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유동해석을 통한 유체제어벨브 시스템의 내부 유동 특성 분석
Numerical Analysis of Flow Characteristies inside innes part of Fluid Control Valve System 원문보기

한국산학기술학회논문지 = Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society, v.19 no.6, 2018년, pp.160 - 166  

손창우 (인천대학교 기계공학과) ,  서태일 (인천대학교 기계공학과) ,  김광희 (천경제산업정보테크노파크) ,  이선용 ((주)유니락)

초록
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세계적으로 반도체장비 시장은 오래전부터 성장하고 있다. 유체제어시스템은 반도체 제조 장비에 사용되어지는 배관을 집적화시켜 유체의 공급을 제어할 수 있도록 모듈화, 소형화한 시스템이다. 반도체의 제조공정은 여러 종류의 맹독성 가스를 필수적으로 다루어야 한다. 특히 실제 작업 공정에서는 이러한 맹독성 가스의 정밀한 제어가 필요하다. 이러한 맹독성가스를 제어하는 시스템은 피팅, 밸트, 튜브, 필터, 레귤레이터 등 다양한 부품들로 구성되어 있다. 이 부품들은 누출 없이 고압 가스를 계속 제어해야 하기 때문에 정밀하게 제조되어야 하고 내부식성이 있어야 한다. 이를 위해 금속 블록 및 금속 가스킷의 표면 가공 및 경화 기술을 연구해야 한다. 본 논문에서는 이러한 유체제어시스템에서 가장 기본이 되는 V-Block의 직경, 유량, 각도를 다르게 설계하여 내부에서 어떠한 유동흐름을 보이는지 파악하고자 하며, 유체제어시스템에서 가장 기본이 되는 유체제어벨브 시스템의 내부 유동해석을 통하여 안정적인 유량을 공급할 수 있는 설계의 최적화에 대해 연구하고 분석하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The worldwide semi-conductor market has been growing for a long time. Manufacturing lines of semi-conductors need to handle several types of toxic gases. In particular, they need to be controlled accurately in real time. This type of toxic gas control system consists of many different kinds of parts...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 유체제어시스템은 여러개의 Block으로 이루어져있는 시스템이다. 본 논문에서는 가장 기본이 되는 V-Block을 유체 해석을 통해 직경, 유량, 각도에 따른 분석을 하고 전체 시스템의 유동 특성과 유량변화를 비교하여 가장 효과적인 형상을 설계하였다 [5,6]. Fig.
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핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
반도체제조공정에 사용되는 주요 재료중 하나인 가스는 어느 분야에 사용되는가 반도체제조공정에 사용되는 주요 재료중 하나인 가스는 엑피택셜성장, 도핑, 에칭 및 세정, 박막공정에 필수적으로 사용되고 있다. 이때 사용되는 가스중 불순물이 있을 경우 반도체제품의 부식과 결함을 유발할 수 있고, Si의 이상성장 및 성장속도를 지연시킨다.
반도체공정에 사용되는 재료가스는 초고순도를 요구하기 때문에 공급 시 주의해야 할 점은? 99%) 을 요구한다. 그러므로 반도체 재료가스를 공급할 때에는 불순물의 오염 없이 안전하게 공급이 되어야한다 [1]. 현재 국내 반도체 제조공정에서 사용되고 있는 강산성 액체는 인체에 매우 유해하며, 누수에 의한 경제적 손실 및 사고의 위험성이 잔존하고 있다.
일반적으로 반도체공정에 사용되는 재료가스의 순도는 어느 수준을 요구하는가 이때 사용되는 가스중 불순물이 있을 경우 반도체제품의 부식과 결함을 유발할 수 있고, Si의 이상성장 및 성장속도를 지연시킨다. 일반적으로 반도체공정에 사용되는 재료가스는 초고순도(99.99%) 을 요구한다. 그러므로 반도체 재료가스를 공급할 때에는 불순물의 오염 없이 안전하게 공급이 되어야한다 [1].
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참고문헌 (9)

  1. J.T. Han, T.H. Lee, D.S. Park, M.R. Son, The Role of Material Gases and Gas Supply System Applied in Semiconductor Process, The Korean Institute of Gas, pp. 292-301, 1997. 

  2. G.H. Lee, E.S. Lee, M.K. Lee, J.S. Kim, I.J. Bae, Internal Flow Analysis and Structural Design in Plastic Automatic Control Valve for the Semiconductor Chemical Liquid, Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers, 2012. 

  3. J. A. Davis, M.Stewart, Predicting Globe Control Valve Performance Part 1:CFD Modeling, ASME Journal of Fluids Engineering, vol. 124, pp. 772-777, 2002. DOI: https://doi.org/10.1115/1.1490126 

  4. J. A. Davis, M. Stewart, Predicting Globe Control Valve Perfomance Part: Experimental Verification, ASME Journal of Fluids Engineering, Vol. 124, pp. 778-783, 2002. DOI: https://doi.org/10.1115/1.1490126 

  5. Y.R. Lee, S.K. Gi, S.G. Jang, Jang, M. J. Do, A Study on Flow Characteristics with the Variation of Fluid Pipe Line in Hydrogen Regulator, Korean Society for Precision Engineering, pp. 939-940, 2017. 

  6. M.H.Chung, S.M. Yang, H.Y. Lee, 3D Flow Analysis of Globe Valve with Air Operated Actuator, Korean Society For Fluid Machinery, pp. 7-13, 2005. DOI: https://doi.org/10.5293/KFMA.2005.8.4.007 

  7. C. W. Kang, K. S. Yang, "REYNOLDS NUMBER EFFECTS ON TURBULENT PIPE FLOW PART1. MEAN FLOW FIELD AND LOW-ORDER STATISTICS," Journal of Computational Fluids Engineering, 2011. 

  8. J. Kim, P. Moin, R. Moser, "Turbulence statics in fully developed channel flow at low Reynolds number," J. Fluid Mech, 1987. DOI: https://doi.org/10.1017/S0022112087000892 

  9. S.H. Yoo, B.G. Huh, D.G. Kang, K.W. Seul, Flow Analysis of Gas Transport Test in the Safety System Piping, The Korean Society of Mechanical Engineers, pp. 4153-4157, 2013. 

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