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NTIS 바로가기한국정밀공학회지 = Journal of the Korean Society for Precision Engineering, v.33 no.10, 2016년, pp.845 - 850
김영광 (과학기술연합대학원대학교 측정과학과) , 이혁교 (과학기술연합대학원대학교 측정과학과) , 김영식 (과학기술연합대학원대학교 측정과학과) , 이윤우 (과학기술연합대학원대학교 측정과학과)
A direct laser lithography system is widely used to fabricate various types of DOEs (Diffractive Optical Elements) including lenses made as CGH (Computer Generated Hologram). However, a parametric study that uniformly and precisely fabricates the diffractive patterns on a large area (up to
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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CGH를 포함한 회절광학소자 제작에서 중요한 점은 무엇인가? | 1과 같이 전 세계적으로 레이저 직접 노광법에 기반하여 제작되고 있으며, 통상적으로 CGH의 파면오차5,6는 3부터 10 nm 수준의 정밀도를 갖는다. CGH를 포함한 회절광학소자 제작에 있어서 가장 중요한 점 두 가지는 첫째, 미세 패턴의 정밀한 구현과, 둘째, 전체 회절광학소자 영역에서 패턴의 균일도 유지이다. 본 논문에서는 레이저 직접 노광법을 기반으로 하여, 회절 광학소자를 제작할 때 영향을 줄 수 있는 다양한 공정변수를 바꿔가면서 실험하여 장시간 노광 시 안정적인 패턴을 구현할 수 있는 방법에 대하여 연구를 수행하였다. | |
레이저 노광기의 특징은? | 반도체 마스크 노광용으로 많이 사용되는 EBeam 노광기는 구축에 비용이 많이 들고 까다로운 환경조건을 만족시켜주어야 한다. 반면 레이저 노광기는 E-Beam 노광에 비해 분해능(선폭)은 상대적으로 크지만 저렴한 비용으로 넓은 면적에 패턴 구현이 가능해 각종 회절광학소자 (DOEs:Diffractive Optical Elements) 및 광학용 필름 제작에 사용되고 있다. 특히 회절광학소자 가운데 비구면 형상을 정밀하게 측정할 수 있는 컴퓨터재생 홀로그램 (CGH: Computer Generated Hologram) 렌즈1-4는 Fig. | |
포토레지스트가 코팅된 면에 자외선 파장의 빛을 노출시켜 원하는 패턴을 제작하는 방법의 단점은? | 회절광학소자에 미세패턴을 제작하는 대표적인 기법은 포토레지스트 (PR: Photoresist)가 코팅된 면에 자외선 파장의 빛을 노출시켜 원하는 패턴을 제작하는 방법이다. 하지만 이 기법은 점점 대형화 되어 가는 회절소자 제작에 대응하기 어렵고, 공정 단계가 많아 비용 및 시간이 많이 든다. |
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