최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.27 no.12, 2017년, pp.710 - 715
박상준 (한국세라믹기술원 엔지니어링세라믹센터) , 김형순 (인하대학교 신소재공학과) , 이성민 (한국세라믹기술원 엔지니어링세라믹센터)
We synthesized YOF(yttirum oxyfluoride) powders through solid state reactions using
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
---|---|---|
현재 내식성이 뛰어난 내플라즈마 소재로 널리 쓰이는 물질은? | 반도체 공정장비에는 다양한 세라믹 소재가 쓰이는데 위치에 따라 오염입자 생성 혹은 물리적 식각의 정도가 다르다.5,6) 현재 내식성이 뛰어난 내플라즈마 소재로 Y2O3가 널리 사용되고 있으며 주로 물리 기상 증착(PVD), 상온 진공 분사(aerosol deposition) 그리고 서스펜션 플라즈마 스프레이(suspension plasma spray, SPS)와 같은 코팅 기술이 적용되어 제조되고 있다.6-8) 특히 SPS 코팅기술은 서브 마이크로미터 또는 마이크로미터 크기의 분말을 용매에 분산한 후 플라즈마 제트에 투입한다. | |
SPS 코팅기술로 코팅층을 제조하면 어떤 장점이 있는가? | 6-8) 특히 SPS 코팅기술은 서브 마이크로미터 또는 마이크로미터 크기의 분말을 용매에 분산한 후 플라즈마 제트에 투입한다. 투입된 서스펜션은 플라즈마 제트내에서 분열을 일으켜 액적을 형성하고, 액적의 용매가 증발된 후 세라믹 입자가 용융되어 기판위에 코팅이 증착되는데 이렇게 제조된 코팅층은 전통적인 용사코팅과 비교하여 치밀할 뿐만 아니라 비교적 얇은 코팅으로도 제조될 수 있다.9,10) | |
YOF 코팅 사용 시의 장점으로 기대하는 것은? | 기존의 Y2O3 코팅층이 불소계 플라즈마 환경에 노출될 경우 표면에 다량의 YF3 입자가 형성되는 것이 관찰되었기 때문이다.6,11) 따라서 불소를 포함하는 YOF 코팅이 적용될 경우 불소계 플라즈마에서 향상된 내플라즈마 특성, 즉 오염입자의 저감을 가져올 것으로 기대된다. 특히 AlN 히터와 같이 400~700 °C에서 CVD 공정에 사용되는 세라믹 부품은 표면에 많은 불소계 입자를 생성하는 것으로 믿어지고 있다. |
M. Schaepkens, R. C. M. Bosch, T. E. F. M. Standaert, G. S. Oehrlein and J. M, J. Cook, Vac Sci. Technol. A, Films, 16, 2099 (1998).
Y. Kobayashi, Proc. 37th Seminar on High-Temperature Ceramics. July, p. 1-7 (2005).
N. Ito, T. Moriya, F. Uesugi, M. Matsumoto, S. Liu and Y. Kitayama, Jpn J. Appl. Phys., 47, 3630 (2008).
G. S. May and C. J. Spanos, Fundamentals of semiconductor manufacturing and process control., John Wiley & Sons, U.S.A, (2006).
A. J. van Roosmalen, J. A. G. Baggerman and S. J. H. Brader, Dry Etching for VLSI., Springer Science & Business Media, Germany (2013).
D. M. Kim, Y. S. Oh, S. Kim, H. T. Kim, D. S. Lim and S. M. Lee, Thin Solid Films., 519, 6698 (2011).
J. Iwasawa, R. Nishimizu, M. Tokita, M. Kiyohara and K. Uematsu, J Am. Ceram. Soc., 90, 2327 (2007).
P. Fauchais and G. Montavon, J. Therm. Spray Tech., 19, 226 (2010).
C. Delbos, J. Fazilleau, V. Rat, J. F. Coudert, P. Fauchais and B. Pateyron, Plasma Chem. Plasma P, 26, 393 (2006).
D. M. Kim, M. R. Jang, Y. S. Oh, S. Kim, S. M. Lee and S. H. Lee, Surf Coat Technol., 309, 694 (2017).
J. K. Lee, S. J. Park, Y. S. Oh, S. Kim, H. Kim and S. M. Lee, Surf. Coat Technol., 309, 456 (2017).
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
오픈액세스 학술지에 출판된 논문
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.