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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.50 no.6, 2017년, pp.480 - 485
이승훈 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) , 변은연 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) , 최주연 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) , 정성훈 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) , 유병길 (제이피이) , 김도근 (재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실)
Soft mold imprinting method that uses nanostructured polymer mold was investigated for anti-reflection film fabrication. The nanostructured soft mold was polyethylene terephthalate(PET) irradiated by oxygen ion beams. The collisional energy transfer between oxygen ion and the polymer surface induced...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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디스플레이 표면의 반사도 감소를 위해 무엇이 사용되고 있는가? | 특히, 터치 스크린이 적용된 디스플레이는 최외부 표면에서 발생되는 외부 광원의 정반사에 의한 시인성 저하가 심각해 사용 편의성이 저하되며, 디스플레이 내부에서 형성된 이미지가 사용자에게 명확하게 전달되지 못한다. 디스플레이 표면의 반사도 감소를 위해 나노 구조 표면을 활용한 반사방지 고투과 필름이 사용되고 있으며, 상용화된 일본산 제품들은 약 93% 이상의 전광선 투과율을 가진다[1-3]. 나노 구조를 이용한 반사방지 방법은 가시광선 파장 이하의 주기를 갖는 미세 구조를 형성해 표면에서 매질 내부로 굴절률이 점차 변하게 하여 Fresnel 반사를 줄이는 방식이다. | |
임프린팅 방식은 무엇인가? | 나노 구조를 이용한 반사방지 폴리머 필름 제조를 위해 임프린팅 방식이 널리 연구되고 있다[4]. 임프린팅법은 반사 방지가 가능한 나노 구조 몰드를 이용해 나노 구조 표면을 가진 필름을 찍어내는 방식이며, 우수한 반사방지 특성을 가진 필름을 제조할 수 있다. 하지만, 임프린팅 몰드로 주로 사용되는 실리콘 기판은 제조 원가가 비싸고, 롤투롤 공정에 적용하기 부적합하여 저가의 롤투롤 공정이 가능한 소프트 몰드법 개발이 요구되고 있다. | |
임프린팅 몰드로 주로 사용되는 실리콘 기판의 단점은 무엇인가? | 임프린팅법은 반사 방지가 가능한 나노 구조 몰드를 이용해 나노 구조 표면을 가진 필름을 찍어내는 방식이며, 우수한 반사방지 특성을 가진 필름을 제조할 수 있다. 하지만, 임프린팅 몰드로 주로 사용되는 실리콘 기판은 제조 원가가 비싸고, 롤투롤 공정에 적용하기 부적합하여 저가의 롤투롤 공정이 가능한 소프트 몰드법 개발이 요구되고 있다. 소프트 몰드 임프린팅은 미세구조 표면을 가진 폴리머 기판을 몰드로 활용해 임프린팅하는 방식이다[5]. |
K Choi, S H Park, Y M Song, Y T Lee, C K Hwangbo, H Yang and H S Lee, Nano-tailoring the surface structure for the monolithic highperformance antireflection polymer film, Adv. Mater. 22 (2010) 3713-3718.
P Lalanne and G M Morris, Antireflection behavior of silicon subwavelength periodic structures for visible light, Nanotechnology 8 (1997) 53.
K Nakamura, I Amimori, H Hokazono and J Watanabe, Anti-glare and anti-reflection film, polarizing plate, and image display device, U.S. Patent No. 6,693,746. 17 Feb. (2004).
K-S Han, J-H Shin, W-Y Yoon and H Lee, Enhanced performance of solar cells with antireflection layer fabricated by nano-imprint lithography, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 95 (2011) 288-291.
J Zhang, S Shen, X X Dong and L S Chen, Lowcost fabrication of large area sub-wavelength antireflective structures on polymer film using a soft PUA mold, Opt. Express 22 (2014) 1842-1851.
M C Coen, R Lehmann, P Groening and L Schlapbach, Modification of the micro-and nanotopography of several polymers by plasma treatments, Appl. Surf. Sci. 207 (2003) 276-286.
J Yun, T S Bae, S Lee, S Lee, J Rha and G H Lee, Interface between oxide coatings and plasmadamaged polymers and its effects on coating adhesion and structure, Plasma Process. Polym. 9 (2012) 135-48.
S Lee, E-Y Byun, J-K Kim and D-G Kim, Ar and $O_2$ linear ion beam PET treatments using an anode layer ion source, Curr. Appl. Phys. 14 (2014) S180-S182.
C Bohm and J Perrin, Retarding-field analyzer for measurements of ion energy distributions and secondary electron emission coefficients in lowpressure radio frequency discharges, Rev. Sci. Instrum. 64 (1993) 31-44.
J Cai and L Qi, Recent advances in antireflective surfaces based on nanostructure arrays, Mater. Horizons 2 (2015) 37-53.
J F Ziegler M D Ziegler and J P Biersack, SRIM - The stopping and range of ions in matter, Nucl. Instruments Methods Phys. Res. Sect. B Beam Interact. with Mater. Atoms 268 (2010) 1818-1823.
A Hossinger, Simulation of ion implantation for ULSI technology, Thesis (2000) Technische Univ. Wien, Wien (Austria).
D F McMillen and D M Golden, Hydrocarbon bond dissociation energies, Annu. Rev. Phys. Chem. 33 (1982) 493-532.
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