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반도체 제조 이온주입 공정의 이온 임플란타 장치에서 엑스레이 발생 특성
Characterization of X-ray Emitted in the Ion Implantation Process of Semiconductor Operations 원문보기

한국산업보건학회지 = Journal of Korean Society of Occupational and Environmental Hygiene, v.33 no.4, 2023년, pp.439 - 446  

박동욱 (한국방송대학교 보건환경학과) ,  조경이 (서울대학교 보건대학원 환경보건학과) ,  김소연 (창원파티마병원) ,  이승희 (한국방송대학교 보건환경학과) ,  정은교 (오산대학교 산업안전보건과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Objectives: The aims of this study are to investigate how X-rays are emitted to surrounding parts during the ion implantation process, to analyze these emissions in relation to the properties of the ion implanter equipment, and to estimate the resulting exposure dose. Eight ion implanters equipped w...

주제어

표/그림 (6)

참고문헌 (16)

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