[논문]The dependence of the surface roughness of aluminum nitride films on the processing methods when magnetron sputtering is used

Baranova, L; Strunin, V; Baysova, B

doi:10.1088/1742-6596/2270/1/012005

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[해외논문] The dependence of the surface roughness of aluminum nitride films on the processing methods when magnetron sputtering is used 원문보기

Journal of physics. Conference series, v.2270 no.1, 2022년, pp.012005 -

Baranova, L , Strunin, V , Baysova, B

Abstract ▼ AI-Helper

AbstractThe paper investigates the dependence of the surface roughness of aluminum nitride films on the modes of magnetron deposition. The paper shows the difference between the surfaces of polycrystalline aluminum nitride films on ceramized glass and silicon substrates grown under the same conditions. Atomic force microscopy was used to compare the surface roughness parameters of aluminum nitride obtained at different substrate temperatures and the power dissipation in the target. The optimal conditions for forming aluminum nitride films through magnetron sputtering have been determined.

참고문헌 (4)

Functional Materials Letters Gao 9 10 2016 10.1142/S1793604716300024 Recent developments of film bulk acoustic resonators

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Plasma Sources Sci. Technol. Danko 22 10 2013 10.1088/0963-0252/22/5/055009 A global model study of silane/hydrogen discharges

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Thin Solid Films Bosscher 351 15 1999 10.1016/S0040-6090(99)00149-2 Advances in magnetron sputter sources

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