최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기한국분말재료학회지 = Journal of Powder Materials, v.29 no.1, 2022년, pp.56 - 62
이승혁 (한국과학기술연구원 전자재료연구센터) , 박태주 (한양대학교 재료화학공학과) , 김성근 (한국과학기술연구원 전자재료연구센터)
Atomic layer deposition (ALD) is a promising technology for the uniform deposition of thin films. ALD is based on a self-limiting mechanism, which can effectively deposit thin films on the surfaces of powders of various sizes. Numerous studies are underway to improve the performance of thermoelectri...
G. J. Snyder and E. S. Toberer: Nat. Mater., 7 (2008) 105.
F. J. DiSalvo: Science, 285 (1999) 703.
J. P. Heremans, B. Wiendlocha and A. M. Chamoire: Energy Environ. Sci., 5 (2012) 5510.
W. Liu, X. Yan, G. Chen and Z. Ren: Nano Energy, 1 (2012) 42.
S. I. Kim, K. H. Lee, H. A. Mun, H. S. Kim, S. W. Hwang, J. W. Roh, D. J. Yang, W. H. Shin, X. S. Li, Y. H. Lee, G. J. Snyder and S. W. Kim: Science, 348 (2015) 109.
Y. Lan, A. J. Minnich, G. Chen and Z. Ren: Adv. Funct. Mater., 20 (2010) 357.
G. Tan, L.-D. Zhao, F. Shi, J. W. Doak, S.-H. Lo, H. Sun, C. Wolverton, V. P. Dravid, C. Uher and M. G. Kanatzidis: J. Am. Chem. Soc., 136 (2014) 7006.
C. J. Vineis, A. Shakouri, A. Majumdar and M. G. Kanatzidis: Adv. Mater., 22 (2010) 3970.
M.S. Dresselhaus, G. Chen, M.Y. Tang, R.G. Yang, H. Lee, D .Z. Wang, Z.F. Ren, J.-P. Fleurial and P. Gogna: Adv. Mater., 19 (2007) 1043.
D.-K. Ko, Y. Kang and C. B. Murray: Nano Lett., 11 (2011), 2841.
W. H. Shin, J. W. Roh, B. Ryu, H. J. Chang, H. S. Kim, S. Lee, W. S. Seo and K. Ahn: ACS Appl. Mater. Interfaces, 10 (2018), 3689.
R. Deng, X. Su, S. Hao, Z. Zheng, M. Zhang, H. Xie, W. Liu, Y. Yan, C. Wolverton, C. Uher, M. G. Kanatzidis and X. Tang: Energy Environ. Sci., 11 (2018) 1520.
Z. Liang, M. J. Boland, K. Butrouna, D. R. Strachan and K. R. Graham: J. Mater. Chem. A, 5 (2017) 15891.
A. Soni, Y. Shen, M. Yin, Y. Zhao, L. Yu, X. Hu, Z. Dong, K. A. Khor, M. S. Dresselhaus and Q. Xiong: Nano Lett., 12 (2012) 4305.
A. Pakdel, Q. Guo, V. Nicolosi and T. Mori: J. Mater. Chem. A, 6 (2018) 21341.
J. Jiang, L. Chen, S. Bai, Q. Yao and Q. Wang: Mater. Sci. Eng., B, 117 (2005) 334.
S. R. Popuri, M. Pollet, R. Decourt, F. D. Morrison, N. S. Bennett and J. W. G. Bos: J. Mater. Chem. C, 4 (2016) 1685.
Z. Jian, Z. Chen, W. Li, J. Yang, W. Zhang and Y. Pei: J. Mater. Chem. C, 3 (2015) 12410.
C. Fu, T. Zhu, Y. Liu, H. Xie and X. Zhao: Energy Environ. Sci., 8 (2015) 216.
Y. Pei, H. Wang and G. J. Snyder: Adv. Mater., 24 (2012) 6125.
J. Li, S. Zhang, F. Jia, S. Zheng, X. Shi, D. Jiang, S. Wang, G. Lu, L. Wu and Z.-G. Chen: Mater. Today Phys., 15 (2020) 100269.
L. Hu, T. Zhu, X. Liu and X. Zhao: Adv. Funct. Mater., 24 (2014) 5211.
H. Wang, G. Luo, C. Tan, C. Xiong, Z. Guo, Y. Yin, B. Yu, Y. Xiao, H. Hu, G. Liu, X. Tan, J. G. Noudem and J. Jiang: ACS Appl. Mater. Interfaces, 12 (2020) 31612.
J. S. Yoon, J. M. Song, J. U. Rahman, S. Lee, W. S. Seo, K. H. Lee, S. Kim, H.-S. Kim, S. Kim and W. H. Shin: Acta Mater., 158 (2018) 289.
X. Ji, J. He, Z. Su, N. Gothard and T. M. Tritt: J. Appl. Phys., 104 (2008) 034907.
K.-C. Kim, S.-S. Lim, S. H. Lee, J. Hong, D.-Y. Cho, A. Y. Mohamed, C. M. Koo, S.-H. Baek, J.-S. Kim and S. K. Kim: ACS Nano, 13 (2019) 7146.
S.-S. Lim, K.-C. Kim, S. Lee, H.-H. Park, S.-H. Baek, J.- S. Kim and S. K. Kim: Coatings, 10 (2020) 572.
M. R.-Bravo, A. Moure, J. F. Fernandez and M. M.-Gonzalez: RSC Adv., 5 (2015) 41653.
B. M. Knez, K. Nielsch and L. Niinisto: Adv. Mater., 19 (2007) 3425.
C. Marichy, M. Bechelany and N. Pinna: Adv. Mater., 24 (2012) 1017.
S. Adhikari, S. Selvaraj and D .-H. Kim: Adv. Mater. Interfaces, 5 (2018) 1800581.
S. M. George: Chem. Rev., 110 (2010) 111.
M. Ritala and J. Niinisto: ECS Transactions, 25 (2009) 641.
B. Poudel, Q. Hao, Y. Ma, Y. Lan, A. Minnich, B. Yu, X. Yan, D. Wang, A. Muto, D. Vahaee, Z. Chen, J. Liu, M. S. Dresselhaus, G. Chen and Z. Ren: Science, 320 (2008) 634.
W. Kim, J. Zide, A. Gossard, D. Klenov and S. Stemmer: Phys. Rev. Lett., 96 (2006) 0459012.
S. V. Faleev and F. Leonard: Phys. Rev. B, 77 (2008) 214304.
W. Zheng, Y. Luo, Y. Liu, J. Shi, R. Xiong and Z. Wang: J. Phys. Chem. Lett., 10 (2019) 4903.
H. R. Sun, X. P. Jia, P. Lv, L. Deng, X. Guo, Y. W. Zhang, B. Sun, B.W. Liu and H.G. Ma: RSC Adv., 5 (2015) 61324.
A. Schmitz, C. Schmid, J. D. Boor and E. Muller: J. Nanosci. Nanotechnol., 17 (2017) 1547.
Y. Zhang, S. Li, F. Liu, C. Zhang, L. Hu, W. Ao, Y. Li, J. Li, H. Xie, Y. Xiao and F. Pan: J. Mater. Chem. A, 7 (2019) 26053.
S. He, A. Bahrami, X. Zhang, I. G. Martinez, S. Lehmann and K. Nielsch: Adv. Mater. Technol., (2021) 2100953.
S.-I. Kim, J. An, W.-J. Lee, S. H. Kwon, W. H. Nam, N. V. Du, J.-M. Oh, S.-M. Koo, J. Y. Cho and W. H. Shin: Nanomaterials, 10 (2020) 2270.
S. Li, M. Chu, W. Zhu, R. Wang, Q. Wang, F. Liu, M. Gu, Y. Xiao and F. Pan: Nanoscale, 12 (2020) 1580.
S. Li, Z. Huang, R. Wang, C. Wang, W. Zhao, N. Yang, F. Liu, J. Luo, Y. Xiao and F. Pan: J. Mater. Chem. A, 9 (2021) 11442.
S. Li, Y. Liu, F. Liu, D. He, J. He, J. Luo, Y. Xiao and F. Pan: Nano Energy, 49 (2018) 257.
S.-S. Lim, K.-C. Kim, H. Jeon, J.-Y. Kim, J.-Y. Kang, H.- H. Park, S.-H. Baek, J.-S. Kim and S. K. Kim: J. Eur. Ceram. Soc., 40 (2020) 3592.
L. D. Zhao, B.-P. Zhang, W. S. Liu, H. L. Zhang and J.-F. Li: J. Alloys Compd., 467 (2009) 91.
T. Hamachiyo, M. Ashida and K. Hasezaki: J. Electron. Mater., 38 (2009) 1048.
Y. Zheng, G. Tan, Y. Luo, X. Su, Y. Yan and X. Tang: Materials, 10 (2017) 617.
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.