[논문]Deposition temperature dependence of titanium oxide thin films grown by remote‐plasma atomic layer deposition

Lee, Jaesang; Lee, Seung Jae; Han, Won Bae; Jeon, Heeyoung; Park, Jingyu; Jang, Woochool; Yoon, Chong Seung; Jeon, Hyeongtag

doi:10.1002/pssa.201228671

Deposition temperature dependence of titanium oxide thin films grown by remote‐plasma atomic layer deposition

Physica status solidi. PSS. A, Applications and materials science, v.210 no.2, 2013년, pp.276 - 284

Lee, Jaesang (Department of Nano‐) , Lee, Seung Jae (scale Semiconductor Engineering, Hanyang University, Seoul 133‐) , Han, Won Bae (791, Korea) , Jeon, Heeyoung (Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul 133‐) , Park, Jingyu (791, Korea) , Jang, Woochool (Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul 133‐) , Yoon, Chong Seung (791, Korea) , Jeon, Hyeongtag (Department of Nano‐)

Abstract ▼ AI-Helper

AbstractTitanium dioxide (TiO2) thin films were deposited by remote‐plasma atomic layer deposition (RPALD). The process window was determined in the range from 150 to 300 °C for atomic layer deposition of TiO2 thin film. The crystal structure and grain size of the TiO2 thin films deposited by RPALD was controlled via the variations of the deposition temperature and post‐deposition thermal annealing. The as‐deposited TiO2 thin film grown at 150 °C was amorphous whereas the TiO2 thin films grown above 200 °C were polycrystalline, consisting of anatase phase. As the deposition temperature increased, the grain size of the anatase phase progressively decreased. Meanwhile, when annealed at 900 °C, the amorphous TiO2 thin film deposited at 150 °C crystallized into anatase structure. The film deposited at 200 °C retained the anatase structure up to 900 °C while incurring minimal grain growth. However, the post‐annealed TiO2 thin films deposited at 250 and 300 °C partially transformed to the rutile structure, resulting in a mixture of anatase and rutile phases. It is speculated that the relatively large grain size of the films deposited below 200 °C likely suppressed the anatase → rutile transformation during annealing as the reduction of total fraction of grains boundaries, which acted as primary nucleation sites for the rutile transition, delayed the anatase → rutile transformation.

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참고문헌 (37)

1 J.‐Z. Chen , W.‐Y. Ko , Y.‐C. Yen , P. H. Chen , and K.‐J. Lin , ACS Nano 6 , 6633 ( 2012 ).

상세보기
2 C. E. Kim and I. Yun , Appl. Surf. Sci. 258 , 3089 ( 2012 ).

상세보기
3 Q. Wu and R. V. D. Krol , J. Am. Chem. Soc. 134 , 9369 ( 2012 ).

상세보기
4 H. Kim , G. P. Kushto , C. B. Arnold , Z. H. Kafafi , and A. Pique , Appl. Phys. Lett. 85 , 464 ( 2004 ).

상세보기
5 L. Robben , A. A. Ismail , S. J. Lohmeier , A. Feldhoff , D. W. Bahnemann , and J.‐C. Buhl , Chem. Mater. 24 , 1268 ( 2012 ).

상세보기
6 D. Dambournet , I. Belharouak , and K. Amine , Chem. Mater. 22 , 1173 ( 2010 ).

상세보기
7 S. K. Kim , G.‐J. Choi , S. Y. Lee , M. Seo , S. W. Lee , J. H. Han , H.‐S. Ahn , S. Han , and C. S. Hwang , Adv. Mater. 20 , 1429 ( 2008 ).

상세보기
8 G. Liu , C. Sun , H. G. Yang , S. C. Smith , L. Wang , G. Q. Lu , and H.‐M. Cheng , Chem. Commun. 46 , 755 ( 2010 ).
9 N. Wu , J. Wang , D. N. Tafen , H. Wang , J.‐G. Zheng , J. P. Lewis , X. Liu , S. S. Leonard , and A. Manivannan , J. Am. Chem. Soc. 132 , 6679 ( 2010 ).

상세보기
10 N. Li , G. Liu , C. Zhen , F. Li , L. Zhang , and H.‐M. Cheng , Adv. Funct. Mater. 21 , 1717 ( 2011 ).

상세보기
11 R. Long and N. J. English , J. Phys. Chem. C 113 , 8373 ( 2009 ).

상세보기
12 J. S. Chen , Y. L. Tan , C. M. Li , Y. L. Cheah , D. Luan , S. Madhavi , F. Y. C. Boey , L. A. Archer , and X. W. Lou , J. Am. Chem. Soc. 132 , 6124 ( 2010 ).

상세보기
13 N. T. Nolan , M. K. Seery , and S. C. Pillai , J. Phys. Chem. C 113 , 16151 ( 2009 ).

상세보기
14 L.‐B. Di , X.‐S. Li , C. Shi , Y. Xu , D.‐Z. Zhao , and A.‐M. Zhu , J. Phys. D: Appl. Phys. 42 , 032001 ( 2009 ).
15 A. Amin , D. Kohl , and M. Wuttig , J. Phys. D: Appl. Phys. 43 , 405303 ( 2010 ).
16 H. Shin , D. K. Jeong , J. Lee , M. M. Sung , J. Kim , and J. Young , Adv. Mater. 16 , 1197 ( 2004 ).

상세보기
17 D. M. King , X. Du , A. S. Cavanagh , and A. W. Weimer , Nanotechnology 19 , 445401 ( 2008 ).

상세보기
18 M. Tallarida , D. Friedrich , M. Stadter , M. Michling , and D. Schmeisser , J. Nanosci. Nanotechnol. 11 , 8049 ( 2011 ).
19 H. Jeon and Y. Won , Appl. Phys. Lett. 93 , 124104 ( 2008 ).

상세보기
20 A. Rahtu and M. Ritala , Chem. Vap. Deposition 8 , 21 ( 2002 ).
21 S. K. Kim , W. Kim , K. Kim , C. S. Hwang , and J. Jeong , Appl. Phys. Lett. 85 , 4112 ( 2004 ).

상세보기
22 J. W. Lim , S. J. Yun , and J. Lee , Electrochem. Solid‐State Lett. 7 , F73 ( 2004 ).

상세보기
23 J. F. Moulder , W. F. Stickle , P. E. Sobol , and K. D. Bomben (eds.), Handbook of X‐ray Photoelectron Spectroscopy; A Reference Book of Standard Spectra for Identification and Interpretation of XPS Data ( Physical Electronics Inc. , Minnesota , 1995 ), p. 73 .
24 P. Stefanov , M. Shipochka , P. Stefchev , Z. Raicheva , V. Lazarova , and L. Spassov , J. Phys.: Conf. Ser. 100 , 012039 ( 2008 ).
25 S. Monti , V. Carravetta , C. Battocchio , G. Iucci , and G. Polzonetti , Langmuir 24 , 3205 ( 2008 ).

상세보기
26 A. Iwabuchi , C. Choo , and K. Tanaka , J. Phys. Chem. B 108 , 10863 ( 2004 ).
27 E. McCafferty and J. P. Wightman , Surf. Interface Anal. 26 , 549 ( 1998 ).

상세보기
28 E. Fisicaro , M. Visca , F. Garbassi , and E. M. Ceresa , J. Phys. Chem. 74 , 4160 ( 1970 ).
29 R. Sanjines , H. Tang , F. Berger , F. Gozzo , G. Margaritonto , and F. Levy , J. Appl. Phys. 75 , 2945 ( 1994 ).

상세보기
30 G. N. Riakar , J. C. Gregory , J. L. Ong , L. C. Lucas , J. E. Lemons , D. Kawahara , and M. Nakamura , J. Vac. Sci. Technol. 13 , 2633 ( 1995 ).
31 W. Yang and C. A. Wolden , Thin Solid Films 515 , 1708 ( 2006 ).

상세보기
32 T. Morimoto , M. Nagao , and F. Tokuda , J. Phys. Chem. 73 , 243 ( 1969 ).
33 P. M. Kumar , S. Badrinarayanan , and M. Sastry , Thin Solid Films 358 , 122 ( 2000 ).

상세보기
34 M. A. Henderson , Surf. Sci. Rep. 46 , 1 ( 2002 ).

상세보기
35 R. Hilfer and P. Meakin , Z. Phys. B 88 , 223 – 2229 ( 1992 ).
36 H. Zhang and J. F. Banfield , Am. Mineral. 84 , 528 ( 1999 ).

상세보기
37 H. Zhang and J. F. Banfield , J. Mater. Res. 15 , 437 ( 2000 ).

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