$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[해외논문] Assessment of high-k gate stacked In2O5Sn gate recessed channel MOSFET for x-ray radiation reliability 원문보기

Engineering research express, v.2 no.3, 2020년, pp.035017 -   

Kumar, Ajay

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

AbstractThis work reports the effect of x-ray radiation on In2O5Sn based Transparent Gate Recessed Channel (TGRC) MOSFET with the high-k dielectric at the sub-20 nm regime. Reliability of TGRC-MOSFET with a high-k dielectric in harsh radiation environment (x-ray radiation in the 1k to 10k rad dose r...

참고문헌 (23)

  1. IEEE Trans. Nucl. Sci. Allenspach 10.1109/23.556887 43 2927 1996 SEGR and SEB in n-channel power MOSFETs 

  2. IEEE Trans. Electron Devices Kumar 10.1109/TED.2018.2869536 65 5014 2018 Radiation analysis of N-channel TGRC-MOSFET: an x-ray dosimeter 

  3. IEEE Trans. Electron Devices Kumar 10.1109/TED.2018.2793853 65 860 2018 Reliability Issues of In2O5Sn gate electrode recessed channel MOSFET: impact of interface trap charges and temperature 

  4. Microsyst. Technol. Kumar 10.1007/s00542-015-2554-z 22 2665 2016 Analysis of novel transparent gate recessed channel (TGRC) MOSFET for improved analog behaviour 

  5. Superlattices Microstruct. Kumar 10.1016/j.spmi.2017.05.045 109 626 2017 Effect of trench depth and gate length shrinking assessment on the analog and linearity performance of TGRC-MOSFET 

  6. Superlattices Microstruct. Kumar 10.1016/j.spmi.2016.01.027 91 290 2016 Power gain assessment of ITO based transparent gate recessed channel (TGRC) MOSFET for RF/wireless applications 

  7. Semicond. Sci. Technol. Minami 10.1088/0268-1242/20/4/004 20 S35 2005 Transparent conducting oxide semiconductors for transparent electrodes 

  8. Xu 2016 10.1109/CAD-TFT.2016.7785039 Ambient effects on the light illumination stability of amorphous InGaZnO thin film transistors 

  9. Singh 2006 Indium Tin Oxide (ITO) films on flexible substrates for organic light emitting diodes 

  10. Solid-State Electronics. Murali 10.1016/j.sse.2007.03.012 51 823 2007 Modeling the effect of source/drain junction depth on bulk-MOSFET scaling 

  11. IEEE Trans. Nucl. Sci. Benedetto 10.1109/TNS.1986.4334599 33 1317 1986 The relationship between 60co and 10-kev x-ray damage in mos devices 

  12. Appl. Phys. Lett. Ausman 10.1063/1.88104 26 173 1975 Electron-hole pair creation energy in SiO2 

  13. IEEE Trans. Nucl. Sci. Oldham 10.1109/TNS.2003.812927 50 483 2003 Total ionizing dose effects in MOS oxides and devices 

  14. J. Comput.-Aided Mater. Des. Kawamoto 10.1023/A:1015011207910 8 39 2001 Perspectives paper: first principles modeling of high-k gate dielectrics 

  15. Mater. Today Lee 10.1016/S1369-7021(06)71541-3 9 32 2006 Gate stack technology for nanoscale devices 

  16. IEEE Electron Device Lett. Chau 10.1109/LED.2004.828570 25 408 2004 High-κ/metal-gate stack and its MOSFET characteristics 

  17. Superlattices Microstruct. Gupta 10.1016/j.spmi.2016.07.021 2016 Optimization of high-k and gate metal workfunction for improved analog and intermodulation performance of Gate Stack (GS)-GEWE-SiNW MOSFET 

  18. Osten 2000 10.1109/IEDM.2000.904404 High-k gate dielectrics with ultra-low leakage current based on praseodymium oxide 

  19. Chin. Phys. Xiao-Hua 10.1088/1009-1963/15/1/031 15 195 2006 Fabrication and characterization of groove-gate MOSFETs based on a self-aligned CMOS process 

  20. Berland 1991 Effect of x-ray radiation on MOSFET’s (SIMOX) LF excess noise 

  21. Mater. Sci. Semicond. Process. Kumar 10.1016/j.mssp.2020.105274 120 2020 Palladium-based trench gate MOSFET for highly sensitive hydrogen gas sensor 

  22. Vacuum Kumar 10.1016/j.vacuum.2019.02.054 164 46 2019 Sub-30 nm In2O5Sn gate electrode recessed channel MOSFET: a biosensor for early stage diagnostics 

활용도 분석정보

상세보기
다운로드
내보내기

활용도 Top5 논문

해당 논문의 주제분야에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

관련 콘텐츠

오픈액세스(OA) 유형

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로