UV/TiO2/HAP 시스템에서 Sulfamethoxazole의 흡착과 광촉매반응에 대한 동역학적 및 통계적 해석 Kinetic and Statistical Analysis of Adsorption and Photocatalysis on Sulfamethoxazole Degradation by UV/TiO2/HAP System
항생제는 환경에 지속적인 노출과 저항성으로 인해 우려물질로 간주되고 있다. 항생제의 제한적인 생분해능에 따른 하수처리장에서의 불완전한 제거와 광범위한 사용으로 인해 상대적으로 많은 양이 환경에 방류되고 있는 실정이다. 이에 본 연구에서는 다양한 촉매(Titanium dioxide; TiO<SUB>2</SUB>, Hydroxyapatite; HAP)를 통해 항생제의 하나인 sulfamethoxazole의 동역학적 흡착과 광촉매반응에 대해 연구하였으며, 부가적으로 통계적 분석방법인 반응표면법(RSM)을 이용하여 UV/TiO<SUB>2</SUB>/HAP 시스템에서의 운전인자의 영향을 살펴보았다. 동역학적 연구결과로 TiO<SUB>2</SUB>/HAP의 흡착반응은 유사 2차 반응을 따르는 것으로 나타났으며, 입자내 확산 모델의 적용 결과, 반응속도 상수는 각각 TiO<SUB>2</SUB>=0.0641min<SUP>-1</SUP>, HAP=0.2866min<SUP>-1</SUP>와 TiO<SUB>2</SUB>/HAP=0.3708min<SUP>-1</SUP>으로 나타났다. RSM의 결과로는 ANOVA에서의 회귀항의 유의성이 나타났으며(P-value<0.05) 높은 결정계수 값(R<SUP>2</SUP>=96.2%, R<SUP>2</SUP><SUB>Adj</SUB>=89.3%)이 나타나 이차 회귀모델의 예측이 만족스러운 것으로 관찰되었다. 그리고 Y(SMX 제거율, %)에 대해 예측된 최적 조건들은 코드화된 인자 기준으로 각각 x1(SMX의 초기농도)=-0.7828, x2(촉매의 양)=0.9974 그리고 x3(반응시간)=0.5738로 나타났다. 입자내 확산 모델과 광촉매 산화 반응의 결과에 따르면 TiO<SUB>2</SUB>/HAP 공정이 일반적인 고도산화공정에 비해 효율적인 것으로 관찰되었다.
항생제는 환경에 지속적인 노출과 저항성으로 인해 우려물질로 간주되고 있다. 항생제의 제한적인 생분해능에 따른 하수처리장에서의 불완전한 제거와 광범위한 사용으로 인해 상대적으로 많은 양이 환경에 방류되고 있는 실정이다. 이에 본 연구에서는 다양한 촉매(Titanium dioxide; TiO<SUB>2</SUB>, Hydroxyapatite; HAP)를 통해 항생제의 하나인 sulfamethoxazole의 동역학적 흡착과 광촉매반응에 대해 연구하였으며, 부가적으로 통계적 분석방법인 반응표면법(RSM)을 이용하여 UV/TiO<SUB>2</SUB>/HAP 시스템에서의 운전인자의 영향을 살펴보았다. 동역학적 연구결과로 TiO<SUB>2</SUB>/HAP의 흡착반응은 유사 2차 반응을 따르는 것으로 나타났으며, 입자내 확산 모델의 적용 결과, 반응속도 상수는 각각 TiO<SUB>2</SUB>=0.0641min<SUP>-1</SUP>, HAP=0.2866min<SUP>-1</SUP>와 TiO<SUB>2</SUB>/HAP=0.3708min<SUP>-1</SUP>으로 나타났다. RSM의 결과로는 ANOVA에서의 회귀항의 유의성이 나타났으며(P-value<0.05) 높은 결정계수 값(R<SUP>2</SUP>=96.2%, R<SUP>2</SUP><SUB>Adj</SUB>=89.3%)이 나타나 이차 회귀모델의 예측이 만족스러운 것으로 관찰되었다. 그리고 Y(SMX 제거율, %)에 대해 예측된 최적 조건들은 코드화된 인자 기준으로 각각 x1(SMX의 초기농도)=-0.7828, x2(촉매의 양)=0.9974 그리고 x3(반응시간)=0.5738로 나타났다. 입자내 확산 모델과 광촉매 산화 반응의 결과에 따르면 TiO<SUB>2</SUB>/HAP 공정이 일반적인 고도산화공정에 비해 효율적인 것으로 관찰되었다.
Antibiotics have been considered emerging compounds due to their continuous input and persistence in environment. Due to the limited biodegradability and widespread use of these antibiotics, an incomplete removal is attained in conventional wastewater treatment plants and relative large quantities...
Antibiotics have been considered emerging compounds due to their continuous input and persistence in environment. Due to the limited biodegradability and widespread use of these antibiotics, an incomplete removal is attained in conventional wastewater treatment plants and relative large quantities are released into the environment. In this study, it was determined the adsorption and photocatalysis kinetics of antibiotics (Sulfamethoxazole, SMX) with various catalyst (Titanium dioxide; TiO2, Hydroxyapatite; HAP) conditions under UV/TiO2/HAP system. In addition, the statistical analysis of response surface methods (RSM) was used to determine the effects of operating parameters on UV/TiO2/HAP system. TiO2/HAP adsorbent were found to follow the pseudo second order reaction in the adsorption. In the result of applied intrapaticle diffusion model, the constants of reaction rate were TiO2=0.0641min-1, HAP=0.2866min-1 and TiO2/HAP=0.3708min-1, respectively.The result of RSM, term of regression analysis in analysis of variance (ANOVA) showed significantly p-value (p<0.05) and high coefficients for determination values(R2=96.2%, R2Adj=89.3%) that allowed satisfactory prediction of second order regression model. And the estimated optimal conditions for Y(Sulfamethoxazole removal efficiency, %) were x1(initial concentration of Sulfamethoxazole)=-0.7828, x2(amount of catalyst)=0.9974 and x3(reation time)=0.5738 by coded parameters, respectively. According to the result of intraparticle diffusion model and photocatalysis experiments, it was shown that the TiO2/HAP was more effective system than conventional AOPs(advanced oxidation processes, UV/TiO2 system).
Antibiotics have been considered emerging compounds due to their continuous input and persistence in environment. Due to the limited biodegradability and widespread use of these antibiotics, an incomplete removal is attained in conventional wastewater treatment plants and relative large quantities are released into the environment. In this study, it was determined the adsorption and photocatalysis kinetics of antibiotics (Sulfamethoxazole, SMX) with various catalyst (Titanium dioxide; TiO2, Hydroxyapatite; HAP) conditions under UV/TiO2/HAP system. In addition, the statistical analysis of response surface methods (RSM) was used to determine the effects of operating parameters on UV/TiO2/HAP system. TiO2/HAP adsorbent were found to follow the pseudo second order reaction in the adsorption. In the result of applied intrapaticle diffusion model, the constants of reaction rate were TiO2=0.0641min-1, HAP=0.2866min-1 and TiO2/HAP=0.3708min-1, respectively.The result of RSM, term of regression analysis in analysis of variance (ANOVA) showed significantly p-value (p<0.05) and high coefficients for determination values(R2=96.2%, R2Adj=89.3%) that allowed satisfactory prediction of second order regression model. And the estimated optimal conditions for Y(Sulfamethoxazole removal efficiency, %) were x1(initial concentration of Sulfamethoxazole)=-0.7828, x2(amount of catalyst)=0.9974 and x3(reation time)=0.5738 by coded parameters, respectively. According to the result of intraparticle diffusion model and photocatalysis experiments, it was shown that the TiO2/HAP was more effective system than conventional AOPs(advanced oxidation processes, UV/TiO2 system).
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