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스크린 인쇄법의 공정 조건이 전극 패턴 균일성에 미치는 영향
Effects of Process Conditions on Electrode Patterning by Screen Printing Method 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.33 no.5, 2020년, pp.355 - 359  

이나영 (한국세라믹기술원 전자재료본부) ,  김동철 (한국세라믹기술원 전자재료본부) ,  여동훈 (한국세라믹기술원 전자재료본부) ,  이주성 ((주)보부하이테크) ,  윤상옥 (강릉원주대학교 세라믹신소재공학과) ,  신효순 (한국세라믹기술원 전자재료본부) ,  이준형 (경북대학교 신소재공학부 전자재료공학전공)

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In this study, image analysis and surface roughness measurements using an optical microscope are presented as a method to quantitatively evaluate the results of screen printing. Using this method, the squeegee speed, which is the printing process condition, and the printability of the electrode acco...

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AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 미세 전극에 인쇄성을 평가하기 위해 스크린 인쇄 공정의 조건 변화에 따른 다양한 평가 방법을 적용하고 이 결과를 기초로 최적의 인쇄 조건을 설정하는 과정을 제시하고자 하였다. 인쇄 공정 조건의 변수로는 스퀴지 속도 및 스크린 마스크의 mesh 변화 등을 선정하였다.
  • 본 연구에서는 스크린 프린팅 공정에서 스퀴지 속도 및 스크린 mesh가 전극의 인쇄성에 미치는 영향을 정량적으로 비교하고자 하였다. 스크린 프린팅 공정에서 스퀴지 속도 증가는 인쇄된 전극의 선 폭 정밀도를 증가시키고 인쇄된 면의 surface roughness를 낮추는 공정요소로 작용한다.
  • 인쇄된 전극을 평가하기 위하여 광학 현미경을 사용하여 관찰한 이미지를 image analyzer 프로그램으로 선 폭 및 가장자리 거칠기를 정량화하고 표면 거칠기 장비를 이용하여 전극의 두께 및 전극의 두께 편차를 확인하였다. 이를 통해 스크린 인쇄 공정의 각 변수가 전극 인쇄성에 미치는 영향을 분석하고자 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
미세 전극의 형성에서 전극 형성의 균일성이 충분히 확보되지 않을 경우 발생할 수 있는 문제점은? 또한, 최근 미세 전극의 형성 기술 개발이 중요시되면서 스크린 프린팅을 통해 얻어진 전극의 수준을 평가하는 것이 중요한 과제가 되었다 [3,9]. 전극 형성의 균일성이 충분히 확보되지 않을 경우 미세한 전극의 형성은 불가능하며 전극이 저항체로 사용될 경우 저항체 전역에 누설 전류의 증가, 특성 불균형 증가 및 소비전력의 증대에 따른 다양한 문제들이 발생된다 [10,11]. 그러나 인쇄된 전극의 수준을 평가하기 위한 평가 방법에 대한 연구 결과는 아직 미비한 실정이다 [9].
인쇄 공정 조건의 변수는 어떤 것이 있는가? 본 연구에서는 미세 전극에 인쇄성을 평가하기 위해 스크린 인쇄 공정의 조건 변화에 따른 다양한 평가 방법을 적용하고 이 결과를 기초로 최적의 인쇄 조건을 설정하는 과정을 제시하고자 하였다. 인쇄 공정 조건의 변수로는 스퀴지 속도 및 스크린 마스크의 mesh 변화 등을 선정하였다. 인쇄된 전극을 평가하기 위하여 광학 현미경을 사용하여 관찰한 이미지를 image analyzer 프로그램으로 선 폭 및 가장자리 거칠기를 정량화하고 표면 거칠기 장비를 이용하여 전극의 두께 및 전극의 두께 편차를 확인하였다.
세라믹 전자부품 및 모듈에서 전자 회로나 디바이스를 비교적 간단하고 효율적으로 생산할 수 있는 회로 형성 기법으로 각광받고 있는 것은? 이러한 고집적화의 추세에 따라 후막공정에서도 세라믹 시트 두께 및 전극선 폭의 미세화에 대한 중요성이 증가되고 있다 [4,5]. 세라믹 전자부품 및 모듈에서는 전자 회로나 디바이스를 비교적 간단하고 효율적으로 생산할 수 있는 스크린 프린팅이 회로 형성 기법의 하나로 각광받고 있다 [5-8]. 또한, 최근 미세 전극의 형성 기술 개발이 중요시되면서 스크린 프린팅을 통해 얻어진 전극의 수준을 평가하는 것이 중요한 과제가 되었다 [3,9].
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참고문헌 (15)

  1. B. K. Koo, J. Korean Ceram. Soc., 51, 344 (2014). [DOI: https://doi.org/10.4191/kcers.2014.51.4.344] 

  2. W. S. Seo, B. W. Min, J. H. Kim, N. K Lee, and J. B. Kim, J. Microelectron. Packag. Soc., 17, 47 (2010). 

  3. W. S. Seo, B. W. Min, K. Park, H. J. Lee, and J. B. Kim, J. Korean Soc. Manuf. Technol. Eng., 21, 26 (2012). [DOI: https://doi.org/10.7735/ksmte.2012.21.1.026] 

  4. S. B. Sohn, H. S. Kim, S. M. Song, Y. T. Kim, and K. H. Hur, J. Korean Ceram. Soc., 46, 146 (2009). [DOI: https://doi.org/10.4191/KCERS.2009.46.2.146] 

  5. T. X. Liang, W. Z. Sun, L. D. Wang, Y. H. Wang, and H. D. Li, IEEE Trans. Compon., Packag., Manuf. Technol., Part B, 19, 423 (1996). [DOI: https://doi.org/10.1109/96.496047] 

  6. D. Crescini, D. Marioli, and A. Taroni, Sens. Actuators, A, 55, 79 (1996). [DOI: https://doi.org/10.1016/S0924-4247(97)80060-X] 

  7. X. Zhou, M. Sazegar, F. Stemme, J. Hausselt, R. Jakoby, and J. R. Binder, J. Eur. Ceram. Soc., 32, 4311 (2012). [DOI: https:// doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2012.06.021] 

  8. J. Pan, G. L. Tonkay, and A. Quintero, J. Electron. Manuf., 9, 203 (1999). [DOI: https://doi.org/10.1142/S096031319900012X] 

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  10. M. L ahti, A. Vimpari, a nd K. Kautio, J. Eur. Ceram. Soc., 27, 2953 (2007). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2006.11.046] 

  11. S. M Shapee, R. Alias, I. Azmi, Z. Ambak, Z. M. Yusoff, and M. R. Saad, Key Eng. Mater., 421, 485 (2009). [DOI: https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.421-422.485] 

  12. P. Izak, J. Mastalska-Poplawska, J. Lis, and A. Stempkowska, Proc. 2nd International Conference on Rheology and Modeling of Materials (IC-RMM2) (Lillafured, Hungary, 2015) p. 012001. [DOI: https://doi.org/10.1088/1742-6596/790/1/012011] 

  13. J. W. Phair and A. F. J Kaiser, Annu. Trans. Nord. Rheol. Soc., 17 (2009). 

  14. H. W. Lin, C. P Chang, W. H Hwu, and M. D. Ger, J. Mater. Process. Technol., 197, 284 (2008). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.jmatprotec.2007.06.067] 

  15. J. Evans and J. Beddow, IEEE Trans. Compon., Hybrids, Manuf. Technol., 10, 224 (1987). [DOI: https://doi.org/10.1109/TCHMT.1987.1134725] 

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