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NTIS 바로가기Materials science forum, v.502, 2005년, pp.309 - 314
Tamai, Fujio (Industrial Technology Center of Saga) , Kawakami, Yuji (Industrial Technology Center of Saga)
This work is concerned with the proposition of high contrast multi-layer structure for the fabrication of reflecting surface in the visible range. The multi-layer SiO2/Ta2O5 system has superior heat resistance and reflecting properties. Ta2O5 and SiO2 thin films were prepared by RF plasma sputtering...
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2 Refractive index, n Deposited thin film Index of refraction at 630nm TiO2 Ta2O5.
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075.
045 Absorption at 630 nm Ta2O5 Doped 12wt% Bi2O3 Ta2O5 Doped 7wt% Bi2O3.
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000 Fig. 2 Refractive index of the as-deposited Ta2O5 thin films over the range 350 nm to 830. Table 2 Absorption and the refractive index (a) XRD patterns of Ta2O5 films (b) XRD patterns of Ta2O5 films doped 7wt% Bi2O3 Fig. 3 Patterns of XRD for the films after 973K annealing. 10.1016/s0040-6090(99)00019-x
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