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Glass 위에 증착된 SnO2/Ag/Nb2O5/SiO2/SnO2 다층 투명전도막의 성능지수
Figure of Merit of SnO2/Ag/Nb2O5/SiO2/SnO2 Transparent Conducting Multilayer Film Deposited on Glass Substrate 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.30 no.2, 2017년, pp.81 - 85  

김진균 (충북대학교 재료공학과) ,  이상돈 (강릉원주대학교 전기공학과) ,  장건익 (충북대학교 재료공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

$SnO_2/Ag/Nb_2O_5/SiO_2/SnO_2$ multilayer films were prepared on glass substrate by sequential using RF/DC magnetron sputtering at room temperature. The influence of top $SnO_2$ layer thickness on optical and electrical properties of the multilayer films was investigated. Exper...

주제어

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제안 방법

  • 52)을 통해 고굴절/저굴절/고굴절 구조의 다층막을 제조하여 투과율을 상승시키고자 하였다. SiO2,Nb2O5, Ag, 하부층 SnO2 두께를 각각 10, 10, 10, 30 nm로 고정하고 상부층 SnO2 두께를 40~55 nm까지 5 nm 단위로 변화하여 그에 따른 가시광선 영역의 투과율을 측정하였다.
  • 고굴절 물질 SnO2(n=2.09), Nb2O5(2.42)와 저굴절 물질 Ag(0.12), SiO2(1.52)을 통해 고굴절/저굴절/고굴절 구조의 다층막을 제조하여 투과율을 상승시키고자 하였다. SiO2,Nb2O5, Ag, 하부층 SnO2 두께를 각각 10, 10, 10, 30 nm로 고정하고 상부층 SnO2 두께를 40~55 nm까지 5 nm 단위로 변화하여 그에 따른 가시광선 영역의 투과율을 측정하였다.
  • 본 연구에서는 RF/DC magnetron sputtering을 이용하여 SnO2/Ag/Nb2O5/SiO2/SnO2 다층막구조에서 상부 SnO2층의 두께를 변화시키며 광학적 성질, 전기적 성질의 변화와 다층막의 성능지수를 평가하였다.

대상 데이터

  • 본 실험에서 Ag 박막의 증착은 DC 마그네트론 스퍼터로 SiO2,SnO2 Nb2O5 박막은 RF 마그네트론 스퍼터를 이용하여 제조하였다. 기판은 76 × 26 × 1 mm3 크기의 소다-석회 유리(Paul Marienfeld Gmbh & Co, KG-Germany)를 사용하였다.

이론/모형

  • 구조의 다층막 모식도이다. 다층막의 투과율은 UV-VIS-NIR 분광광도계를 사용하였으며, 면저항 특성은 4-Point Probe로 측정하였다. XPS와 TEM을 이용하여 다층막의 계면특성, 성분비, 두께를 조사하였다.
  • 다층막의 투과율은 UV-VIS-NIR 분광광도계를 사용하였으며, 면저항 특성은 4-Point Probe로 측정하였다. XPS와 TEM을 이용하여 다층막의 계면특성, 성분비, 두께를 조사하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
SnO2 계 박막은 가시광 영역에서 투과율이 어느정도인가? 투명전극 소재의 하나인 SnO2 계 박막은 제조원가가 ITO에 비하여 월등히 저렴하고 내화학성과 내마모성이 우수하면서도, 가시광 영역에서의 투과율이 80% 이상으로 좋다는 점으로 ITO를 대체할 재료로 주목을 받고 있다. SnO2 박막은 또한 3.
투명전극이 적용되려면 어떤 조건을 만족해야 하는가? 이러한 변화에 따라 디스플레이에 사용되는 투명전극에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다 [1-4]. 투명전극이 적용되는 조건으로는 1 × 10-3 Ω·cm 이하, 면 저항이 103 Ω/sq 이하로 전기전도성이 우수하고 380~780 nm의 가시광선 영역에서의 투과율이 80% 이상이 라는 두 가지 성질을 만족해야 한다.
RF/DC magnetron sputtering을 이용하여 SnO2/Ag/Nb2O5/SiO2/SnO2 다층막구조에서 상부 SnO2층의 두께를 변화시킬 경우, 두께 변화에 따라 면저항과 비저항이 어떻게 변하였는가? 광학적 성질인 투과율은 SnO2의 두께가 45 nm에서 85.8%로 가장 우수하였고, 면저항과 비저항은 SnO2의 두께가 증가할수록 각각 증가하는 경향을 보였다. 투과율과 면저항으로 계산된 FOM은 SnO2의 두께가 45nm에서 35.
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참고문헌 (14)

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  2. F. Rohlfing, D. Brezesinski, T. Rathousky, J. Feldhoff, A. Oekermann, T. Waga, M. Smarsly, and B. Ady, Mater., 18, 2980 (2006). 

  3. F. J. Yusta, M. L. Hitchman, and H, Shamlian, J. Mater. Chem., 7, 1421 (1997). [DOI: https://doi.org/10.1039/a608525c] 

  4. T. P. Chow, M. Ghezzo, and B. J. Baliga, J. ElecTrochem. Soc., 129, 1040 (1982). [DOI: https://doi.org/10.1149/1.2124012] 

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  11. J. H. Kim, Y. J. Moon, S. K. Kim, Y. Z. Yoo, and T. Y. Seong, Ceramics International, 41, 14805 (2015). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2015.08.001] 

  12. G. Haacke, J. Appl. Phys., 47, 4086 (1976). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.323240] 

  13. S. H. Yu, C. H. Jia, H. W. Zheng, L. H. Ding, and W. F. Zhang, Materials Letters, 85, 68 (2012). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.matlet.2012.06.108] 

  14. A. Bou, P. Torchio, D. Barakel, F. Thierry, P. Y. Thoilon, and M. Ricci, Proc. of SPIE, 8987, 898706 (2014). [DOI: https://doi.org/10.1117/12.2039067] 

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