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NTIS 바로가기Diffusion and defect data. SSP. [Pt. B], Solid state phenomena, v.187, 2012년, pp.79 - 82
Hagimoto, Yoshiya (Sony Semiconductor Kyushu Corporation) , Tetsuka, Tomoki (Sony Semiconductor Kyushu Corporation) , Iwamoto, Hayato (Sony Semiconductor Kyushu Corporation) , Hyakutake, Hironobu (Tokyo Electron Kyushu Limited) , Tanaka, Hiroshi (Tokyo Electron Kyushu Limited)
Displacing the water remaining on a wafer surface by using condensed IPA improves the effectiveness of IPA-based drying techniques. Although this drying technology has been used for years, recent device technologies have needed extremely high-performance drying processes. We characterized an IPA ads...
K. Motai et al., Extended Abstracts of the 1997 International Conference on Solid State Devices and Materials, pg. 24 (1997).
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