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NTIS 바로가기한국결정성장학회지 = Journal of the Korean crystal growth and crystal technology, v.33 no.4, 2023년, pp.153 - 157
김영주 ((주)대찬테크 기술연구소) , 박제홍 (한국교통대학교 에너지소재공학전공) , 유시범 (한국교통대학교 에너지소재공학전공) , 정승원 (한국교통대학교 에너지소재공학전공) , 김강민 (한국생산기술연구원 강원본부) , 유정호 (한국교통대학교 에너지소재공학전공)
In order to manufacture a semiconductor circuit, etching, cleaning, and deposition processes are repeated. During these processes, the inside of the processing chamber is exposed to corrosive plasma. Therefore, the coating of the inner wall of the semiconductor equipment with a plasma-resistant mate...
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