[논문]전자빔 증발법 박막 증착을 이용한 양극 산화 알루미늄 템플릿의 나노 포어 가공 연구

이승훈; 이민영; 김천중; 김관오; 윤재성; 유영은; 김정환

doi:10.5695/jkise.2021.54.1.25

[국내논문] 전자빔 증발법 박막 증착을 이용한 양극 산화 알루미늄 템플릿의 나노 포어 가공 연구
Study on the narrowed nanopores of anodized aluminum oxide template by thin-film deposition using e-beam evaporation 원문보기

한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.54 no.1, 2021년, pp.25 - 29

이승훈 (한국기계연구원 나노공정장비연구실) , 이민영 (한국기계연구원 나노공정장비연구실) , 김천중 (충남대학교 신소재공학과) , 김관오 (한국기계연구원 나노공정장비연구실) , 윤재성 (한국기계연구원 나노공정장비연구실) , 유영은 (한국기계연구원 나노공정장비연구실) , 김정환 (한밭대학교 신소재공학과)

Abstract ▼ AI-Helper

The fabrication of nanopore membrane by deposition of Al2O3 film using electron-beam evaporation, which is fast, cost-effective, and negligible dependency on substance material, is investigated for potential applications in water purification and sensors. The decreased nanopore diameter owing to increased wall thickness is observed when Al2O3 film is deposited on anodic aluminum oxide membrane at higher deposition rate, although the evaporation process is generally known to induce a directional film deposition leading to the negligible change of pore diameter and wall thickness. This behavior can be attributed to the collision of evaporated Al2O3 particles by the decreased mean free path at higher deposition rate condition, resulting in the accumulation of Al2O3 materials on both the surface and the edge of the wall. The reduction of nanopore diameter by Al2O3 film deposition can be applied to the nanopore membrane fabrication with sub-100 nm pore diameter.

Keyword

표/그림 (6)

그림 그림 1. FESEM images of AAO membrane surfaces after 30 nm-thick Al₂O₃ film deposition with different deposition rates; (a) pristine surface and with (b) 0.1 Å/s, (c) 0.5 Å/s, and (d) 1.0 Å/s
그림 그림 2. Variation of pore diameter of AAO surfaces after 30 nm-thick Al₂O₃ film deposition with different deposition rates
그림 그림 3. Schematic view of Al₂O₃ deposition process in the electron-beam evaporation at (a) low and (b) high deposition rates
표 표 4. Process pressure in the chamber during Al₂O₃ film deposition at different deposition rates
그림 그림 4. FESEM images of AAO membrane surfaces after E-beam evaporated Al₂O₃ deposition at deposition rate of 1.0 Å/s with different thicknesses; (a) 0 nm, (b) 30 nm, (c) 60 nm, and (d) 120 nm. The insets in (a) and (d) show the cross-sectional view of the walls of pristine AAO and 120 nm-thick Al₂O₃ film deposited AAO.
그림 그림 5. Variation of pore diameter of AAO surfaces after 30, 60, 120 nm-thick Al₂O₃ film deposition at deposition rate of 1.0 Å/s

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