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[국내논문] 다양한 양극산화 공정조건에 따른 롤 금형 표면에 형성되는 나노포어 형상에 대한 연구
Investigation of Nanopore Shape Formed on an Aluminum Roll Mold with Various Anodizing Conditions 원문보기

한국생산제조학회지 = Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers, v.26 no.2, 2017년, pp.166 - 171  

류인곤 (Department of Advanced Mechanical Engineering (Mechatronics Engineering), Kangwon National University) ,  한의돈 (Department of Advanced Mechanical Engineering (Mechatronics Engineering), Kangwon National University) ,  김병희 (Department of Advanced Mechanical Engineering (Mechatronics Engineering), Kangwon National University) ,  서영호 (Department of Advanced Mechanical Engineering (Mechatronics Engineering), Kangwon National University)

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This study analyzes the effect of anodizing conditions on nanopore formation on a cylindrical aluminum roll. In general, a nanopore is formed at the center of a concave base-pattern. Occasionally, multiple nanopores are formed on a single base-pattern. However, to control the diameter and interpore ...

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문제 정의

  • 하지만 원통형 롤에 나노다공성 알루미나 구조를 제작하기 위한 알루미늄 양극산화 공정 시에 하나의 베이스패턴에 단일 나노포어가 형성되지 않고, 여러 개의 다중 나노포어가 형성되어 반사방지막 제작을 위한 성형 공정 시이형이 잘 되지 않는 문제를 발생시키며 투과율 및 반사율의 효율이 낮아지는 문제점을 발견하였다. 따라서 본 연구에서는 원통형 롤 알루미늄 양극산화 공정 시 영향을 미치는 중요한 파라미터들에 대하여 공정을 수행하고, 공정조건이 나노포어 형상에 미치는 영향에 대하여 분석하였다.
  • 본 연구에서는 원통형 롤에 나노 다공성 알루미나 구조 제작을 위한 알루미늄 양극산화 공정 시 형성되는 다중 나노포어를 제거하기 위하여 나노포어 형상에 영향을 미치는 중요한 파라미터인 대전극 면적, 전해액 농도에 대한 영향과 나노포어 간격 조절을 위한 원통형 롤 회전속도의 영향을 분석하였다. 알루미늄 양극산화 공정 시 대전극 면적과 전해액 농도가 증가함에 따라 전체 베이스 패턴 중 단일 나노포어의 비율이 각각 62.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
반사방지 기능이란 무엇인가? 나노구조를 이용한 연구 분야는 센서, 바이오, 광학 등 다양한 분야에서 이루어지고 있으며, 나방눈 효과에 의한 반사방지 기능을 이용한 연구가 활발히 진행되고 있다[1-7] . 반사방지 기능이란 빛의 투과를 높이고 반사를 줄이기 위한 것으로, 기존에는 코팅기법을 이용하여 높은 투과효율이 요구되는 모재의 표면에 모재보다 굴절률이 높은 재질과 낮은 재질을 순차적으로 적층하여 전체 가시광선 영역에서 광투과율을 높이거나, 임의 파장을 선택적으로 투과 또는 반사 시키는 방법을 이용한다[8]. 하지만 적층방식은 특정 입사각과 좁은 범위의 파장 영역에서 효과가 좋기 때문에 나노구조물을 이용한 반사방지막에 비해 효율이 떨어진다.
나노구조물을 이용한 반사방지막은 어떤 상태에서 효과적인가? 하지만 적층방식은 특정 입사각과 좁은 범위의 파장 영역에서 효과가 좋기 때문에 나노구조물을 이용한 반사방지막에 비해 효율이 떨어진다. 나노구조물을 이용한 반사방지막은 넓은 입사각의 범위와 파장 영역에서 높은 반사방지효과를 보인다[9]. 나노구조물을 성형하기 위한 몰드는 알루미늄 양극산화 공정을 이용하여 나노 다공성 알루미나 구조를 제작하게 되는데, 기존의 규칙적인 나노 구조물 제작을 위해 사용되던 실리콘을 이용한 반도체 식각 공정, 전자빔 리소그래피(E-beam lithography) 공정에 비해 적은 예산과 시간으로 나노 구조물을 쉽게 제작할 수 있다[10].
나노 다공성 알루미나 구조의 장점은 무엇인가? 나노구조물을 성형하기 위한 몰드는 알루미늄 양극산화 공정을 이용하여 나노 다공성 알루미나 구조를 제작하게 되는데, 기존의 규칙적인 나노 구조물 제작을 위해 사용되던 실리콘을 이용한 반도체 식각 공정, 전자빔 리소그래피(E-beam lithography) 공정에 비해 적은 예산과 시간으로 나노 구조물을 쉽게 제작할 수 있다[10]. 또한 평면 기판에만 나노 패턴 구현이 가능하다는 것에 비해 알루미늄 양극산화 공정은 원통형 기판에 나노 패턴 구현이 가능하여 몰드로 제작 시에 생산성을 높일 수 있는 장점이 있다. 원통형 롤 몰드를 이용하여 나노구조물을 성형하는 공정으로는 롤투롤(roll to roll) 임프린트 공정을 이용하는데, 이 공정은 원통형 롤을 회전시켜가며 연속적으로 필름 상에 나노 구조물을 성형 할 수 있고, 연속 공정이기 때문에 저렴한 비용과 높은 생산성의 장점을 갖는다[11].
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참고문헌 (11)

  1. Wu, G. M., Yen, C. C., Chien, H. W., Lu, H. C., Chang, T. W., Nee, T. E., 2011, Effects of Nano-structured Photonic Crystals on Light Extraction Enhancement of Nitride Light-emitting Diodes, Thin Solid Films, 519 5074-5077. 

  2. Kim, S. H., Lee, K. D., Kim, J. Y., Kwon, M. K., Park, S. J., 2007, Fabrication of Photonic Crystal Structures on Light Emitting Diodes by Nanoimprint Lithography, Nanotechnology, 18 055306 (5pp). 

  3. Jiao, F., Huang, Q., Ren, W., Zhou, W., Qi, F., Zheng, Y., Xie, J., 2013, Enhanced Performance for Solar Cells with Moth-eye Structure Fabricated by UV Nanoimprint Lithography, Microelectronic Engineering, 103 126-130. 

  4. Deniz, H., Khudiyev, T., Buyukserin, F., Bayindir, M., 2011, Room Temperature Large-area Nanoimprinting for Broadband Biomimetic Antireflection Surfaces, Appl. Phys. Lett., 99 183107. 

  5. Stavenga, D. G., Foletti, S., Palasantzas, G., Arikawa, K., 2006, Light on the Moth-eye Corneal Nipple Array of Butterflies, Proc. R. Soc. B, 273 661-667. 

  6. Shin, H. G., Park, Y. M., Seo, Y. H., Kim, B. H., 2009, Fabrication of Nano Master with Anti-reflective Surface Using Aluminum Anodizing Process, Journal of the Korean Society of Machine Tool Engineers, 18:6 697-701. 

  7. Park, Y. M., Seo, S. H., Seo, Y. H., Kim, B. H., 2015, Fabrication of Nanopatterned PDMS Elastic Stamp Mold Using Surface Treatment of Nanotemplate, Journal of the Korean Vacuum Society, 24:1 038-042. 

  8. Gim, T. J., Lee, B. J., Shina, P. K., 2010, Anti-reflection Coating Application of Si x O y-Si x N y Stacked-Layer Fabricated by Reactive Sputtering, Journal of the Korean Vacuum Society, 19:5 341-346. 

  9. Koo, H. Y., Yi, D. K., Yoo, S. J., Kim, D. Y., 2004, A Snowman-like Array of Colloidal Dimers for Antireflecting Surfaces, Adv. Mater., 16:3 274-277. 

  10. Shin, H. G., Kwon, J. T., Seo, Y. H., Kim, B. H., 2008, Development of 3d Micro-nano Hybrid Patterns using Anodized Aluminum and Micro-indentation, Thin Solid Films, 516 6438-6443. 

  11. Han, J., Choi, S., Lim, J., Lee, B. S., Kang, S., 2009, Fabrication of Transparent Conductive Tracks and Patterns on Flexible Substrate using a Continuous UV Roll Imprint Lithography, J. Phys. D: Appl. Phys., 42:11 115503. 

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