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기계저널 : 大韓機械學會誌, v.57 no.1, 2017년, pp.42 - 45
이승민 (대구경북과학기술원 로봇공학전공) , 김상원 (대구경북과학기술원 로봇공학전공) , 최홍수 (대구경북과학기술원 로봇공학전공)
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| 핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
|---|---|---|
| 포토리소그래피 공정이란 무엇인가? | 이렇게 패턴 된 감광제(Photoresist)를 이용하여 후속 식각(Etching) 및 증착 공정을 진행하게 된다. 포토리소그래피 공정이란 마스크의 마이크로 패턴을 실리콘 기판 위의 감광제에 전사 시키는 과정을 의미하며, 도포된 감광제의 화학적 변화에 따라 노광 부분 또는 비노광 부분의 용해도 차이에 의해서 웨이퍼 상에 패턴이 형성된다. 최근 포토리소그래피 기술의 발전에 따라 사용자의 요구에 맞춰 해상도의 미세화가 요구되고 있으며, 마이크로 스케일과 나노스케일을 가지는 다양한 구조물 제작에 관심이 모아지고 있다. | |
| 이광자 중합법에 의한 레이저 리소그래피 방식을 이용했을 때 얻을 수 있는 이점은 무엇인가? | 이 기술은 근적외선 펨토초 레이저(near infrared femtosecond laser)와 같은 짧은 펄스를 내는 레이저를 감광제에 집속하여 비선형 현상에 의해 집속한 초점에서만 노광이 되는 것을 일컫는다. 이러한 기술은 마스크 없이 3차원 구조를 가지는 정교한 구조물을 만들 수 있으며, 희생층을 필요로 하는 전통적인 반도체 공정기술과는 차별성이 있어 다양하게 응용될 수가 있다. 이 글에서는 본 연구팀에서 의공학적인 활용을 위해 개발 중인 3차원 구조체에 주목하여 다양한 감광제(IP-DIP,SU-8)를 이용한 공정방법 및 응용 분야를 소개하고자 한다. | |
| MEMS 소자 및 시스템은 어느 분야에서 활용되는가? | 현재 우리의 일상생활에는 다양한 미세전자기계시스템(MEMS) 기반 제품들이 사용되고 있다. MEMS 소자 및 시스템은 휴대폰, 컴퓨터, 모바일 기기 등의 전자제품뿐만 아니라 자동차, 비행기 등의 대형 기계시스템에도 다양하게 적용 되고 있다. MEMS 소자의 효율성과 공정 수율을 향상시키기 위해서는 MEMS 공정에서 가공 정밀도를 높여야 하며, 이를 위해서는 포토리소그래피 공정 시의 선폭을 최소화하여야 한다. |
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