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F4-TCNQ 분자를 정공 수송층에 이용한 유기 발광 소자의 전기적 특성 향상
Enhancement of Electrical Properties of Organic Light-Emitting Diodes Using F4-TCNQ Molecule as a Hole-Transport Layer 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.30 no.11, 2017년, pp.717 - 721  

나수환 (홍익대학교 정보디스플레이공학과) ,  이원재 (가천대학교 전자공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We studied the performance enhancement of organic light-emitting diodes (OLEDs) using 2,3,5,6-fluoro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane ($F_4-TCNQ$) as the hole-transport layer. To investigate how $F_4-TCNQ$ affects the device performance, we fabricated a reference device in an I...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 실험에서는 정공수송층으로 TPD만을 이용한 것에 비하여 F4-TCNQ-유도체를 사용한 유기 발광소자의 전기적 특성을 비교하여 보았다.

가설 설정

  • 5 nm)/Al 소자에서 (a) 전압-전류 특성, (b) 전압-휘도 특성, 그리고 (c) 전압-전류 효율 특성을 측정한 결과이다. 그림 4(a)와 4(b)를 보면, F4-TCNQ 층의 두께가 두꺼워질수록 전류 밀도와 휘도가 증가하고 있다. 또한, 그림 4(b)를 보면, F4-TCNQ 층이 있는 소자는 두께 크기에 상관없이 turn-on 전압이 F4-TCNQ가 없을 때의 5.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
TCNQ-유도체의 특성은? 정공 수송층으로 2,3,5,6-fluoro-7,7,8,8-tetra-cyanoquinodimethane (F4-TCNQ)을 도핑한 4,4’ ,4”-tris(N,N-diphenyl-amino) triphenylamine (TDATA)을 사용하여 정공 주입 향상과 정공 수송층의 높은 전도도와 전하 운반자의 전하 밀도를 제어할 수 있는 연구가 Zhou 연구팀에 의해 보고되었다 [6]. TCNQ-유도체는 p-형 도펀트로서 방향족기인 시아노기(cyano-group: CN)와 결합하여 강한 전자 끌게 특성을 갖게 된다. 이 물질을 정공 수송층으로 이용하면, 유기물층의 전도도가 향상되며 이에 따라 소자의 특성이 향상된다는 연구가 보고되었다 [7].
유기 발광 소자에서 고효율의 소자를 구현하기 위해 매우 중요한 요인은? 이러한 유기물 디스플레이 산업이 더욱 확산되기 위해서는 새로운 유기 재료의 개발에 따른 소자의 공정기술이 지속적으로 연구되어야 할 것이다. 특히, 유기 발광 소자에서 고효율의 소자를 구현하기 위해서는 낮은 구동 전압, 낮은 소비 전력이 매우 중요한 요인이 된다. 이러한 소자를 구현하기 위해서는 양전극과 음전극에서 수송층으로의 원활한 전하 주입과 수송층에서의 전하 이동도 향상은 고효율의 소자 개발이라는 면에서 매우 중요하다.
고효율의 소자에서 유기물 도핑을 할 경우 미치는 영향은? 이러한 고효율의 소자는 다층 구조를 통한 성능을 개선할 뿐만 아니라, 유기물 도핑을 통해서도 연구되기도 한다. 도핑을 통하여, 옴성 접촉 전도층이 형성하게 되면 수송층에서의 전압 강하를 낮출 수 있게 되고, 옴성 접촉면 근처의 도핑 준위를 높임으로써 형성된 얇은 공간 전하층은 효율적인 터널링으로 동작되어 전하 주입을 향상시킬 수 있도록 해준다 [4,5].
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참고문헌 (7)

  1. C. W. Tang and S. A. VanSlkye, Appl. Phys. Lett., 51, 913 (1987). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.98799] 

  2. L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett., 70, 152 (1997). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.118344] 

  3. L. S. Hung, C. W. Tang, M. G. Mason, P. Raychaudhuri, and J. Madathil, Appl. Phys. Lett., 78, 544 (2001). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.1327273] 

  4. C. Williams, S. Lee, J. Ferraris, and A. A. Zakhidov, J. Lumin., 110, 396 (2004). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2004.08.038] 

  5. M. K. Fung, K. M. Lau, S. L. Lai, C. W. Law, M. Y. Chan, C. S. Lee, and S. T. Lee, J. Appl. Phys., 104, 034509 (2008). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.2942408] 

  6. X. Zhou, J. Blochwitz, M. Pfeiffer, A. Nollau, T. Fritz, and K. Leo, Adv. Funct. Mater., 11, 310 (2001). [DOI: https://doi.org/10.1002/1616-3028(200108)11:4 3.0.CO;2-D] 

  7. M. A. Khan, W. Xu, Khizar-ul-Haq, Y. Bai, X. Y. Jiang, Z. L. Zhang, and W. Q. Zhu, Semicond. Sci. Technol., 23, 055014 (2008). [DOI: https://doi.org/10.1088/0268-1242/23/5/055014] 

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