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NTIS 바로가기Microelectronic engineering, v.98, 2012년, pp.159 - 162
Winroth, G. , Gronheid, R. , Kim, T.G. , Mertens, P.W.
Pattern collapse is one of the main contributors to photo resist pattern failure in high resolution optical and Extreme Ultra-Violet (EUV) lithography, and becomes progressively more prominent as the feature size is reduced and at smaller pitch. For resist development it is crucial to understand and...
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