[논문]무기막 NiOx의 정렬 패턴 전사를 이용한 액정의 배향 특성 연구

오병윤

doi:10.4313/jkem.2019.32.5.357

무기막 NiOx의 정렬 패턴 전사를 이용한 액정의 배향 특성 연구
A Study on the Liquid Crystal Orientation Characteristics of the Inorganic NiOx Film with Aligned Nanopattern Using Imprinting Process 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.32 no.5, 2019년, pp.357 - 360

오병윤 (BMC Co., Ltd.)

Abstract ▼ AI-Helper

We demonstrate an alignment technology using an imprinting process on an inorganic NiOx film. The aligned nanopattern was fabricated on a silicon wafer by laser interference lithography. The aligned nano pattern was then imprinted onto the sol-gel driven NiOx film using an imprinting process at an annealing temperature of $150^{\circ}C$. After the imprinting process, parallel grooves had been formed on the NiOx film. Atomic force microscopy and water contact angle measurements were performed to confirm the parallel groove on the NiOx film. The grooves caused liquid crystal alignment through geometric restriction, similar to grooves formed by the rubbing process on polyimide. The liquid crystal cell exhibited a pretilt angle of $0.2^{\circ}$, which demonstrated homogeneous alignment.

주제어

표/그림 (6)

그림 Fig. 1. Schematic of the fabrication of imprinted NiOx film and LC cells based on imprinted NiOx film.
그림 Fig. 2. POM images of LC cells based on NiOx film (a) after and (b) before imprinting process.
그림 Fig. 3. Transmittnace vs light incident angle of the LC cell based on imprinted NiOx film.
그림 Fig. 4. 3D-AFM images of NiOx film deposited on glass substrates (a) before and (b) after imprinting process annealed at 250℃.
그림 Fig. 5. Surface profile on imprinted NiOx film along (a) the Y-Z axis and (b) the X-Z axis.
그림 Fig. 6. Water contact angle of NiOx film deposited on glass substrates (a) before and (b) after imprinting process annealed at 250℃.

AI 본문요약
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문제 정의

본 논문에서 정렬 패턴을 전사한 NiOx 박막을 이용 하여 액정셀을 제작하고 균일한 액정 배향 특성을 확 인하였다. 정렬패턴이 전사된 NiOx 박막은 AFM 이미 지로부터 평행한 그루브가 형성되었음을 확인하였다.
NiOx는 높은 광 투과율 특 성을 가지며, 화학적 안정성이 매우 높은 물질로서 액정 배향막으로 사용하기에 매우 적합한 물질로 여겨진다. 본 연구에서는 NiOx 무기막 위 패턴을 전사하여 액 정 배향 특성에 대하여 연구하였다. 레이저 간섭 리소 그래피(laser interference lithography)를 이용하여 정렬된 나노패턴을 실리콘 웨이퍼에 제작하고 이를 몰드 (mold)로 사용하였다.

제안 방법

패턴 전사 전과 후 표면 젖음 특성을 확인하기 위하여 박막 위에 물방울을 떨어뜨려 surface angle analyzer (Phoenix 300, Surface Electro Optics, Korea)로 물 접촉각을 측정하였다. AFM (atomic force microscopy, Xe-100, Park system, Korea)을 이용 하여 표면 형상을 관측하였다.
본 연구에서는 NiOx 무기막 위 패턴을 전사하여 액 정 배향 특성에 대하여 연구하였다. 레이저 간섭 리소 그래피(laser interference lithography)를 이용하여 정렬된 나노패턴을 실리콘 웨이퍼에 제작하고 이를 몰드 (mold)로 사용하였다. 제작된 몰드를 졸 겔 공정으로 제 작하여 유리기판 위에 코팅한 NiOx 박막 위에 전사하였 고, 액정 셀을 제작하여 polarized optical microscopy (POM, Olympus, Japan)를 이용하여 액정 배향특성과 열 적 안정성을 확인하였다.
유리 기판 위에 제작된 NiOx 용액을 30초간 3,000 rpm에서 스핀코팅 하였다. 레이저 간섭 리소그래피를 이용하여 정렬 패턴을 실리콘 몰드 위에 제작하였다 (pitch 750 nm, height 30 nm). 제작된 정렬 패턴을 유리 기판 위 스핀 코팅된 NiOx 위에 전사하여, 250℃ 의 온도에서 30분 동안 소성하였다.
나노 패턴이 전사된 NiOx 박막의 액정 배향 특성을 평가하기 위하여, POM 이미지를 그림 2에 보여주었 다. 상하측 배향 막 전사한 정렬 구조의 패턴 방향이 동 일하도록 구성하여 액정 셀을 제작하였다. 제작된 액정 셀은 서로 방향이 90°로 틀어져 있는 상하측 편광판 사 이에 놓고 광학 특성을 확인하였다.
제작된 정렬 패턴을 유리 기판 위 스핀 코팅된 NiOx 위에 전사하여, 250℃ 의 온도에서 30분 동안 소성하였다. 이후 상, 하판의 패턴 방향이 평행한 액정 셀을 제작하고, 셀 갭을 60 ㎛로 유지하도록 하여 액정 셀을 제작하였고, 수평액정 (MJ001929, ne＝1.5859. no＝1.4872 and De＝8.2, Merck)을 주입하였다. 액정 배향 특성 및 배향의 열적 안정성을 확인하기 위하여 polarized optical microscopy (POM, Olympus, Japan)를 이용하였다.
레이저 간섭 리소 그래피(laser interference lithography)를 이용하여 정렬된 나노패턴을 실리콘 웨이퍼에 제작하고 이를 몰드 (mold)로 사용하였다. 제작된 몰드를 졸 겔 공정으로 제 작하여 유리기판 위에 코팅한 NiOx 박막 위에 전사하였 고, 액정 셀을 제작하여 polarized optical microscopy (POM, Olympus, Japan)를 이용하여 액정 배향특성과 열 적 안정성을 확인하였다. 액정의 프리틸트 각은 crystal rotation method (TBA 107, Autronic, Germany)을 이 용하여 측정하였다.
제작된 액정 셀은 서로 방향이 90°로 틀어져 있는 상하측 편광판 사 이에 놓고 광학 특성을 확인하였다.
액정의 프리틸트 각은 crystal rotation method (TBA 107, Autronic, Germany)을 이 용하여 측정하였다. 패턴 전사 전과 후 표면 젖음 특성을 확인하기 위하여 박막 위에 물방울을 떨어뜨려 surface angle analyzer (Phoenix 300, Surface Electro Optics, Korea)로 물 접촉각을 측정하였다. AFM (atomic force microscopy, Xe-100, Park system, Korea)을 이용 하여 표면 형상을 관측하였다.
액정의 프리틸트 각은 crystal rotation method (TBA 107, Autronic, Germany)을 이 용하여 측정하였다. 패턴 전사 전과 후 표면 젖음 특성을 확인하기 위하여 박막 위에 물방울을 떨어뜨려 surface angle analyzer (Phoenix 300, Surface Electro Optics, Korea)로 물 접촉각을 측정하였다. AFM (atomic force microscopy, Xe-100, Park system, Korea)을 이용 하여 표면 형상을 관측하였다.

대상 데이터

2ME (2- methoxyethanol) 용액에 Nickel chloride hydrate [Ni(Cl)2⋅H2O]을 녹여 0.1 M의 NiOx 용액을 제작하였 다.
NiOx 박막을 졸 겔 공정으로 제작하였다. 2ME (2- methoxyethanol) 용액에 Nickel chloride hydrate [Ni(Cl)2⋅H2O]을 녹여 0.
본 연구에서 졸 겔 산화막으로 NiOx를 사용하였다. NiOx는 유기발광소자와 태양광발전소자(photo voltaics) 의 정공 수송층 및 TFT의 채널층으로서 많은 연구가 진 행되어 온 물질이다 [9,10].

이론/모형

본 연구에서는 임프린팅법을 용액 공정의 졸 겔(sol-gel) 산화막 제작 기술과 함께 이용하여 배향막에 적용하였다.
2, Merck)을 주입하였다. 액정 배향 특성 및 배향의 열적 안정성을 확인하기 위하여 polarized optical microscopy (POM, Olympus, Japan)를 이용하였다. 액정의 프리틸 트 각은 광회절법(TBA 107, Autronic, Germany)을 이 용하여 측정하였다.
액정 배향 특성 및 배향의 열적 안정성을 확인하기 위하여 polarized optical microscopy (POM, Olympus, Japan)를 이용하였다. 액정의 프리틸 트 각은 광회절법(TBA 107, Autronic, Germany)을 이 용하여 측정하였다. 표면 젖음 특성을 확인하기 위하여 박막 위에 물방울을 떨어뜨려 surface angle analyzer (Phoenix 300, Surface Electro Optics, Korea)로 물 접촉각을 측정하였다.
제작된 몰드를 졸 겔 공정으로 제 작하여 유리기판 위에 코팅한 NiOx 박막 위에 전사하였 고, 액정 셀을 제작하여 polarized optical microscopy (POM, Olympus, Japan)를 이용하여 액정 배향특성과 열 적 안정성을 확인하였다. 액정의 프리틸트 각은 crystal rotation method (TBA 107, Autronic, Germany)을 이 용하여 측정하였다. 패턴 전사 전과 후 표면 젖음 특성을 확인하기 위하여 박막 위에 물방울을 떨어뜨려 surface angle analyzer (Phoenix 300, Surface Electro Optics, Korea)로 물 접촉각을 측정하였다.

성능/효과

정렬된 액정 분자들은 이웃한 bulk 상태의 액정 분자들의 방향을 결정하여 동일한 방향으로 정렬되도록 한다. 따라서 정렬패턴을 전사한 NiOx 박막 위에서 균일한 액정 배향특성을 확인할 수 있었다.
정렬패턴이 전사된 NiOx 박막은 AFM 이미 지로부터 평행한 그루브가 형성되었음을 확인하였다. 또한 물 접촉각 측정에서 친수성 표면의 NiOx 박막이 표면 그루부에 의하여 물 접촉각이 낮아졌음을 확인할 수 있었다. 정렬패턴 전사로 인하여 NiOx 박막 위에는 평행한 그루브가 형성되었고, 이는 동일한 방향으로 액정 분자가 표면 근처에서 배향되도록 하였다.
본 논문에서 정렬 패턴을 전사한 NiOx 박막을 이용 하여 액정셀을 제작하고 균일한 액정 배향 특성을 확 인하였다. 정렬패턴이 전사된 NiOx 박막은 AFM 이미 지로부터 평행한 그루브가 형성되었음을 확인하였다. 또한 물 접촉각 측정에서 친수성 표면의 NiOx 박막이 표면 그루부에 의하여 물 접촉각이 낮아졌음을 확인할 수 있었다.
그림 4는 패턴 전사 전후 NiOx 박막 표면의 AFM 이미지를 나타낸다. 패턴 전사 전과 후의 표면 거칠기 (root mean square, Rq)는 각각 47 nm와 64 nm로 전사 후 표면의 거칠기가 증가한 것을 확인할 수 있었 다, 또한 패턴 전사 전 박막 표면은 패턴 형상을 확인 할 수 없으며, 불균일한 입자들을 확인할 수 있었다. 패턴 전사 후의 NiOx 박막은 불균일한 입자들은 여전 히 존재하였지만, x축 방향으로 평행한 그루브(groove) 를 확인할 수 있었다.
패턴 전사 전과 후의 표면 거칠기 (root mean square, Rq)는 각각 47 nm와 64 nm로 전사 후 표면의 거칠기가 증가한 것을 확인할 수 있었 다, 또한 패턴 전사 전 박막 표면은 패턴 형상을 확인 할 수 없으며, 불균일한 입자들을 확인할 수 있었다. 패턴 전사 후의 NiOx 박막은 불균일한 입자들은 여전 히 존재하였지만, x축 방향으로 평행한 그루브(groove) 를 확인할 수 있었다.
정렬패턴 전사로 인하여 NiOx 박막 위에는 평행한 그루브가 형성되었고, 이는 동일한 방향으로 액정 분자가 표면 근처에서 배향되도록 하였다. 표면 근 처의 배향된 액정분자는 분자간력에 의하여 bulk 상태 의 액정의 방향성을 결정하여 균일한 배향특성이 나타 나는 것을 확인할 수 있었다.

질의응답

핵심어	질문	논문에서 추출한 답변
	LCD 패널의 구성요소는?	이 중 액정 배향 기술은 LCD 패널에서 핵심적인 기술이며, 균일 하고 고화질의 액정 디스플레이를 구현하기 위하여 액 정 분자의 균일한 정렬은 필수적이다. LCD 패널은 하 측의 글래스, TFT (thin film transistro) array, 배향 막으로 구성되어 있고, 상측의 글래스, 컬러필터, 배향 막으로 구성되어 있다. 액정 배향 공정 기술은 상, 하 측 배향 막 위에서 이루어진다 [2].
	배향공정 기술의 단점은?	비용 효율 적인 공정이며, 균일도가 매우 높아 많이 사용되는 방 식이다. 하지만 러빙 공정 시 발생하는 정전기로 인하 여 TFT 소자가 파괴되는 등 소자의 성능을 저해하는 단점을 가지고 있다 [4,5]. 이에 따라 경사 증착법 [6], UV (ultra-violet)를 이용한 광 배향법 [7], 임프린팅 (Impringting)법 [8] 등의 새로운 배향기술에 대한 연 구가 진행되어 왔다.
	액정디스플레이의 특징은?	지난 수십 년간 액정디스플레이(liquid crystal display, LCD)는 낮은 소비전력, 긴 수명시간, 빠른 응답특성 등 의 장점을 바탕으로 디스플레이 산업의 발전을 이끌어 왔다. 더불어 최근 양자점(quantum dot) 컬러필터를 이용한 생동감 있는 화질 구현은 유기발광소자(organic light emitting diodes)와의 경쟁 우위를 점하는데 결정 적인 역할을 하였다 [1].

표제어: PCR

동의어: Packet Collision Rate

용어 설명 출처 목록 (6)

용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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