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NTIS 바로가기한국산학기술학회논문지 = Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society, v.19 no.6, 2018년, pp.160 - 166
손창우 (인천대학교 기계공학과) , 서태일 (인천대학교 기계공학과) , 김광희 (천경제산업정보테크노파크) , 이선용 ((주)유니락)
The worldwide semi-conductor market has been growing for a long time. Manufacturing lines of semi-conductors need to handle several types of toxic gases. In particular, they need to be controlled accurately in real time. This type of toxic gas control system consists of many different kinds of parts...
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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반도체제조공정에 사용되는 주요 재료중 하나인 가스는 어느 분야에 사용되는가 | 반도체제조공정에 사용되는 주요 재료중 하나인 가스는 엑피택셜성장, 도핑, 에칭 및 세정, 박막공정에 필수적으로 사용되고 있다. 이때 사용되는 가스중 불순물이 있을 경우 반도체제품의 부식과 결함을 유발할 수 있고, Si의 이상성장 및 성장속도를 지연시킨다. | |
반도체공정에 사용되는 재료가스는 초고순도를 요구하기 때문에 공급 시 주의해야 할 점은? | 99%) 을 요구한다. 그러므로 반도체 재료가스를 공급할 때에는 불순물의 오염 없이 안전하게 공급이 되어야한다 [1]. 현재 국내 반도체 제조공정에서 사용되고 있는 강산성 액체는 인체에 매우 유해하며, 누수에 의한 경제적 손실 및 사고의 위험성이 잔존하고 있다. | |
일반적으로 반도체공정에 사용되는 재료가스의 순도는 어느 수준을 요구하는가 | 이때 사용되는 가스중 불순물이 있을 경우 반도체제품의 부식과 결함을 유발할 수 있고, Si의 이상성장 및 성장속도를 지연시킨다. 일반적으로 반도체공정에 사용되는 재료가스는 초고순도(99.99%) 을 요구한다. 그러므로 반도체 재료가스를 공급할 때에는 불순물의 오염 없이 안전하게 공급이 되어야한다 [1]. |
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