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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | CN2018/111325 (2018-10-23) |
공개번호 | 2019/080820 (2019-05-02) |
우선권정보 | 201710995525.7 (2017-10-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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A photolithography method, a photolithography product and a photolithography material. The photolithography method comprises the following steps: 1) providing a first light (1) and a second light (2) to a photolithography material, and an effector molecule that may be controlled by a molecular switc
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