초록 ▼

소프트(유연) 기판에 2차원 면소재에 대하여 소프트 리소그래피 공정에 의해 500 nm ~ 2 mm의 패턴을 구현하였고 실크 기판에 CVD로 성장된 그래핀을 이 공정을 이용하여 패턴하여 가스 센서를 제작하였음. 이 공정과 융합한 하이브리드 리소그래피 공정으로 100 nm 수준의 그래핀 나노리본을 패턴하였음. 또한 SSL 기법을 이용하여 10 nm대의 금속 패턴을 구현하였고 이를 이용한 3차원 구조의 다양한 크기와 모양을 가진 구조를 패턴하였으며 유연 투명전극도 구현하였음. 용액공정이 가능한 기능화된 산화 그래핀의 분산 안정성이 2개

소프트(유연) 기판에 2차원 면소재에 대하여 소프트 리소그래피 공정에 의해 500 nm ~ 2 mm의 패턴을 구현하였고 실크 기판에 CVD로 성장된 그래핀을 이 공정을 이용하여 패턴하여 가스 센서를 제작하였음. 이 공정과 융합한 하이브리드 리소그래피 공정으로 100 nm 수준의 그래핀 나노리본을 패턴하였음. 또한 SSL 기법을 이용하여 10 nm대의 금속 패턴을 구현하였고 이를 이용한 3차원 구조의 다양한 크기와 모양을 가진 구조를 패턴하였으며 유연 투명전극도 구현하였음. 용액공정이 가능한 기능화된 산화 그래핀의 분산 안정성이 2개월 이상임을 확인하였으며 기능기에 따른 일함수가 -3.1 eV~-4.5 eV로 제어됨을 확인하였음. 이를 이용하여 OLED 및 OPV의 전하 전달층에 적용하여 고효율의 소자를 구현하였음.

(출처 : 보고서 요약서 3p)

Abstract ▼

Ⅳ. Research and development results
○ Functionalization of thin graphene layer surface over a large scale area: > 9 cases (Dispersion stability > 2 Months)
○ Pattering and transfer process of a large-scale graphene layer using PDMS and functional molecules. (500nm < Width < 2mm)
○ Nano-scal

Ⅳ. Research and development results
○ Functionalization of thin graphene layer surface over a large scale area: > 9 cases (Dispersion stability > 2 Months)
○ Pattering and transfer process of a large-scale graphene layer using PDMS and functional molecules. (500nm < Width < 2mm)
○ Nano-scale pattering of graphene layers using micro-scale patterns on PDMS as lens. : Gaphene widthness ~ 10 mm
○ Controlled work-function of graphene oxides by substituting various functional group : -4.5 eV ~ 3.18 eV
○ The fabrication of organic light-emitting diode using functionalized graphene oxide as charge injection layer and charge transfer layer :
- Max. current efficiency of OLED using functionalized graphene oxide as hole injection layer : 24.23 cd/A
- Max. current efficiency of inverted OLED using functionalized graphene oxide as electron injection layer : 8.5 cd/A
- Power conversion efficiency of inverted OPV using functionalized graphene oxide as electron injection layer : 3.32%
○ Transfering process of Pt patterns with 10~15 nm widthness by using BCP patterns as molds and applying SSL technique
○ Fabrication of various nanopattern by the process control of secondary sputtering lithography
○ Direct visualization of large-area graphene domains and boundaries by optical birefringency of liquid crystal

(출처 : SUMMARY 7p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 보고서 요약서 ... 3
• 요 약 문 ... 4
• S U M M A R Y ... 6
• C O N T E N T S ... 9
• 목차 ... 10
• 제 1 장 연구개발과제의 개요 ... 11
• 제 1 절 연구개발의 개요 및 필요성 ... 11
• 제 2 절 연구개발의 목표 및 내용 ... 15
• 제 2 장 국내외 기술개발 현황 ... 18
• 제 1 절 국내 기술개발 현황 ... 18
• 제 2 절 국외 기술개발 현황 ... 20
• 제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과 ... 24
• 제 1 절 그래핀 기반 나노 소재 합성 및 응용기술 ... 24
• 제 2 절 그래핀 패턴 기술 및 응용소자 제조 기술 ... 31
• 제 3 절 신개념 고해상도 패턴 기술 ... 42
• 제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 46
• 제 1 절 연구개발 목표 달성도 ... 46
• 제 2 절 1단계 연구개발의 자체평가 ... 49
• 제 5 장 연구개발결과의 활용계획 ... 52
• 제 6 장 연구개발 과정에서 수집한 해외과학기술 정보 ... 54
• 제 7 장 참고문헌 ... 57
• 끝페이지 ... 57