최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기열처리공학회지 = Journal of the Korean society for heat treatment, v.30 no.3, 2017년, pp.113 - 116
송영환 (울산대학교 첨단소재공학부) , 엄태영 (울산대학교 첨단소재공학부) , 천주용 (한국생산기술연구원 울산지역본부) , 차병철 (한국생산기술연구원 울산지역본부) , 최동혁 (동국실업주식회사) , 손동일 (동국실업주식회사) , 김대일 (울산대학교 첨단소재공학부)
100 nm thick Sn doped ZnO (ZTO) single layer, 15 nm thick Ag buffered ZTO (ZTO/Ag), Ag intermediated ZTO (ZTO/Ag/ZTO) and Ag capped ZTO (Ag/ZTO) films were prepared on poly-carbonate (PC) substrates by RF and DC magnetron sputtering and then the influence of the Ag thin film on the optical and elect...
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
---|---|---|
투명전도성 산화물이 용사(Spray) 또는 물리적 기상 증착( PVD) 공정을 통한 차세대 차량용 핵심소재로 연구되고 있는 이유는? | 최근 인듐산화물(In2O3) 또는 주석산화물(SnO2) 등의 투명전도성 산화물(Transparent CondictingOxide, TCO)은 높은 가시광 투과도, 낮은 적외선투과율(저방사특성) 그리고 우수한 전기전도도 특성을 동시에 갖기 때문에 용사(Spray) 또는 물리적 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD) 공정을 통한 차세대 차량용 핵심소재로 연구되고 있다. 특히 넓은 광학적 밴드-갭을 갖는 2-6족 화합물 반도체인 ZnO에 Sn이 첨가된 ZTO 박막은 In2O3보다 높은 가격경쟁력과 화학적 안정성이 보고되어, In2O3의 효율적인 대체재로 개발되고 있다[1]. | |
투명전도성 산화물에는 무엇이 있는가? | 최근 인듐산화물(In2O3) 또는 주석산화물(SnO2) 등의 투명전도성 산화물(Transparent CondictingOxide, TCO)은 높은 가시광 투과도, 낮은 적외선투과율(저방사특성) 그리고 우수한 전기전도도 특성을 동시에 갖기 때문에 용사(Spray) 또는 물리적 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD) 공정을 통한 차세대 차량용 핵심소재로 연구되고 있다. 특히 넓은 광학적 밴드-갭을 갖는 2-6족 화합물 반도체인 ZnO에 Sn이 첨가된 ZTO 박막은 In2O3보다 높은 가격경쟁력과 화학적 안정성이 보고되어, In2O3의 효율적인 대체재로 개발되고 있다[1]. | |
Ag 금속층의 위치에 따른 ZTO 박막의 FOM 수치를 비교한 결과는 어떠한가? | 15 nm 두께의 Ag 박막이 ZTO 층간에 삽입된 적층형 박막이 ZTO 단층박막보다 평탄한 표면거칠기를 가졌으며, 광학적 특성 또한 단일 ZTO 박막 보다 높은 가시광투과도를 보였다. Ag 금속층의 위치에 따른 박막의 FOM 수치를 비교한 결과, Ag 박막이 중간에 삽입된 ZTO 박막이 가장 우수한 전기적, 광학적 완성도를 보였으며 경량성과 유연성을 갖는 차량용 플렉시블 투명전극재로 ZTO 단층박막 보다 Ag 중간층을 채용한 ZTO/Ag/ZTO 박막이 유용함을 알 수 있었다. |
S. H. Kim and D. Kim : Ceramic Inter. 41 (2015) 2770.
H. Shin, K. Kim, T. Kim and H. Kim : Cerami Inter. 42 (2016) 13983.
N. Meshram, C. Loka, K. R. Park and K. Lee : Mater. Lett. 145 (2015) 120.
Y. S. Kim, J. H. Park and D. Kim : Vacuum 82 (2008) 574.
J. H. Park, J. H. Chae and D. Kim : J. Alloy. Compd. 478 (2009) 330.
X. Ding, J. Yan, T. Li and L. Zhang : Vacuum 86 (2011) 443.
B. Kim, K. Lee, H. Kang, T. Lee, S. Oh, J. Lee and J. Song : Trans. Electr. Electron. Mater. 20 (2007) 1044.
G. Haacke : J. Appl. Phys. 47 (1976) 4086.
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
Free Access. 출판사/학술단체 등이 허락한 무료 공개 사이트를 통해 자유로운 이용이 가능한 논문
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.