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Study on advanced nanoscale near‐field photolithography

Scanning : the journal of scanning microscopies, v.32 no.6, 2010년, pp.351 - 360  

Yang, Ching‐Been ,  Chiang, Hsiu‐Lu ,  Huang, Jen‐Ching

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

AbstractAt present, applying a near‐field optical microscope to photolithographic line segment fabrication can only obtain nanoscale line segments of equal cutting depths, and cannot result in 3D shape fabrication. This study proposes an innovative line segment fabrication model of nearȁ...

참고문헌 (18)

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