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대전방지용 Al2O3-SiC 복합세라믹 소결체의 제조 및 특성
Fabrication and Characterisitics of Al2O3-SiC Ceramic Composites for Electrostatic Discharge Safe Components 원문보기

한국분말야금학회지 = Journal of Korean Powder Metallurgy Institute, v.25 no.2, 2018년, pp.144 - 150  

김하늘 (한국기계연구원 부설 재료연구소 엔지니어링세라믹연구실) ,  오현명 (한국기계연구원 부설 재료연구소 엔지니어링세라믹연구실) ,  박영조 (한국기계연구원 부설 재료연구소 엔지니어링세라믹연구실) ,  고재웅 (한국기계연구원 부설 재료연구소 엔지니어링세라믹연구실) ,  이현권 (금오공과대학교 신소재공학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

$Al_2O_3-SiC$ ceramic composites are produced using pressureless sintering, and their plasma resistance, electrical resistance, and mechanical properties are evaluated to confirm their applicability as electrostatic-discharge-safe components for semiconductor devices. Through the addition...

주제어

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문제 정의

  • 5 vol% 로 사료된다. 따라서, Al2O3-17.5 vol% SiC 복합재료의 미세구조를 보다 상세하게 분석하고자 하였다. 그림 4는 복합세라믹 시편의 파단면을 나타내고 있는데, 전반적인 파괴양상을 보면 거의 입내 파괴가 일어난 것으로 보인다.
  • 본 연구는 상기 설명한 문제점을 해결하기 위하여, 10vol% 이상의 SiC를 함유한 Al2O3-SiC 복합재료를 액상 이온으로 구성된 소결조제를 함침하는 방법을 통해 상압소결만으로 치밀화하고자 하였으며, 이를 통해 SiC 의 첨가량에 따른 소결거동, 기계적 강도, 전기저항, 내플라즈마성을 평가하여 대전방지용 세라믹 부품에 적용하기 위한 기본적인 가이드라인을 제시하고자 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
반도체 공정에 사용되는 저항성이 우수한 세라믹은 어떤 것이 있는가? 세라믹은 일반적으로 우수한 기계적 물성과 화학적 안정성을 가지고 있어서 반도체 공정 장치의 내구성 부품으로 많이 사용되고 있다. 특히 반도체 공정에서는 플라즈마 형태의 불화물에 노출되기 때문에 이에 대한 저항성이 우수한 Al2O3, Y2O3, YAG (Y3Al5O12) 등의 세라믹이 흔히 사용되고 있다[1-6].
전도성 폴리머의 단점은? 축적된 정전기를 빠르게 해소해 줄 수 있는 부품의 경우, 통상적으로는 전도성 폴리머를 세라믹 위에 코팅을 하는 방식을 사용하고 있다. 그러나, 전도성 폴리머는 기계적 강도, 내열특성, 플라즈마 노출환경에 취약하여 일정 기간 사용 후에는 코팅이 손상되므로 주기적으로 교체를 해 주어야 하는 단점이 존재한다[8].
Al2O3-SiC 세라믹 복합소재 제조에 사용되는 소결 조제 중 적은 양으로도 이전과 동일한 수준의 치밀화를 얻을 수 있는 것은? 이 소결조제들은 일반적으로 액상소결을 유도하여 소결온도를 낮추는 데 기여하는 것으로 알려져 있다. 또한, MgO와 Y2O3를 함께 소결 조제로 사용하면 적은 양으로도 동일한 수준의 치밀화를 얻을 수 있는 것으로 알려져 있다[10].
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참고문헌 (26)

  1. D.M. Kim, S.Y. Yoon, K.B. Kim, H.S. Kim, Y.S. Oh and S.M. Lee: J. Kor. Ceram. Soc., 45 (2008) 707. 

  2. K.B. Kim, D.M. Kim, J.K. Lee, Y.S. Oh, H.T. Kim, H.S. Kim and S.M. Lee: J. Korean Ceram. Soc., 46 (2009) 456. 

  3. H.K. Lee, K.S. Cho and M.Y. Kim: J. Korean. Ceram. Soc., 46 (2009) 385. 

  4. D.M. Kim, S.M. Lee, S.W. Kim, H.T. Kim and Y.S. Oh: J. Korean. Ceram. Soc., 45 (2008) 405. 

  5. M. Mitomo, Y. Sato, I. Yashima, M. Tsutsumi: J. Mater. Sci. Lett. 10 (1990) 83. 

  6. J. Iwasawa, R. Nishimizu, M. Tokita and M. Kiyohara: J. Am. Ceram. Soc., 90 (2007) 2327. 

  7. J.H. Jeong and D.S. Woo: J. Korea Acad. Industr. Coop. Soc., 19 (2018) 603. 

  8. O.H. Kwon, C. Coureau, R.A. Gorski and M.A. Simpson: USA, US 8516857 (2013) 

  9. C.C. Anya: J. Mater. Sci., 34 (1999) 5557. 

  10. Y.K. Jeong, A. Nakahira and K. Niihara: J. Am. Ceram. Soc., 82 (1999) 3609. 

  11. C.C. Anya and S.G. Roberts: J. Eur. Ceram. Soc., 17 (1997) 565. 

  12. S. Gustafsson, L.K.L. Falk, E. Liden and E. Carlstrom: Ceram. Int., 34 (2008) 1609. 

  13. H.Z. Wang, L. Gao and L.K Guo: Ceram. Int., 26 (2000) 391. 

  14. H. Reveron, O. Zaafrani and G. Fantozzi: J. Eur. Ceram. Soc., 30 (2010) 1351. 

  15. A. Sawaguchi, K. Toda and K. Niihara: J. Ceram. Soc. Jpn., 99 (1991) 523. 

  16. M. Parchoviansky, D. Galusek, P. Svancarek, J. Sedlacek and P. Sajgalik: Ceram. Int., 40 (2014) 14421. 

  17. J. Sedlacek, D. Galusek, R. Riedel and M.J. Hoffmann: Mater. Lett., 65 (2011) 2462. 

  18. A. Borrell, I. Alvarez, R. Torrecillas, V.G. Rocha and A. Fernandez: Mater. Sci. Eng., A 534 (2012) 693. 

  19. C.E. Borsa, H.S. Ferreira and R.H.G.A. Kiminami: J. Eur. Ceram. Soc., 19 (1999) 615. 

  20. S. Rasouli, E. Taheri-Nassaj and S.A. Hassanzadeh- Tabrizi: Ceram. Int., 39 (2013) 3931. 

  21. J.Y. Kim, T. Iseki and T. Yano: J. Ceram. Soc. Jpn., 105 (1997) 837. 

  22. N. Hidaka and Y. Hirata: Colloidal ceramic processing of Nano-,micro-, and macro-particulate systems, Wiley & Sons, Inc. (2012) 101. 

  23. V. Heera, D. Panknin and W. Skorupa: Appl. Surf. Sci., 184 (2001) 307. 

  24. A. Sawaguch, K. Toda and K. Niihara: J. Am. Ceram. Soc., 74 (1991) 1142. 

  25. M.R. Jang, Y.K. Paek and S.M. Lee: J. Kor. Ceram. Soc., 49 (2012) 328. 

  26. C.P. Dogan and J.A. Hawk: Wear 250 (2001) 256. 

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