$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

혼합소스 HVPE 방법에 의해 성장된 육각형 Si 결정
Hexagonal shape Si crystal grown by mixed-source HVPE method 원문보기

한국결정성장학회지 = Journal of the Korean crystal growth and crystal technology, v.31 no.3, 2021년, pp.103 - 111  

이강석 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  김경화 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  박정현 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  김소윤 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  이하영 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  안형수 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  이재학 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  전영태 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  양민 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  이삼녕 (한국해양대학교 전자소재공학과) ,  전인준 (부산대학교 나노에너지공학과.나노융합기술과) ,  조채용 (부산대학교 나노에너지공학과.나노융합기술과) ,  김석환 (안동대학교 자연과학대학 물리학과)

초록
AI-Helper 아이콘AI-Helper

고체 재료인 Si, Al 그리고 Ga을 혼합하는 혼합소스 수소화물기상 방법에 의해 육각형 Si 결정을 성장하였다. 새로 고안된 상압의 혼합소스 수소화물기상 방법에서는 1200℃의 고온에서 GaCln, AlCln 그리고 SiCln 가스 사이의 상호작용에 의해 핵이 형성된다. 또한 Si과 HCl 가스의 급격한 반응에 의해 높은 분압을 가진 전구 기체를 발생시키는 구조로 설계 되었다. 주사 전자 현미경(FE-SEM), 에너지 분산형 X-선 분광법(EDS), 고해상도 X-선 회절(HR-XRD) 그리고 라만 스펙트럼을 통하여 육각형 Si 결정의 특성을 확인하였으며, Si 산업 분야에서 새로운 소재로서 응용성이 기대된다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Hexagonal shape Si crystals were grown by the mixed-source hydride vapor phase epitaxy (HVPE) method of mixing solid materials such as Si, Al and Ga. In the newly designed atmospheric pressure mixed-source HVPE method, nuclei are formed by the interaction between GaCln, AlCln and SiCln gases at a hi...

주제어

표/그림 (7)

참고문헌 (40)

  1. Jr. R. H. Wentorf and J. S. Kasper, "Two new forms of silicon", Science 139 (1963) 338. 

  2. B.R. Wu, "First-principles study on the high-pressure behavior of the zone-center modes of lonsdaleite silicon", Phys. Rev. B 61 (2000) 5. 

  3. S.Q. Wang and H.Q. Ye, "First-principles study on the lonsdaleite phases of C, Si and Ge", J. Phys.: Condens. Matter 15 (2003) L197. 

  4. A. Fissel, E. Bugiel, C.R. Wang and H.J. Osten, "Formation of twinning-superlattice regions by artificial stacking of Si layers", J. Cryst. Growth 290 (2006) 392. 

  5. A. De and C.E. Pryor, "Electronic structure and optical properties of Si, Ge and diamond in the lonsdaleite phase", J. Phys.: Condens. Matter 26 (2014) 045801. 

  6. H.J. Xiang, B. Huang, E.J. Kan, S.-H. Wei and X.G. Gong, "Towards direct-gap silicon phases by the inverse band structure design approach", Phys. Rev. Lett. 110 (2013) 118702. 

  7. S. Botti, J.A. Flores-Livas, M. Amsler, S. Goedecker and M.A.L. Marques, "Low-energy silicon allotropes with strong absorption in the visible for photovoltaic applications", Phys. Rev. B 86 (2012) 121204. 

  8. Q.Q. Wang, B. Xu, J. Sun, H. Liu, Z. Zhao, D. Yu, C. Fan and J. He, "Direct band gap silicon allotropes", J. Am. Chem. Soc. 136 (2014) 9826. 

  9. Q. Fan, C. Chai, Q. Wei, H. Yan, Y. Zhao, Y. Yang, X. Yu, Y. Liu, M. Xing, J. Zhang and R. Yao, "Novel silicon allotropes: Stability, mechanical, and electronic properties", J. Appl. Phys. 118 (2015) 185704. 

  10. H.I.T. Hauge, M.A. Verheijen, S.C. Boj, T. Etzelstorfer, M. Watzinger, D. Kriegner,I.Zardo, C. Fasolato, F. Capitani, P. Postorino, S. Kolling, A. Li, S. Assali, J. Stangl and E.P.A.M. Bakkers, "Hexagonal silicon realized", Nano Lett. 15 (2015) 5855. 

  11. Z. He, J.L. Maurice, Q. Lia and D. Pribatb, "Direct evidence of 2H hexagonal Si in Si nanowires", Nanoscale 11 (2019) 4846. 

  12. C.C. Yang, J.C. Li and Q. Jiang, "Temperature-pressure phase diagram of silicon determined by Clapeyron equation", Solid State Comm. 129 (2004) 437. 

  13. M. Raya-Moreno, H. Aramberri, J.A. Seijas-Bellido, X. Cartoixa and R. Rurali, "Thermal conductivity of hexagonal Si and hexagonal Si nanowires from first-principles", Appl. Phys. Lett. 111 (2017) 032107. 

  14. H. Olijnyk, S. Sikka and W. Holzapfel, "Structural phase transitions in Si and Ge under pressures up to 50 GPa", Phys. Lett. A 103 (1984) 137. 

  15. F.J. Lopez, U. Givan, J.G. Connell and L.J. Lauhon, "Silicon nanowire polytypes: Identification by Raman spectroscopy, generation mechanism, and misfit strain in homostructures", ACS Nano 5 (2011) 8958. 

  16. N. Shin, M. Chi, J.Y. Howe and M.A. Filler, "Rational defect introduction in silicon nanowires", Nano Lett. 13 (2013) 1928. 

  17. N. Shin, M. Chi and M.A. Filler, "Sidewall morphology-dependent formation of multiple twins in Si nanowires", ACS Nano 7 (2013) 8206. 

  18. J.D. Joannopoulos and M.L. Cohen,"Electronic properties of complex crystalline and amorphous phases of Ge and Si. I. Density of states and band structures", Phys. Rev. B 7 (1973) 2644. 

  19. K.J. Chang, M.M. Dacorogna, M.L. Cohen, J.M. Mignot, G. Chouteau and G. Martinez, "Superconductivity in high-pressure metallic phases of Si", Phys. Rev. Lett. 54 (1985) 2375. 

  20. R.O. Piltz, J.R. Maclean, S.J. Clark, G.J. Ackland, P.D. Hatton and J. Crain, "Structure and properties of silicon XII: A complex tetrahedrally bonded phase", Phys. Rev. B 52 (1995) 4072. 

  21. A. Blanco, E. Chomski, S. Grabtchak, M. Ibisate, S. John, S.W. Leonard, C. Lopez, F. Meseguer, H. Miguez, J. Mondia, G.A. Ozin, O. Toader and H.M. Driel, "Largescale synthesis of a silicon photonic crystal with a complete three-dimensional bandgap near 1.5 micrometres", Nature 405 (2000) 437. 

  22. C. Raffy, J. Furthmuller and F. Bechstedt, "Properties of hexagonal polytypes of group-IV elements from first-principles calculations", Phys. Rev. B 66 (2002) 075201. 

  23. F. Fabbri, E. Rotunno, L. Lazzarini, N. Fukata and G. Salviati, "Visible and infra-red light emission in Borondoped wurtzite silicon nanowires", Sci. Rep. 49 (2014) 3603. 

  24. M. Amato, T. Kaewmaraya, A. Zobelli, M. Palummo and R. Rural i, "Crystal phase effects in Si nanowire pol ytypes and their homojunctions", Nano Lett. 16 (2016) 5694. 

  25. Q. Chena, N.D. Marco, Y. Yang, T.-B. Song, C.-C. Chena, H. Zhao, Z. Hong, H. Zhou and Y. Yang, "Under the spotlight: The organic-inorganic hybrid halide perovskite for optoelectronic applications", Nano Today 448 (2015) 1. 

  26. T.-H. Cheng, Y. Chu-Su, C.-S. Liu and C.-W. Lin, "Phonon-assisted transient electroluminescence in Si", Appl. Phys. Lett. 104 (2014) 261102. 

  27. K.P. Homewood and M.A. Lourenco, "Light from Si via dislocation loops", Materials Today 8 (2005) 34. 

  28. S.J. Yeom, C. Lee, S. Kang, T.-U. Wi, C. Lee, S. Chae, J. Cho, D.O. Shin, J. Ryu and H.-W. Lee, "Native void space for maximum volumetric capacity in silicon-based anodes", Nano Lett. 19 (2019) 8793. 

  29. A.Yaya, B. Agyei-Tuffour, D. Dodoo-Arhin, E. Nyankson, E. Annan, D.S. Konadu, E. Sinayobye, E.A. Baryeh and C.P. Ewels, "Layered nanomaterials - A review", G. J. E. D. T. 1 (2012) 32. 

  30. S. Hansena, S. Shreea, G. Neubuserb, J. Carstensena, L. Kienleb and R. Adelung, "Corset-like solid electrolyte interface for fast charging of silicon wire anodes", J. Power Sources 381 (2018) 8. 

  31. J. Wang and Y. Long, "On-chip silicon photonic signaling and processing: a review", Science Bulletin 63 (2018) 1267. 

  32. C. Lee, H. Jeon, C. Lee, I. Jeon, M. Yang, S.N. Yi, H.S. Ahn, S.-W. Kim, Y.M. Yu and N. Sawaki, "Characterizations of graded AlGaN epilayer grown by HVPE", J. Korean Cryst. Growth Cryst. Technol. 25 (2015) 45. 

  33. J.H. Park, K.H. Kim, I. Jeon, H.S. Ahn, M. Yang, S.N. Yi, C.R. Cho and S.-W. Kim, "Properties of AlN epilayer grown on 6H-SiC substrate by mixed-source HVPE method", J. Korean Cryst. Growth Cryst. Technol. 30 (2020) 96. 

  34. M.K. Sunkara, S. Sharma, R. Miranda, G. Lian and E. C. Dickey, "Bulk synthesis of silicon nanowires using a low-temperature vapor-liquid-solid method", Appl. Phys. Lett. 79 (2001) 1546. 

  35. A. Krost and A. Dadgar, "GaN-based optoelectronics on Si substrates", Mater. Sci. Eng. B93 (2002) 77. 

  36. N. Kurose and Y. Aoyagi, "Formation of conductive AlN buffer layer using spontaneous via-holes and realization of vertical AlGaN Schottky diode on a Si substrate", J. Appl. Phys. 125 (2019) 205110. 

  37. K.H. Kim, J.H. Park, H.S. Ahn, M. Yang, S.N. Yi, I. Jeon, C.R. Cho, H. Jeon and S.-W. Kim, "Growth mechanism and characterization of AlN microspheres by HVPE method", New Physics: Sae Mulli 70 (2020) 738. 

  38. X. Liu and D. Wang, "Kinetically-induced hexagonality in chemically grown silicon nanowires", Nano Res 2 (2009) 575. 

  39. M.L. Rudee and A. Howie, "The structure of amorphous Si and Ge", Philos Mag. 25 (1972) 1001. 

  40. D.J. Larkin, P.G. Neudeck, J.A. Powell and L.G. Matus, "Site-competition epitaxy for superior silicon carbide electronics", Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 1659. 

저자의 다른 논문 :

관련 콘텐츠

오픈액세스(OA) 유형

BRONZE

출판사/학술단체 등이 한시적으로 특별한 프로모션 또는 일정기간 경과 후 접근을 허용하여, 출판사/학술단체 등의 사이트에서 이용 가능한 논문

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로