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제안 방법
- 5은 나노사이즈 피라미드의 유무에 따른 광학적 특성 변화를 분석한 데이터이다. 나노사이즈 피라미드를 제작하지 않은 기판과 제작한 기판에 각각 PE-CVD 공정을 이용하여 80 nm 두께의 반사방지막 코팅을 진행 한 후 반사율을 측정하였다. 그 결과, 나노사이즈 피라미드를 제작하지 않은 기판의 경우 350~1050 nm 파장대 영역에서 9.
- 제작된 나노 피라미드 구조는 field emission scanning electron microscope (FE-SEM, FEI)을 이용하여 분석하였다. 또한, 제작된 나노 피라미드의 광특성을 분석하기 위하여 Perkin Elmer Lambda 750 UV/Vis/NIR spectrophotometer를 적분구와 함께 이용하여 측정하였다.
- 본 연구에서는 공정비용이 저렴한 무전해 식각법과 추가적인 alkali-based 식각법을 이용하여 mc-Si 기판에 나노크기의 피라미드 구조체를 성공적으로 제작하였다. 나노크기의 피라미드구조체는 장파장 영역에서의 광반사율을 크게 감소시키는 것으로 분석되었다.
- 이에 본 연구에서는, 값비싼 진공장비 없이 wet-hood 안에서 공정이 진행되는 무전해 식각법과 추가적인 alkali-based 식각법을 통하여 mc-Si 표면에 나노사이즈의 피라미드 구조체를 제작하였다. 이를 통하여 균일한 상부전극 형성이 가능하며, mc-Si 태양전지의 단점인 낮은 광흡수율도 높일 수 있는 나노사이즈 피라미드 구조체 최적화 연구를 실행하였다.
- 이에 본 연구에서는, 값비싼 진공장비 없이 wet-hood 안에서 공정이 진행되는 무전해 식각법과 추가적인 alkali-based 식각법을 통하여 mc-Si 표면에 나노사이즈의 피라미드 구조체를 제작하였다. 이를 통하여 균일한 상부전극 형성이 가능하며, mc-Si 태양전지의 단점인 낮은 광흡수율도 높일 수 있는 나노사이즈 피라미드 구조체 최적화 연구를 실행하였다.
- 입사광의 흡수율을 극대화하기 위하여 plasma enhanced chemical vapor deposition (PE-CVD) 을 이용하여 반사방지막 층을 증착하였다. 본 실험에 적용된 반사방지막은 80 nm 두께의 SiNX:H 박막으로 2.
대상 데이터
- 200 μm 두께의 mc-Si 웨이퍼(ρ=0.5-3.0 Ω · cm)를 40×40 mm2 크기로 잘라 기판을 준비하였다.
- 입사광의 흡수율을 극대화하기 위하여 plasma enhanced chemical vapor deposition (PE-CVD) 을 이용하여 반사방지막 층을 증착하였다. 본 실험에 적용된 반사방지막은 80 nm 두께의 SiNX:H 박막으로 2.1의 굴절률을 가지며, 이는 최적화된 조건으로 보고되어 있다9).
데이터처리
- 제작된 나노 피라미드 구조는 field emission scanning electron microscope (FE-SEM, FEI)을 이용하여 분석하였다. 또한, 제작된 나노 피라미드의 광특성을 분석하기 위하여 Perkin Elmer Lambda 750 UV/Vis/NIR spectrophotometer를 적분구와 함께 이용하여 측정하였다.
이론/모형
- 표면의 나노사이즈 피라미드 구조는 wet-based 공정으로 Ag nano particle을 이용한 무전해 식각법과 KOH를 이용한 추가적인 alkali-based 식각법을 통하여 제조되었다. 200 μm 두께의 mc-Si 웨이퍼(ρ=0.
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