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[해외논문] Resolution technology of lithography machine 원문보기

Journal of physics. Conference series, v.2221 no.1, 2022년, pp.012041 -   

Fang, Yuanxuan ,  He, Yunfei

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

AbstractPhotolithography is one of the core methods in the semiconductor industry for the mass production of integrated circuits (IC). It is also the driving force behind Moore’s Law, which predicts the number of transistors in an integrated circuit to double every two years. This paper aims t...

참고문헌 (35)

  1. Information recording materials Zou 16 36 2015 Development and application of photoresist [J] 

  2. science Qihong 69 32 2017 History and current situation of lithography technology [J] 

  3. Special equipment for electronic industry Ma 28 2008 Historical evolution of optical lithography [J] 

  4. Laser technology He 43 30 2019 Research progress of new lithography technology [J] 

  5. Ishihara 305 2006 Nanophotolithography based on surface plasmon interference. Nanoplasmonics - from Fundamentals to Applications 

  6. Biosensors Shamkhalichenar 10 159 2020 10.3390/bios10110159 Printed Circuit Board (PCB) Technology for Electrochemical Sensors and Sensing Platforms 

  7. Haldar 2019 10.1063/1.5113058 Development of a simple cost-effective maskless-photolithography system 

  8. Xiao 

  9. JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS Phuong 13 2004 Senior Member Photoresist Coating Methods for the Integration of Novel 3-D RF Microstructures 

  10. Duta 

  11. Dongxu Ren 

  12. Processing for Low-Cost Microstructures Fabrication without Cleanroom Facilities.Micromachines 2014 10.3390/mi5030738 5 738 

  13. Integrated Circuit Applications Qiantong 10.19339/j.issn.1674-2583.2021.09.001 38 1 2021 Analysis of the breakthrough path of my country’s lithography machine based on the development of the global industry of lithography machine[J] 

  14. Wireless Internet Technology Xia 15 110 2018 Global lithography machine development and localization of lithography equipment[J] 

  15. Electronics and Packaging Chao 10.16257/j.cnki.1681-1070.2017.0060 17 28 2017 Application of high-precision electron beam lithography in micro-nano processing[J] 

  16. Information Recording Materials Ying 10.16009/j.cnki.cn13-1295/tq.2019.05.099 20 158 2019 Preparation and characterization of Au wire grid array by electron beam lithography[J] 

  17. Surface Technology Junchen 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.03.021 50 219 2021 Research on the micromechanical properties of electron beam photoresist based on nano-scratches[J] 

  18. Solid-State Electronics Van de Kerkhof 155 20 2019 10.1016/j.sse.2019.03.006 Lithography for now and the future 

  19. Nanomanufacturing and Metrology Hasan 1 67 2018 10.1007/s41871-018-0016-9 Promising Lithography Techniques for Next-Generation Logic Devices 

  20. De Bisschop 2014 Impact of stochastic effects on EUV printability limits 

  21. Progress in laser and optoelectronics Qiongyan 13 2006 Research progress of immersion lithography [J] 

  22. Owa 6533 2007 Current status of water immersion lithography and prospect of higher index method [J] 

  23. Proceedings of SPIE.2003 Burnett 5040 1742 Measurement of the refractive index and thermo-opticcoefficient of water near 193 nm [J] 

  24. Comptes Rendus Physique Lin 7 858 2006 10.1016/j.crhy.2006.10.005 Optical lithography-present and future challenges 

  25. Awad 10.5772/intechopen.72699 

  26. Optical Review Shibuya 4 151 1997 10.1007/BF02931670 Resolution enhancement techniques for optical lithography and optical imaging theory 

  27. Hou 10.1109/CSTIC52283.2021.9461507 1 2021 Optical Proximity Correction, Methodology and Limitations 

  28. Boru 1997 Institute of Optoelectronics Technology, Academy of Sciences. The development of deep ultraviolet lithography [J] 

  29. Li 10.28723/n.cnki.nsjbd.2021.004651 Asim’s “Foresight”: the battle of lithography machines and the rise of the Chinese market [N] 

  30. Bingxin 10.28065/n.cnki.ncdzb.2021.001254 DUV lithography machine is very promising [N] 

  31. Control Engineering Enmin 10.14107/j.cnki.kzgc.20190021 28 1069 2021 Adaptive feedforward control applied to the mask stage of the lithography machine[J] 

  32. Xiaoyang 10.27005/d.cnki.gdzku.2021.002291 2021 

  33. Shandong industrial technology shunkui 10.16640/j.cnki.37-1222/t.2018.10.187 207 2018 Review and Reflection on the development of optical proximity effect correction technology [J] 

  34. IEEE Design&Test Comput Linxw 27 18 2010 10.1109/MDT.2010.48 Layout proximity effects and modeling alternatives for IC designs [J] 

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