[논문]Ohmic Contacts to N-Face p-GaN Using Ni/Au for the Fabrication of Polarization Inverted Light-Emitting Diodes

Han, Seung Cheol; Kim, Jae-Kwan; Kim, Jun Young; Lee, Dong Min; Yoon, Jae-Sik; Kim, Jong-Kyu; Schubert, E. F.; Lee, Ji-Myon

doi:10.1166/jnn.2013.7072

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[해외논문] Ohmic Contacts to N-Face p-GaN Using Ni/Au for the Fabrication of Polarization Inverted Light-Emitting Diodes

Journal of nanoscience and nanotechnology, v.13 no.8, 2013년, pp.5715 - 5718

Han, Seung Cheol , Kim, Jae-Kwan , Kim, Jun Young , Lee, Dong Min , Yoon, Jae-Sik , Kim, Jong-Kyu , Schubert, E. F. , Lee, Ji-Myon

Abstract ▼ AI-Helper

The electrical properties of Ni-based ohmic contacts to N-face p-type GaN were investigated. The specific contact resistance of N-face p-GaN exhibits a linear decrease from 1.01 omega cm2 to 9.05 x 10(-3) omega cm2 for the as-deposited and the annealed Ni/Au contacts, respectively, with increasing annealing temperature. However, the specific contact resistance could be decreased down to 1.03 x 10(-4) omega cm2 by means of surface treatment using an alcohol-based (NH4)2S solution. The depth profile data measured from the intensity of O1s peak in the X-ray photoemission spectra showed that the alcohol-based (NH4)2S treatment was effective in removing the surface oxide layer of GaN.

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