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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.30 no.11, 2020년, pp.573 - 580
Im, Hyun-Ho (Department of Advanced Materials Science and Engineering, Mokpo National University) , Lee, Sang-Jin (Department of Advanced Materials Science and Engineering, Mokpo National University)
YAG (Yttrium Aluminum Garnet, Y3Al5O12) has excellent plasma resistance and recently has been used as an alternative to Y2O3 as a chamber coating material in the semiconductor process. However, due to the presence of an impurity phase and difficulties in synthesis and densification, many studies on ...
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오픈액세스 학술지에 출판된 논문
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