는 방법[6,7] 등이 있다. 김상열[8]은 타원계에서 결맞음 길이보다 두꺼운 막에 덮여있는 박막을 분석하는 연구를 수행하였다. |
J. C. Manifacier, J. Gasiot, and J. P. Fillard, "A simple method for the determination of the optical constant n, k and the thickness of weakly absorbing thin films," J. Phys. E 9, 1002 (1976)
J. Rivory, "Ellipsometric Measurements," in Thin Films for Optical Systems edited by F.R. Flory (Marcel Dekker Inc., 1995) chap.11.
P. Hlubina, D. Ciprian, J. Lunacek, and M. Lesnak, "Dispersive white-light spectral interferometry with absolute phase retrieval to measure thin fim," Opt. Express 14, 7678 (2006).
P. G. Synder, Y. Xiong, J. A. Woollam. G. A. Al-Jumaily, and F. J. Gagliard, "Graded refractive index silicon oxynitride thin film characterized by spectroscopic ellipsometry," J. Vac. Sci. Technol. A 10, 1462 (1992).
J. A. Doborowolski, F.C. Ho, and A. Waldorf, "Determination of optical constants of thin film coating material based on inverse synthesis," Appl. Opt. 22, 3192 (1983).
Y. S. Ghim and S.W. Kim, "Thin-film thickness profile and its refractive index measurements by dispersive white-light interferometry," Opt. Express 14, 11885 (2006).
U. Schnell, R. Dandliker, and S. Gray, "Dispersive white-light interferometry for absolute distance measurement with dielectric multilayer system on the target," Opt. Lett. 21, 528 (1996).
E. Hecht, Optics 2nd ed. p363-368 (Addsion-Wesley Publishing Company, Inc. 1987).
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
Free Access. 출판사/학술단체 등이 허락한 무료 공개 사이트를 통해 자유로운 이용이 가능한 논문
Copyright KISTI. All Rights Reserved.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.