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[국내논문] Study on the Physical Properties of Metal Thin Film Prepared on Plastic Frame
플라스틱 안경테에 증착한 금속 박막의 물성 변화에 관한 연구 원문보기

한국안광학회지 = Journal of Korean Ophthalmic Optics Society, v.24 no.3, 2019년, pp.279 - 286  

Ha, Byung-Ho ,  Lee, Ju-Hak ,  Jang, Dae-Kwang ,  Kim, Young-Mi ,  Jung, Yee-Rin ,  Kim, Ki-Hong

초록이 없습니다.

참고문헌 (15)

  1. 손진영, 이지은, 최경만, 배유환, 김기홍. Polyamide-66/Glass fiber 블렌드 조성물의 물리적 특성 및 안경테 소재로써의 적용성에 관한 연구. 한국안광학회지 = Journal of Korean Ophthalmic Optics Society, vol.18, no.4, 365-371.

  2. Obstfeld H. Spectacle frames and their dispensing, 1st Ed. Pennsylvania: W.B. Saunders, 1997;61-71. 

  3. Cho MG. A study on design development of eyewear for children. MA Thesis. Kookmin University, Seoul. 2010;25-27. 

  4. Hwang YH, Kim SS, Lee H, Min DK, Koh JH. Manufacturing Ti-alloy frames of glasses with high-precision laser beam welding. J Korea Acad Industr Coop Soc. 2000;1(2): 1-7. 

  5. Pulugurtha, S.R., Bhat, D.G., Gordon, M.H., Shultz, J.. Effect of substrate orientation on film properties using AC reactive magnetron sputtering. Surface & coatings technology, vol.202, no.4, 755-761.

  6. Park MC, Lee JG, Joo KB, Kim ES, Choi KH. Effect of oxygen in incorporation in the fabrication of TiN thin film for frame by UBM sputtering system. J Korean Ophthalmic Opt Soc. 2009;14(1):63-68. 

  7. Park JJ, Choe HC, Ko YM. Electrochemical characteristics of Cp-Ti and alloys coated with TiN, ZrN, and HA using RF-magnetron sputtering method. Kor J Dent Mater. 2007;34(4):351-359. 

  8. Kim JW, Kim HB. Electrical properties of the Al doped ZnO thin films fabricated by RF magnetron sputtering system with working pressure and oxygen contents. Journal of the Semiconductor & Display Technology. 2010;9(4):77-81. 

  9. 10.1117/12.471878 

  10. 김상지, 윤지언, 황동현, 이인석, 안정훈, 손영국. RF Magnetron Sputtering법으로 제작된 (Pb0.92La0.08)(Zr0.65Ti0.35)O3 박막의 Ar/O2 분압비에 따른 강유전 특성연구. 韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, vol.18, no.2, 141-146.

  11. 10.1007/978-4-431-54795-2_1 

  12. Lottiaux, M.. Morphology and structure of TiO2 thin layers vs. thickness and substrate temperature. Thin solid films, vol.170, no.1, 107-126.

  13. Koo JY, Kim DH. Measurement of weak forces in atomic force microscopy. Journal of the Korean Society of Precision Engineering. 2002;19(3):13-18. 

  14. Nahm KS. The analysis of plasma reactor for silicon etching in SF. Research Bulletin of Seoul National University of Technology. 1989;29(1):47-57. 

  15. Jung JK, Jung KH. Plasma etching. The Korean Institute of Electrical Engineers. 1993;42(10):43-49. 

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