$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[국내논문] 단일 식각 홀을 갖는 SiO2 희생층의 불화수소 증기 식각
Hydrogen Fluoride Vapor Etching of SiO2 Sacrificial Layer with Single Etch Hole 원문보기

Journal of sensor science and technology = 센서학회지, v.32 no.5, 2023년, pp.328 - 333  

김차영 (한국생산기술연구원 첨단메카트로닉스 연구그룹) ,  노은식 (한국생산기술연구원 첨단메카트로닉스 연구그룹) ,  신금재 (한국생산기술연구원 첨단메카트로닉스 연구그룹) ,  문원규 (포항공과대학교 기계공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

This study experimentally verified the etch rate of the SiO2 sacrificial layer etching process with a single etch hole using vapor-phase hydrogen fluoride (VHF) etching. To fabricate small-sized polysilicon etch holes, both circular and triangular pattern masks were employed. Etch holes were fabrica...

Keyword

참고문헌 (16)

  1. S. Shubham, Y. Seo, V. Naderyan, X. Song, A. J. Frank, J.?T. M. G. Johnson, M. da Silva, and M. Pedersen, "A Novel?MEMS Capacitive Microphone with Semiconstrained Diaphragm Supported with Center and Peripheral Backplate?Protrusions," Micromachines, Vol. 13, No. 1, p. 22(1)-22(23), 2021. 

  2. J. Varona, M. Tecpoyotl-Torres, and A. Hamoui, "Design of?MEMS vertical-horizontal chevron thermal actuators",?Sens. Actuators A Phys., Vol. 153, No. 1, pp. 127-130, 2009. 

  3. Y. Qiu, J. V. Gigliotti, M. Wallace, F. Griggio, C. E. M.?Demore, S. Cochran, and S. Trolier-McKinstry, "Piezoelectric micromachined ultrasound transducer (PMUT)?arrays for integrated sensing, actuation and imaging", Sens.,?Vol. 15, No. 4, pp. 8020-8041, 2015. 

  4. N. Moldovan, K. H. Kim, and H. D. Espinosa, "Design and?Fabrication of a Novel Microfluidic Nanoprobe", J. Microelectromech. Syst., Vol. 15, No. 1, pp. 204-213, 2006. 

  5. J. A. Walker, K. J. Gabriel, and M. Mehregany, "Mechanical integrity of polysilicon films exposed to hydrofluoric?acid solutions", Proc. of IEEE Proceedings on Micro Electro Mech. Syst., An Investigation of Micro Structures, Sensors, Actuators, Machines and Robots., pp. 56-60, Napa?Valley, USA, 1990. 

  6. W. I. Jang, C. A. Choi, M. L. Lee, C. H. Jun, and Y. T. Kim,?"Fabrication of MEMS devices by using anhydrous HF gas-phase etching with alcoholic vapor", J. Micromech. Microeng., Vol. 12, No. 3, pp. 297-306, 2002. 

  7. D. J. Monk, D. S. Soane, and R. T. Howe, "Hydrofluoric?Acid Etching of Silicon Dioxide Sacrificial Layers: I.?Experimental Observations", J. Electrochem. Soc., Vol. 141,?No. 1, p. 264, 1994. 

  8. F. Xianwen, M. Nosang, K. Nobe, and J. W. Judy, "Modeling the effect of etch holes on ferromagnetic MEMS",?IEEE Trans. Magn., Vol. 37, No. 4, pp. 2637-2639, 2001. 

  9. V. L. Rabinovich, R. K. Gupta, and S. D. Senturia, "The?effect of release-etch holes on the electromechanical?behaviour of MEMS structures", Proc. of International?Solid State Sensors and Actuators Conference (Transducers?'97), pp. 1125-1128, Chicago, USA, 1997. 

  10. D. J. Monk, D. S. Soane, and R. T. Howe, "Hydrofluoric?Acid Etching of Silicon Dioxide Sacrificial Layers: II. Modeling", J. Electrochem. Soc., Vol. 141, No. 1, p. 270, 1994. 

  11. J. Zhang, Y. Wu, G. Yang, D. Chen, J. Zhang, H. You, C.?Zhang, and Y. Hao, "Optimization of Sacrificial Layer Etching in Single-Crystal Silicon Nano-Films Transfer Printing for Heterogeneous Integration Application", Nanomater.,?Vol. 11, No. 11, pp. 3085(1)-3085(12), 2021. 

  12. L. Louriki, P. Staffeld, A. Kaelberer, and T. Otto, "Silicon?Sacrificial Layer Technology for the Production of 3D?MEMS (EPyC Process)", Proc. of Eurosensors 2017 Conference, pp. 295(1)-295(5), Paris, France, 2017. 

  13. https://www.idonus.com/index.php?pathproducts&categoryVPE (retrieved on Sep. 4, 2023). 

  14. J. Buhler, F. P. Steiner, and H. Baltes, "Silicon dioxide sacrificial layer etching in surface micromachining", J. Micromech. Microeng., Vol. 7, No. 1, p. R1, 1997. 

  15. A. Witvrouw, B. Du Bois, P. De Moor, A. Verbist, C. A.?Van Hoof, H. Bender, and C. Baert, "Comparison between?wet HF etching and vapor HF etching for sacrificial oxide?removal", SPIE, Vol. 4174, pp. 130-141, 2000. 

  16. Y. I. Lee, K. H. Park, J. Lee, C. S. Lee, H. J. Yoo, C. J. Kim,?and Y. S. Yoon, "Dry release for surface micromachining?with HF vapor-phase etching", J. Microelectromech. Syst.,?Vol. 6, No. 3, pp. 226-233, 1997. 

저자의 다른 논문 :

활용도 분석정보

상세보기
다운로드
내보내기

활용도 Top5 논문

해당 논문의 주제분야에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

관련 콘텐츠

오픈액세스(OA) 유형

GOLD

오픈액세스 학술지에 출판된 논문

이 논문과 함께 이용한 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로