최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기Thin solid films, v.372 no.1/2, 2000년, pp.246 - 249
Stamate, Marius D (Tel.: +40-34-134712)
AbstractDC magnetron thin films were used to build up metal–oxide–metal (MOM), aluminum–TiO2–aluminum structures. Aluminum was deposited through thermal vacuum evaporation in a dedicated installation. The electrical polarization effect for the electric capacitance and die...
Appl. Phys. Lett. Gurwitch 51 919 1987 10.1063/1.98801
J. Appl. Phys. Nishioka 61 2335 1987 10.1063/1.337945
J. Appl. Phys. Oehrlein 59 1587 1986 10.1063/1.336468
Wilmsen 1985 Physics and Chemistry of Compound III-V Semiconductor Interfaces
J. Appl. Phys. Messick 47 4949 1976 10.1063/1.322500
B. Morris Henry, US Patent No. 4200474, 1978.
J. Electrochem. Soc. Kozlowski 136 442 1989 10.1149/1.2096652
Thin Solid Films Lottiaux 170 107 1989 10.1016/0040-6090(89)90627-5
Thin Solid Films Yeung 109 405 1983 10.1016/0040-6090(83)90136-0
J. Vac. Sci. Technol. A Williams 1 1810 1983 10.1116/1.572220
Thin Solid Films Vorotilov 207 180 1992 10.1016/0040-6090(92)90120-Z
Thin Solid Films Gartner 234 561 1993 10.1016/0040-6090(93)90332-J
J. Appl. Phys. Suhail 71 3 1421 1992 10.1063/1.351264
Thin Solid Films Meng 223 242 1993 10.1016/0040-6090(93)90528-W
Thin Solid Films Meng 226 22 1993 10.1016/0040-6090(93)90200-9
J. Appl. Phys. Tang 75 4 2042 1994 10.1063/1.356306
Analele Stiint. Univ. ‘Al. I. Cuza’ Iasi (Ser. Noua) IB Fiz. Stamate XXXVIII/XXXIX 548 1993
Tareev 1975 Physics of dielectric materials
Stamate 1999 Ph.D Thesis
Rom. J. Optoelectron. Lazar 5 2 44 1997
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.