[논문]Out-of-plane ellipsometry measurements of nanoparticles on surfaces for thin film coated wafer inspection

Liu, C.Y.; Liu, T.A.; Fu, W.E.

doi:10.1016/j.optlastec.2010.01.007

Out-of-plane ellipsometry measurements of nanoparticles on surfaces for thin film coated wafer inspection

Optics and laser technology, v.42 no.6, 2010년, pp.902 - 910

Liu, C.Y. (Center for Measurement Standards, Industrial Technology Research Institute, Hsinchu, Taiwan) , Liu, T.A. , Fu, W.E.

Abstract ▼ AI-Helper

Measurements of the diameter and size distribution of nanoparticles on wafers are critical parameters in the semiconductor industry, essential to control transistor quality and increase production rate. A goniometric optical scatter instrument (GOSI) has been developed that employs polarized light scattering to make measurements of the diameter and size distribution of nanoparticles on bare and thin film coated wafers. This scatter instrument is capable of distinguishing various types of optical scattering characteristics, which correspond to the diameters of the nanoparticles and thin film thickness, on or near the surfaces using the Mueller matrix calculation in Bobbert and Vlieger (1986) [1]. The experimental results of the GOSI system show good agreement with theoretical predictions for nanoparticles of diameter 100, 200, and 300nm on wafers coated with thin films of 2, 5, and 10nm thickness. These results demonstrate that the polarization of light scattered by nanoparticles can be used to determine the size of particulate contaminants on bare and thin film coated silicon wafers.

주제어

참고문헌 (23)

Physica A Bobbert 137 209 1986 10.1016/0378-4371(86)90072-5

상세보기
Stover 1995 Optical scattering: measurement and analysis
Hulst HCvd. Light scattering by small particles. Dover, New York, 1981.
Stover JC, editor. Optical scattering in the optics, semiconductor, and computer disk industries. Proceedings of SPIE, vol. 2541, 1995.
Appl Opt Fuller 25 2521 1986 10.1364/AO.25.002521

상세보기
J Opt Soc Am A Videen 8 483 1991 10.1364/JOSAA.8.000483

상세보기
J Opt Soc Am A Johnson 13 326 1996 10.1364/JOSAA.13.000326

상세보기
J Opt Soc Am A Videen 14 70 1997 10.1364/JOSAA.14.000070

상세보기
Appl Opt Sun 38 3141 1999 10.1364/AO.38.003141

상세보기
Opt Lett Germer 22 1284 1997 10.1364/OL.22.001284

상세보기
Appl Opt Germer 36 8798 1997 10.1364/AO.36.008798

상세보기
Rev Sci Instrum Germer 70 3688 1999 10.1063/1.1149950

상세보기
Opt Lett Sung 24 866 1999 10.1364/OL.24.000866

상세보기
Appl Opt Nahm 26 2995 1987 10.1364/AO.26.002995

상세보기
Xu 2000 Particle characterization: light scattering methods
Nairn 2005 Polymer characterization. In: Materials science and engineering 5473
Opt Eng Videen 31 341 1992 10.1117/12.56076

상세보기
SPIE Sung 3619 80 1999 10.1117/12.343715
Chen Y-C, Fu W-E. In: Proceedings of the 24th Asia-Pacific conference on transducers and micro-nano technology, 2008. p. 171.
Lin C-M, Fu W-E. In: Proceedings of the fourth Asia-Pacific conference on transducers and micro-nano technology, 2008. p. 201.
Opt Lett Azzam 2 148 1978 10.1364/OL.2.000148

상세보기
J Opt Soc Am A Goldstein 7 693 1990 10.1364/JOSAA.7.000693

상세보기
Am J Phys Bickel 53 468 1985 10.1119/1.14202

상세보기

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 논문명, 저널/프로시딩명, 저자 , 발행년, 권, 호, 시작페이지, 끝페이지, 발행기관 관리번호, 논문명, 대등논문명, 저자 , 저널/프로시딩명, 발행기관, 발행년, 발행언어, 권, 호, 시작페이지, 끝페이지, ISBN, ISSN, 주제분야, 키워드, 초록(한글), 초록(영문), 저자(소속기관)
저장형식	Text(ASCII format) Excel format RefWorks Direct Export RIS format (for Reference Manager, ProCite, EndNote), Scholar's Aids, Mendeley
메일정보	받는사람 (필수) @ 보내는사람 (선택) @ 제목 내용 KISTI 검색결과 이메일 서비스
안내	총 건의 자료가 검색되었습니다. 다운받으실 자료의 인덱스를 입력하세요. (1-10,000) 검색결과의 순서대로 최대 10,000건 까지 다운로드가 가능합니다. 데이타가 많을 경우 속도가 느려질 수 있습니다.(최대 2~3분 소요) 다운로드 파일은 UTF-8 형태로 저장됩니다. 파일의 내용이 제대로 보이지 않을실 때는 웹브라우저 상단의 보기 -> 인코딩 -> 자동선택 여부를 확인하십시오. ~ Text(ASCII format) Excel format

연합인증

Out-of-plane ellipsometry measurements of nanoparticles on surfaces for thin film coated wafer inspection

Abstract ▼ AI-Helper

주제어

참고문헌 (23)

이 논문을 인용한 문헌

관련 콘텐츠

원문 URL 링크

이 논문과 함께 이용한 콘텐츠

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트